《河源半导体硅片项目招商引资方案（范文参考）》由会员分享，可在线阅读，更多相关《河源半导体硅片项目招商引资方案（范文参考）（131页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、泓域咨询/河源半导体硅片项目招商引资方案河源半导体硅片项目招商引资方案xxx投资管理公司目录第一章 项目背景、必要性8一、 行业发展面临的机遇与挑战8二、 半导体硅片行业发展情况11三、 推进城乡建设协同化，统筹提升发展水平15四、 项目实施的必要性16第二章 行业、市场分析18一、 半导体行业市场情况18二、 半导体硅片行业市场情况19第三章 项目总论21一、 项目名称及建设性质21二、 项目承办单位21三、 项目定位及建设理由22四、 报告编制说明23五、 项目建设选址25六、 项目生产规模25七、 建筑物建设规模25八、 环境影响25九、 项目总投资及资金构成26十、 资金筹措方案26十
2、一、 项目预期经济效益规划目标26十二、 项目建设进度规划27主要经济指标一览表27第四章 建筑技术分析30一、 项目工程设计总体要求30二、 建设方案30三、 建筑工程建设指标32建筑工程投资一览表32第五章 项目选址分析34一、 项目选址原则34二、 建设区基本情况34三、 推进产业体系绿色化，全面提高发展质量38四、 推进融深融湾全域化，加快构建发展新局40五、 项目选址综合评价42第六章 发展规划分析43一、 公司发展规划43二、 保障措施44第七章 法人治理46一、 股东权利及义务46二、 董事49三、 高级管理人员53四、 监事55第八章 SWOT分析说明58一、 优势分析（S）5
3、8二、 劣势分析（W）60三、 机会分析（O）60四、 威胁分析（T）62第九章 节能方案说明67一、 项目节能概述67二、 能源消费种类和数量分析68能耗分析一览表68三、 项目节能措施69四、 节能综合评价70第十章 工艺技术设计及设备选型方案72一、 企业技术研发分析72二、 项目技术工艺分析74三、 质量管理76四、 设备选型方案77主要设备购置一览表77第十一章 劳动安全生产79一、 编制依据79二、 防范措施82三、 预期效果评价84第十二章 投资估算及资金筹措85一、 投资估算的依据和说明85二、 建设投资估算86建设投资估算表90三、 建设期利息90建设期利息估算表90固定资产
4、投资估算表92四、 流动资金92流动资金估算表93五、 项目总投资94总投资及构成一览表94六、 资金筹措与投资计划95项目投资计划与资金筹措一览表95第十三章 经济收益分析97一、 经济评价财务测算97营业收入、税金及附加和增值税估算表97综合总成本费用估算表98固定资产折旧费估算表99无形资产和其他资产摊销估算表100利润及利润分配表102二、 项目盈利能力分析102项目投资现金流量表104三、 偿债能力分析105借款还本付息计划表106第十四章 项目招投标方案108一、 项目招标依据108二、 项目招标范围108三、 招标要求109四、 招标组织方式109五、 招标信息发布111第十五章
5、 项目总结112第十六章 附表附件114主要经济指标一览表114建设投资估算表115建设期利息估算表116固定资产投资估算表117流动资金估算表118总投资及构成一览表119项目投资计划与资金筹措一览表120营业收入、税金及附加和增值税估算表121综合总成本费用估算表121固定资产折旧费估算表122无形资产和其他资产摊销估算表123利润及利润分配表124项目投资现金流量表125借款还本付息计划表126建筑工程投资一览表127项目实施进度计划一览表128主要设备购置一览表129能耗分析一览表129第一章 项目背景、必要性一、 行业发展面临的机遇与挑战1、行业发展面临的机遇（1）国家政策的大力支持
