晶闸管行业概况分析

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1、晶闸管行业概况分析一、 晶闸管行业概况晶闸管作为一种技术相对成熟的产品,其市场成长性趋于稳定。此外,晶闸管作为唯一可用于控制交流电的半导体开关器件,相比于机械继电器具有开关不打火、工作无噪音、寿命长、运行可靠等特点,被广泛的使用于比如马达控制、加热控制、交流直流变换、电路保护等应用场景,在交流电控制的应用中将会长期被使用。相比于碳化硅功率器件,二者在应用领域方面有所不同,晶闸管主要应用于低频领域,碳化硅功率器件主要应用于高频领域。中国高端晶闸管的性价比优势凸显。在产品性能方面,虽然高端晶闸管市场长期被境外企业占领,但以瑞能半导为代表的中国高端晶闸管性能已具备与国际同类产品竞争的实力,并在美的、

2、海尔等终端用户的产品中实现进口替代;在生产成本方面,国内晶闸管生产企业拥有有效的技术成果转化机制,配合新材料应用、生产工艺优化、先进设备投入、人员操作技能提高等积极因素,生产成本得到有效控制,单位芯片和器件的成本降低,销售价格也相对偏低,与国际同类晶闸管产品相比,在国内和国际市场上具有更加突出的性价比优势。二、 光刻胶:半导体工艺核心材料,道阻且长光刻胶是光刻工艺最重要的耗材。光刻胶是一种通过特定光源照射下发生局部溶解度变化的光敏材料,主要作用于光刻环节,承担着将掩模上的图案转化到晶圆的重要功能。进行光刻时,硅片上的金属层涂抹光刻胶,掩膜上印有预先设计好的电路图案,光线透过掩膜照射光刻胶。如果

3、曝光在紫外线下的光刻胶变为溶剂,清除后留下掩膜上的图案,此为正性胶,反之为负性胶。(一)先进制程推动产品迭代,半导体光刻胶壁垒最高光刻胶可以根据曝光光源波长、显示效果和化学结构三种方式进行分类。根据曝光波长的不同,目前市场上应用较多的光刻胶可分为g线、i线、KrF、ArF和EUV5种类型。光刻胶波长越短,加工分辨率越高,不同的集成电路工艺在光刻中对应使用不同波长的光源。随着芯片制程的不断进步,每一代新的光刻工艺都需要新一代的光刻胶技术与之相匹配。g/i线光刻胶诞生于20世纪80年代,当时主流制程工艺在08-12m,适用于波长436nm的光刻光源。到了90年代,制程进步到035-05m,对应波长

4、更短的365nm光源。当制程发展到035m以下时,g/i线光刻胶已经无法制程工艺的需求,于是出现了适用于248纳米波长光源的KrF光刻胶,和193纳米波长光源的ArF光刻胶,两者均是深紫外光刻胶。EUV(极紫外光)是目前最先进的光刻胶技术,适用波长为135nm的紫外光,可用于10nm以下的先进制程,目前仅有ASML集团掌握EUV光刻胶所对应的光刻机技术。根据显示效果的不同,光刻胶可分为正性和负性。如果光刻胶是正性的,在特定光线照射下光刻胶会发生反应并变成溶剂,曝光部分的光刻胶可以被清除。如果为负性光刻胶,曝光的光刻胶反应不再是溶剂,未曝光的光刻胶被清除。光分解型光刻胶采用含有重氮醌类化合物材料

5、作为感光剂,光线照射后发生光分解反应,由油性变为水性溶剂,可制造正性光刻胶。光交联型光刻胶采用聚乙烯醇月桂酸酯作为光敏材料,光线照射后形成一种网状结构的不溶物,可起到抗蚀作用,适用于制成负性光刻胶。化学放大型光刻胶使用光致酸剂作为光引发剂,光线照射后,曝光区域的光致酸剂会产生一种酸,并在后热烘培工序期间作为催化剂移除树脂的保护基团,使树脂变得可溶。化学放大光刻胶对深紫外光源具有良好的光敏性,具有高对比度、分辨率等优点。(二)光刻胶市场稳定增长,ArFi占比最高半导体光刻胶市场增速稳定。伴随芯片制程工艺的升级,光刻胶市场需求量也随之增加。根据TECHECT数据,2021年全球光刻胶市场规模约为1

