《宜春负性光刻胶项目建议书【范文】》由会员分享，可在线阅读，更多相关《宜春负性光刻胶项目建议书【范文】（124页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、泓域咨询/宜春负性光刻胶项目建议书目录第一章 背景及必要性8一、 光刻工艺的影响因素8二、 “半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶9三、 聚4-羟基苯乙烯（PHOST）10四、 坚持强攻工业，加快构建现代特色产业体系11五、 项目实施的必要性13第二章 绪论14一、 项目名称及项目单位14二、 项目建设地点14三、 可行性研究范围14四、 编制依据和技术原则14五、 建设背景、规模15六、 项目建设进度16七、 环境影响17八、 建设投资估算17九、 项目主要技术经济指标17主要经济指标一览表18十、 主要结论及建议19第三章 产品规划方案21一、 建设规模及主要建设内容21二、 产品规划方案及生产
2、纲领21产品规划方案一览表22第四章 选址方案23一、 项目选址原则23二、 建设区基本情况23三、 做活县域经济26四、 扩大对外开放，着力打造赣西开放门户26五、 项目选址综合评价27第五章 建筑工程说明28一、 项目工程设计总体要求28二、 建设方案29三、 建筑工程建设指标32建筑工程投资一览表33第六章 运营模式分析35一、 公司经营宗旨35二、 公司的目标、主要职责35三、 各部门职责及权限36四、 财务会计制度39第七章 SWOT分析46一、 优势分析（S）46二、 劣势分析（W）48三、 机会分析（O）48四、 威胁分析（T）49第八章 发展规划53一、 公司发展规划53二、
3、保障措施59第九章 劳动安全生产61一、 编制依据61二、 防范措施64三、 预期效果评价66第十章 人力资源配置68一、 人力资源配置68劳动定员一览表68二、 员工技能培训68第十一章 建设进度分析70一、 项目进度安排70项目实施进度计划一览表70二、 项目实施保障措施71第十二章 原辅材料成品管理72一、 项目建设期原辅材料供应情况72二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理72第十三章 环境保护方案73一、 编制依据73二、 建设期大气环境影响分析74三、 建设期水环境影响分析75四、 建设期固体废弃物环境影响分析75五、 建设期声环境影响分析75六、 环境管理分析76七、 结论78八
4、、 建议78第十四章 节能分析79一、 项目节能概述79二、 能源消费种类和数量分析80能耗分析一览表80三、 项目节能措施81四、 节能综合评价82第十五章 项目投资计划83一、 编制说明83二、 建设投资83建筑工程投资一览表84主要设备购置一览表85建设投资估算表86三、 建设期利息87建设期利息估算表87固定资产投资估算表88四、 流动资金89流动资金估算表90五、 项目总投资91总投资及构成一览表91六、 资金筹措与投资计划92项目投资计划与资金筹措一览表92第十六章 经济效益评价94一、 基本假设及基础参数选取94二、 经济评价财务测算94营业收入、税金及附加和增值税估算表94综合
5、总成本费用估算表96利润及利润分配表98三、 项目盈利能力分析99项目投资现金流量表100四、 财务生存能力分析102五、 偿债能力分析102借款还本付息计划表103六、 经济评价结论104第十七章 风险风险及应对措施105一、 项目风险分析105二、 项目风险对策107第十八章 项目综合评价说明110第十九章 附表附录112主要经济指标一览表112建设投资估算表113建设期利息估算表114固定资产投资估算表115流动资金估算表116总投资及构成一览表117项目投资计划与资金筹措一览表118营业收入、税金及附加和增值税估算表119综合总成本费用估算表119利润及利润分配表120项目投资现金流量
6、表121借款还本付息计划表123报告说明从大基金一期的投资细分方向来看，一期主要侧重于晶圆代工、设计和封测等主要的产业大环节的投资布局，而对半导体材料和设备则投资较少。同时大基金关注产业链各环节龙头企业，优先帮助产业链龙头企业成长，加速国内半导体领先技术的孕育催化。大基金二期的投资方向主要集中于设备和材料，大基金总裁丁文武在2020年半导体集成电路零部件峰会表示，大基金二期将从3个方面重点支持国产设备与材料发展：（1）将对在刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域已布局的企业保持高强度的支持；（2）加快开展光刻机、化学机械研磨设备等核心设备以及关键零部件的投资布局；（3）督促制造企业提高国产
7、装备验证及采购比例，为更多国产设备、材料提供工艺验证条件。根据谨慎财务估算，项目总投资43401.68万元，其中：建设投资32703.91万元，占项目总投资的75.35%；建设期利息896.40万元，占项目总投资的2.07%；流动资金9801.37万元，占项目总投资的22.58%。项目正常运营每年营业收入96700.00万元，综合总成本费用79501.50万元，净利润12576.04万元，财务内部收益率21.73%，财务净现值14509.58万元，全部投资回收期5.93年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。项目产品应用领域广泛，市场发展空间大。本项目的建立投资合