6、半导体行业属于国家鼓励并重点支持发展的产业，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性和基础性产业。近年来，国务院及各相关部委相继出台了多项政策以支持行业发展，包括但不限于：国务院2020年7月发布的新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策以及财政部、税务总局2020年5月发布的关于集成电路设计企业和软件企业2019年度企业所得税汇算清缴适用政策的公告，工信部2019年11月发布的重点新材料首批次应用示范指导目录（2019年版），国家发改委2019年11月发布的产业结构调整指导目录（2019年本），国家统计局2018年11月发布的战略性新兴产业分类（2018年版），科技部2017年4
7、月发布的“十三五”先进制造技术领域科技创新专项规划，以及2018年至2020年政府工作报告等。在我国半导体行业追赶国际先进水平的过程中，国务院及各相关部委的相关政策支持降低了行业内公司在发展过程中的阻碍，为行业的快速发展打下了坚实基础。（2）下游应用市场高速发展半导体硅片行业除受宏观经济影响，亦受到具体终端市场的影响。过去二十年，消费电子以及汽车电子等行业的快速发展，构成推动硅片市场需求提升的重要因素。截至目前，手机和计算机已成为半导体行业终端最大的应用市场，并且仍将保持一定的增速，汽车电子未来的增长主要源于传统车辆电子功能的扩展以及自动驾驶技术的不断成熟。2017年开始，大数据、云计算、人工
8、智能、新能源汽车、区块链、5G技术等新兴终端应用的出现，半导体行业进入了多种新型需求同时爆发的新一轮上行周期，下游应用终端未来的爆发式增长，将会极大推动半导体硅片市场的发展。（3）全球半导体产业向中国大陆转移从上世纪70年代半导体产业在美国形成规模以来，半导体产业已经历两次大规模的产业转移。第一次是在1970年至1990年，由美国向日本转移；第二次是在1990年至2010年，由美国、日本向韩国、中国台湾、新加坡等转移，半导体产业每一次转移的过程，都带动了当地科技与经济的飞速发展。随着全球电子化进程的开展以及我国经济发展水平的快速提升，我国半导体产业下游发展兴旺，消费电子、新能源汽车、物联网、5
9、G技术等产业的兴起，给我国半导体产业带来了大量的需求，在下游产业爆发式增长的推动下，我国半导体产业整体高速发展，同时带动全球半导体产业加速向中国大陆转移，形成全球半导体产业的第三次转移。（4）国产替代空间广阔根据海关总署的统计，2020年我国集成电路进口额位居进口商品第一位，贸易逆差额达到2,347亿美元。随着国家政策的大力支持及行业内公司的持续努力，目前已经取得了一定成果，相关产业存在巨大的国产替代空间。2、行业发展面临的挑战（1）国内缺少行业相关的高精尖技术人才半导体硅片制造行业属于典型的技术密集型行业，由于我国在相关产业起步较晚，对于从业人员的培养无法满足企业对于高端技术人才的知识背景、
10、研发能力和经验积累的较高要求，短时间内突破技术封锁及实现技术赶超存在较大难度。（2）需要大量的前期资金投入半导体硅片制造行业属于典型的资金密集型行业，前期厂房建设、设备购置等均需要投入大量资金，特别是行业内对于产品技术水平、质量稳定性及一致性的高要求，使得行业内公司产品认证周期长、认证环节复杂，普遍投资回收周期较长。行业内公司需要拓宽融资渠道以补充资金供应，从而实现持续的技术研发投入与可持续发展。（3）上下游产业协同发展在供应商方面，目前全球仅有少数海外企业可以批量供应高品质半导体多晶硅等必备原材料，而在下游客户及终端产品方面，中国大陆外延厂商、晶圆代工企业、功率器件企业、集成电路制造企业以及