6、9亿美元,同比增长11%,预计2022年将达到2134亿美元,同比增长1232%。具体来看,在7nm制程的EUV技术成熟之前,ArFi光刻胶仍是市场主流,占比高达368%,KrF和g/i光刻胶分别占比为358%和147%。(三)多重因素构筑壁垒,日企垄断高端市场1、工艺壁垒光刻胶多用于微米和纳米级别的图形加工,因此产品品质要求极高,微粒子及金属离子含量极低,制造工艺复杂,研发和生产都有较高的技术壁垒。此外,因为应用需求众多,光刻胶品类也很多,因此需要通过调整光刻胶的配方以满足对应的需求。2、配套光刻机光刻胶需要通过相应的光刻机进行测试和调整,目前仅有荷兰ASML集团有能力制造光刻机,但对我国实

7、施技术封锁。国内仅有一家企业可制造光刻机,且技术水准与ASML集团仍有较大差距。3、原材料壁垒光刻胶是主要由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂及其他助剂形成的溶液。其中树脂和光引发剂是光刻胶最核心的部分,树脂决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性,光引发剂则决定了光刻胶的感光度、分辨率。目前上游原材料主要被陶氏杜邦、富士胶片等日韩美企业垄断。4、客户认证壁垒由于光刻胶的品质会直接影响芯片性能、良率等,试错成本高,客户验证需要经过PRS(基础工艺考核)、STR(小批量试产)、MSTR(中批量试产)、RELEASE(量产)四个阶段,验证周期在两年以上。日本企业龙头地位稳固,CR5高达80%。全球

8、半导体光刻胶2021年行业前六家企业占比约为88%,市场集中度高。日本东京应化、日本JSR、日本住友化学、日本富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%市场份额,美国陶氏杜邦占据17%的市场份额,韩国东进占据11%的市场份额。三、 半导体政策大基金一期主要投向半导体产业中游,包括制造、设计、封测的行业龙头企业,成效显著。2015年我国集成电路销售额为3610亿元,同比增197%,完成目标,2016-2017年也维持了20%以上的增速,发展势头良好。同时我国在晶圆制造、特色工艺、晶圆封装与关键设备和材料等领域也取得了累累硕果,第一阶段的目标基本完成。大基金二期将更多投向上游和下游,

9、瞄准设备、材料等薄弱环节的细分龙头企业。投资风格也更加灵活多变,不仅投资行业龙头企业,还会与龙头企业共同投资设立合资子公司。四、 日韩厂商高度垄断,国内厂商加速突破前五大制造商格局稳定,外资垄断现象持续。据SEMI数据,2020年全球前五大硅片制造商分别为日本信越化学、环球晶圆、德国世创、SUMCO和韩国SKSiltron,共占据866%的市场份额。国内市场在大尺寸硅片上对外资企业依然具有依赖性,主要进口地区为日本、中国台湾和韩国。国产厂商加大研发投入,加速实现。由于硅片供应紧缺,海外大厂会优先保障海外晶圆厂硅片供给,给国内硅片厂带来了加速替代的机遇。国内供应商产品技术水平快速提升,国内晶圆厂

