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1、龙源期刊网 http:/高分子材料的金属化作者：陈国庆来源：山东工业技术2014年第 22期摘 要：随着我国社会经济的快速发展，人们对高分子材料的用途越来越广泛，很多领域 都应用到了高分子材料。将高分子材料金属化会使高分子具有金属的一些特性，从而使其功能 变得更加强大，这也是本论文的重点研究方向。关键词：高分子材料；金属化；工艺1 高分子材料金属化的简述通过化学方法或者是物理方法将一些金属镀在高分子材料的表面，从而使高分子材料具有 了镀金属的一些特性，这就是我们所说的高分子材料的金属化，金属化后高分子材料一方面就 会具有相应传导性、导热性等性能，另一方面还能够使其具有相应的金属光泽，进行相应的
2、焊 接，从而使高分子材料替代了一些金属品，在最大程度上降低了企业的成本。除此之外，高分 子材料本身还具有耐腐蚀、耐高温、耐酸碱等特性，从而使得被金属化后的高分子材料比常用 的金属具备更好的性能，用途也更加广泛，已经在我国航天、轮船、机械、化工、制药、运输 等行业得到了广泛应用。2 高分子材料金属化的工艺就当前技术来说高分子材料金属化主要有以下两种方法：一是，以物理气相沉积和化学气 相沉积这两种方法为代表的干法；二是，以化学还原、电镀等为代表的湿法。下面我们就将物 理气相沉积、化学气相沉积法和化学还原法这三种常用的方法进行详细的研究。2.1 物理气相沉积物理气相沉积（Physical Vapor
3、 Deposition, PVD）技术主要是在在真空条件下，采用物理 方法，将材料源固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气 体（或等离子体）的一种过程，从而能够在基体表面沉积具有某种特殊功能的一种薄膜技术。 由此可以看出物理气相沉积法的前提基础是真空技术。真空蒸发法（又称为热蒸发法）是指在真空条件下，通过高温加热镀料使其在非常短的时 间内发生蒸发现象，进而会有大量的原子、分子发生气化现象，从而离开了镀料或者说是镀料 的表面，然后这些气化的原子、分子由于是处于真空环境下，所以在经过少量几次的碰撞后迁 移到基体，最终沉积在基体的表面形成一层非常薄的膜。该方法的主要特点是对设备的要求难 度不高、非常容易操作；薄膜具有非常高的纯度、质量；同时能够快速成膜，具有非常单纯的 薄膜生长机理，但是该方法成的薄膜没有结晶结果，致使其跟基板的附着力非常小。为了解决 这一问题，专家们使用等离子刻蚀跟该技术有效结合起来，来提高其附着力。例如有专家将聚