11、为该类企业提供设备或原材料的行业内相关企业，都处在快速发展及追赶世界先进水平阶段。硅片行业内公司发展会受到我国大陆上下游相关企业发展进程及相关产品国产化程度的影响，行业内公司需要加大技术研发投入，提升自身技术与工艺水平，随上下游企业共同发展，切实提高我国在半导体领域的国际竞争力。二、 半导体硅片行业发展情况1、半导体硅片行业概况当前全球范围内的半导体材料主要包括以硅、锗等为代表的第一代元素半导体材料、以砷化镓、磷化铟等为代表的第二代化合物半导体材料和以碳化硅、氮化镓等为代表的第三代宽禁带半导体材料。在众多半导体原材料中，硅具有明显的优势，如与锗相比，硅熔点高、禁带宽度大，可广泛运用于高温、高压
12、器件；与砷化镓相比，硅安全无毒、无污染。此外，硅具有天然氧化特性，在晶圆制造时可免去沉积绝缘体工序，从而减少了生产步骤并降低了生产成本。硅在自然界中的储量相当丰富，在地壳中约占27%，丰富程度仅次于氧元素，另外还有大量的硅元素以二氧化硅和硅酸盐的形式存在于沙子、岩石、矿物之中，硅材料的成本显著低于其他类型半导体材料。由于硅的技术和成本优势，硅基半导体成为了目前产量最大、应用范围最广的半导体材料，占据了全部产品的90%以上。（1）硅片的制备过程硅片的制造过程主要分为：脱氧提纯、提炼多晶硅、单晶硅棒制备、滚磨、切片、研磨、抛光、清洗、测试、包装等。其中单晶硅棒制备方法分为直拉法（市场占比约85%）
13、和区熔法（市场占比约为15%）。（2）硅片产品分类目前市场上硅片主要包括应用范围最广、最基础的硅抛光片，以抛光片为基础进行二次加工以获得特殊性能的外延片、退火片以及SOI硅片。其中硅抛光片约占硅片出货量的65%-70%，其余为外延片、退火片、SOI硅片等特殊性能硅片。对硅片进行抛光处理得到的硅抛光片，满足了集成电路特征线宽和光刻机景深不断缩小情况下对硅片平整度的严苛要求，去除了表面残留的损伤层，实现了硅片表面平坦化，减小了表面粗糙度，不仅可以直接用于半导体器件制造，也可以作为外延片、SOI硅片的衬底材料。对硅抛光片进行特定工艺处理可得到具有特殊性能的硅片。外延片，降低硅片的含氧量、含碳量、缺陷
14、密度，提高栅氧化层的完整性，减少了漏电现象，从而提升了集成电路的稳定性；退火片，表面氧含量大幅减少，拥有更好的晶体完整性；SOI硅片，具有氧化层，减少了硅片的寄生电容及漏电现象。退火片、外延片、SOI硅片等特殊性能硅片，可以满足复杂的应用场景需求，是半导体产业中不可或缺的一部分。2、半导体硅片技术发展情况根据戈登摩尔博士于1965年提出的摩尔定律，集成电路上集成的晶体管数量每18个月提升一倍，性能随之提升一倍。自此以后，集成电路技术和硅片迎来快速发展期，由最初的0.75英寸逐渐发展至4英寸、6英寸、8英寸、12英寸，当前市场以12英寸硅片为主。生产成本系推动大尺寸硅片发展的重要推动力，硅片尺寸
15、扩大能有效降低成本。以6英寸和8英寸硅片为例，8英寸硅片较6英寸硅片在面积上提升约1.78倍，由于硅片面积扩大，使得单硅片芯片产出数量也成倍增加；并且硅片实际利用的面积主要集中在中间部分，因为边缘部分不够平整以及存在缺陷，大尺寸硅片能够用于制造芯片的区域会更大。此外，在芯片生产过程中由于产出更高，使得设备使用率提升。因此，无论是从产量，还是从设备使用率角度，大尺寸硅片能使芯片生产成本下降。硅片作为基础衬底，必须具备高纯净度、平整度、清洁度和低杂质污染度等特征，才能完美保持芯片原本设计的功能。随着制程微缩，芯片制造对硅片缺陷密度与缺陷尺寸的容忍度不断降低，质量控制更严格，大尺寸硅片可以更好的满足芯片制造的相关需求，但随尺寸增加，硅片质量控制和制造难度也