10、对国产半导体材料的验证及导入正在加快,如沪硅产业、立昂微、中环股份等企业已顺利通过验证。中国大陆硅片整体产能加大投入,加速追赶国际龙头厂商。五、 中国为全球最大半导体市场,国产化提升大势所趋复盘半导体行业发展历史,共经历三次转移。第一次转移:1973年爆发石油危机,欧美经济停滞,日本趁机大力发展半导体行业,实施超大规模集成电路计划。1986年,日本半导体产品已经超越美国,成为全球第一大半导体生产大国;第二次转移:20世纪90年度,日本经济泡沫破灭,韩国通过技术引进实现DRAM量产。与此同时,半导体厂商从IDM模式向设计+制造+封装模式转变,催生代工厂商大量兴起,以台积电为首的中国台湾厂商抓住了

11、半导体行业垂直分工转型机遇;第三次转移:2010年后,伴随国内手机厂商崛起、贸易摩擦背景下国家将集成电路的发展上升至国家战略,半导体产业链逐渐向国内转移。中国为全球最大半导体市场,占比约1/3。随着中国经济的快速发展,在手机、PC、可穿戴设备等消费电子,以及新能源、物联网、大数据等新兴领域的快速推动下,中国半导体市场快速增长。据WSTS数据显示,2021年全球半导体销售达到5559亿美元,而中国仍然为全球最大的半导体市场,2021年销售额为1925亿美元,占比346%。国产化率极低,提升自主能力日益紧迫。近年来,随着产业分工更加精细化,半导体产业以市场为导向的发展态势愈发明显。从生产环节来看,

12、制造基地逐步靠近需求市场,以减少运输成本;从产品研发来看,厂商可以及时响应用户需求,加快技术研发和产品迭代。我国作为全球最大的半导体消费市场,半导体封测经过多年发展在国际市场已经具备较强市场竞争力,而在集成电路设计和制造环节与全球领先厂商仍有较大差距,特别是半导体设备和材料。SIA数据显示,2020年国内厂商在封测、设计、晶圆制造、材料、设备的全球市占率分别为38%、16%、16%、13%、2%,半导体材料与设备的重要性日益凸显。六、 光刻胶供应紧张,正当时目前国内从事半导体光刻胶研发和生产的企业包括晶瑞股份、南大光电、上海新阳、北京科华等。主要以i/g线光刻胶生产为主,应用集成电路制程350

13、nm以上。KrF光刻胶方面,北京科华、徐州博康已实现量产。南大光电ArF光刻胶产业化进程相对较快,公司先后承担国家02专项高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目和ArF光刻胶产品的开发和产业化项目,也是第一家ArF光刻胶通过国内客户产品验证的公司,其他国内企业尚处于研发和验证阶段。七、 细分领域(一)汽车电子汽车半导体按种类可分为MCU、功率半导体(IGBT、MOSFET等)、传感器及其他。随着新能源车技术提升,相关半导体芯片需求逐渐提升。ICInsights预测,未来MCU出货量将持续上升,车规级MCU市场将在2020年接近460亿元,2025年将达700亿元,单位出货量将以11

14、1复合增长率增长。IHSMarkit预测,全球功率半导体市场规模将从2018年的391亿美元增长至2021年的441亿美元,年化增速为41%。据Yole统计,2019年全球CIS市场规模170亿美元,预计2024年全球CIS市场规模将达到240亿美元,年化增速7%。(二)手机产业射频芯片受下游5G手机创新量价齐升。根据Skyworks预测,到2020年5G应用支持的频段数量将实现翻番,新增50个以上通信频段,某些高端手机滤波器的数量到2020年甚至可100只。Yole预测2017年射频前端市场规模为147亿美元,2023年射频前端的市场规模将达341亿美元,复合增速14%。八、 半导体行业发展情况半导体行业是电子信息产业的基础支撑,主要分为集成电路、分立器件、传感器和光电子器件等四大类,广泛应用于5G通信、计算机、云计算、大数据、物联网等下游终端应用市场,是现代经济社会中的战略性、基础性和先导性产业。自半导体核心元器件晶体管诞生以来,半导体行业遵循着摩尔定律快速发展。2013年到2018年,全球半导体市场规模从3,056亿美元迅速提升至4,688亿美元,年均复合增长率达到893%。

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