8、理，回收快，市场销售好，无环境污染，经济效益和社会效益良好，这也奠定了公司可持续发展的基础。本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 背景及必要性一、 光刻工艺的影响因素在现代半导体光刻工艺中，光源从紫外宽谱（300-450nm）向特定波长光源发展，从436nm的汞灯g线可见光发展到365nm的汞灯i线中的紫外光，再发展到248nm的氟化氪（KrF）及193nm的氟化氩（ArF）准分子激光。在KrF和ArF准分子激光光源后，还曾有对于以氟气分子（F2）为激光媒介的准分子激光器作为光源的探究，该光源的波长为1
9、57nm，但由于浸没式193nm光刻技术研发的成功，157nm光刻技术很快就被抛弃。在通过浸没式光刻和多重曝光技术将193nm光刻推向极致后，13.5nm极紫外（EUV）光刻技术的到来又进一步使得更高的分辨率成为可能。另外除可见光及紫外光以外，电子束、X射线、离子束等也都可作为曝光光源进行使用，目前利用X射线和离子束作为曝光光源的技术还处于研究阶段，未能得到商用。电子束光刻虽然能够得到极高的分辨率，但是该技术由于自身工艺的限制等原因无法高效地进行大规模量产，因而通常被用来制作光刻工艺中所需的掩膜版。在传统的干法光刻工艺中，光在光刻镜头与光刻胶之间的传播介质是空气，因此最大的数值孔径为1.0，也
10、就是光线和光轴的最大张角为90，分辨率在NA=1.0时就达到了极限。而浸没式光刻（也称为湿法光刻）其光刻镜头和光刻胶之间被填充了水（折射率大于空气），因此光能够以更大角度在光刻胶中成像，也就是等效于更加大的数值孔径，由此进一步提高了光刻工艺的分辨率。其实浸没式成像技术最早于19世纪就被提出来了，其目的是提高光学显微镜的分辨率。而这项技术真正大规模应用到现代光刻工艺中是在2007-2009年间，随着荷兰ASML公司推出数值孔径为1.35NA的XT1900i系列光刻机，193nm浸没式光刻才真正地接替193nm干法光刻。随后，再叠加一些辅助的光刻技术，比如分辨率增强技术（RET）、偏振照明、自定义
11、照明、双/多重曝光（多重图案化技术）、自对准空间频率倍增、单方向布线设计等技术，一同推动193nm浸没式光刻技术一直延续到了10nm、7nm的半导体工艺节点。二、 “半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶伴随着光刻工艺的不断发展，光刻用化学品也在飞速发展，主要的光刻用化学品包括有光刻胶、抗反射层、溶剂、显影液、清洗液等。在这些化学品中，光刻胶凭借其复杂且精准的成分组成具有最高的价值，也是整个半导体制造工艺中最为关键的材料之一，有着“半导体材料皇冠上的明珠”之称。组成成分：光刻胶主要由成膜树脂、溶剂、感光剂（光引发剂、光致产酸剂）、添加剂（表面活性剂、匀染剂等）等部分组成。典型的光刻胶成分中，50%90
12、%是溶剂，10%40%是树脂，感光剂占1%8%，表面活性剂、匀染剂及其他添加剂占比则不到1%。分类标准：对于半导体光刻胶的分类有多种标准，常用的分类标准包括有：（1）以曝光后光刻胶在显影液中的溶解度变化分为正性光刻胶和负性光刻胶；（2）针对正性光刻胶以是否使用化学放大（ChemicallyAmplified）机制可分为化学放大型光刻胶和非化学放大型光刻胶；（3）以所使用的光刻工艺可分为紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子束光刻胶等。三、 聚4-羟基苯乙烯（PHOST）聚4-羟基苯乙烯（PHOST）因其在248nm波长下的透明性、高灵敏度和抗刻蚀
13、性等优势，成为了用于KrF光刻技术的光刻胶的主要成分。通过引入不同的酸致脱保护基团，在光致产酸剂的配合下就可以使得KrF光刻胶拥有一定的光响应性，从而在光照条件下发生聚合物的溶解度变化。常见的酸致脱保护基团包括4-叔丁基氧基羰基（t-BOC）类、酯类和乙缩醛类三种。目前主流的KrF化学放大型正性光刻胶往往是具有多种取代基团的共聚物，通过调节聚合物整体的分子量和带有不同取代基团单体的配比来调节光刻胶的性能。根据KrF光刻胶的活化能，可以将KrF光刻胶分为高活化能胶（俗称高温胶，如ESCAP）和低活化能胶（低温胶，如乙缩醛类）。高温胶和低温胶因脱保护的温度差异，导致了比较明显的性能差异。此外，由于
14、空气中存在有一定量的碱性分子，在KrF光刻胶曝光后，光刻胶会接触空气导致曝光后所产生的光酸会被空气中的碱性成分中和掉，最终会造成光刻胶灵敏度的大幅度变化，这一现象被称为曝光到显影的时间延迟问题（PED）。为了解决这一问题，工业界除了采取在洁净室、光刻机等关键地方安装化学成分过滤器以外，还可以通过在光刻胶表面涂布一层保护层来隔绝空气中的碱性物质。四、 坚持强攻工业，加快构建现代特色产业体系开展工业强基八大行动。着力打基础、补短板，深入实施产业基础再造工程。市县两级统筹资金50亿元，重点用于补强工业园区配套和企业技改创新的短板。滚动实施技改项目200个以上，力争完成投资322亿元。加快园区标准化建
15、设，创新“飞地经济”模式，力争工业园区营业收入增长9%以上，丰城高新区突破700亿元。深化“节地增效”行动，有效盘活闲置土地。实施龙头企业倍增计划。对600家亿元以上企业开展梯次培育，力争新增营业收入过10亿元企业10家以上、过50亿元企业1家以上，通过两年左右努力，培育百亿企业2家。扶持壮大中小企业，力争新增规上工业企业200家以上、省级“专精特新”企业50家以上、制造业单项冠军和专业化“小巨人”企业20家左右。加快宁新新材、百神药业等企业上市进程，力争新增上市企业2家以上。推动重点产业集群集聚。要集成政策、集中资金、集聚力量，举全市之力推动锂电新能源产业迈上新台阶。在发展思路上，要加快从锂电产业向光伏等新能源领域拓展；在发展路径上，要推动原料深加工向下游产品应用延伸；在发展方向上，要着力巩固消费电池、动力电池的优势，争取在储能电池领域取得突破；在发展支撑
