半导体 FAB 常用单词

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1、 A开头的单字1. Abort 取消操作2. Abnormal 异常3.Acetic Acid(CH3COOH)醋酸4.Acetone(CH3COCH3)丙酮5.Acid酸6.Add增加7.Adjust调整8.AirShower洁净走道9.Alignment对准10.Alloy合金11.Aluminum(Al)铝12.Ammonia(NH4OH)氢氧化胺(俗称:氨水)13.Analysis分析 mH14. AR 氩气15. Automation自动化 B开头的单字1. Bake 烘烤2. Bank暂存3. Barcode 条形码4. Batch 整批5. BHLD被工程师或客户 BankHol

2、d短时间内不会Run的货6.BlueTape蓝膜7.Boat石英晶舟8. Bottom底部9. BreakdownVoltage 击穿电压10. Broken破片;损坏11. Buffer生产暂存区12. Buffer Chemical 缓冲液 C开头的单字1. Calibration校正;调整2. Camera 照相机;摄影机3. Cancel清除4. Candela(cd)烛光5. Cart手推车6. Cassette晶舟7. Certify技能认证8. Chamber反应室9. Charge电荷10.Chipping崩裂11. Chip Suction Pen真空吸笔12. Chip T

3、ransfer - m(Machine)翻转机13. Clean Bench清洗台14. Clean Room洁净室15.Cleaning清洗IF16. Cleaning Sequence清洗程序17.Clear清除18.Coat涂布19.Coater光阻机台20. Coating 涂布上整个表面21. Completed 束;完成22.Confirm认23.Contact触24. Contamination25. Control Wafer(C/W)26.Controller器27. Cooling Water水28. Crucible,Pot29.Curing烤30.Customer户31

4、. CVD(Chemical Vapor Deposition)上上光阻;结确接污染控片控制冷却坩埚烘客化学汽相沉积生32. Cycle Time 产周期 D开头的单字1. Daily Monitor每日检测2. Data资料;数据3. Date日期4. Defect缺点;缺陷5. Defocus散焦;无法聚焦6. Del(Delete)清除;删除7. Delay 延迟8.Department门9.Deposition(DEP)10.Develop 影11. Developer 影器;显影液12. Die,Chip 芯片(陆)13.Water 水 14.Dicing 切割 15.Down 当机

5、 16.Drain 泄出 17. Dry Etching 刻18. Dry Pump 封)的真空泵19. Dummy Wafer(D/W)部沉积显显晶粒(台);DI去离子挡片干蚀干式(无油 E开头的单字1. E/R(Etching Rate)2. Emergency Stop止3. EMO 紧急停止按钮4. Endpoint终点值k、八、l.lI-5. Engineer工程师6. Epi - wafer延片(陆)7. Equipment蚀刻率紧急停磊晶片(台);外机台设备8.Error Message错误讯息9.Etching蚀刻10.Evaporation蒸镀11.Exhaust抽出;抽风管

6、;排(废)气12.Expanding Machine扩张机13.Exposure曝光曝光量F开头的单字1.FAC厂务2.Facility厂务水电气系统3.Film薄膜4.Focus聚焦;焦距5.Forward Current顺向电流6.Forward Voltage(Vf)顺向电压7.FQC 最终检验员8.Furnace炉管G开头的单字1.Gallium(Ga)镓2.GOR(General Operation Rule)厂区操作规则3.Group群组H开头的单字1.Handle处理2.High Current高电流3.Highlight强调4.High Vacuum高真空5. High Vol

7、tage压6. History歴史7. HMDS界面活性剂8.Hold扣留;暂停9.Hold Date置日期10. Hold Reason因11. Hold User置者12. Hot Run急件13. Hydrochloric Acid(HCL)14. Hydrofluoric Acid(HF)15. Hydrogen Peroxide(H2O2) I开头的单字1. Idle休息2. Initial初始状态3. Inspection检验4. IPA(Isopropyl Acetone)5. IPQC制程检验员6. IQC进料检验员7. Item项目8.Test J开头的单字1. Job工作2

8、. Job - Name名称代号盐酸氢氟酸双氧水异丙醇高电留置原IvIv测试程序 K开头的单字1. Key Lock能键;指令键2. Keyboard 键盘功 L开头的单字1.Leak泄漏2.LHLD被Hold住的货(Hold在上一站)3.Light Emitting Diode(LED)发光二极体4.Link连结;线5.Lithography微影6.Log记录7.Lost机台是清空的,无人操作机台或机台没在Run货8.Lot批货9.Lot History Information批货历史资料10.Lot-ID批货编号11. Lot Information批货信息12.LotNote批货批注13

9、. Lot Note Information批货批注信息14.LotOwner货主15. Lot Position批货位置16. Lot ProcessStatus批货生产状态17. Lot Status批货状态18. LPHL 被工程师Hold在当站,请依Lot Note Call工程师或执行Run Card19. Luminous Intensity(Iv)光的强度(单位:cd,mcd) M开头的单字1.Maintain维护2.Maintenance维修;保护3. Manufacture 制 造4. Mark记号5. Mask光罩6. Merge合并7. Metal金属8. Microsc

10、ope显微镜;实体显微镜9. Misalign对偏10. Missing Lot 失 踪批货11. Miss operation(MO) 错误操作12.Multi多重的 N开头的单字1. Native Oxide Layer自然氧化层2. NHLD因下一站机台正在Run货或无法Run货而设的Hold(Hold在下一站)3. Nitric Acid(NHO3)硝酸4.Nitride氮化物4. Nitrogen(N)5. Normal Lot 通货不可6. Notavailable用的;无效的8.Notch缺角9.Nozzle喷嘴 O开头的单字1. OCAP2.Off-line(Out Of Co

11、ntrol Action异常状况处理计划Plan)不与计算机联机;间接参与生产的人员3. OI(Operation Instruction)操作准则4. On-line与计算机联机;直接参与生产的人员5. Operation操作6. Operation Cancel操作中止;取消操作7. Operation Complete操作完成8. Operation Number(OP.NO.)操作步骤编号9. Operation Procedure操作流程10. Operation Start操作开始11. Operation Start Cancel取消操作开始12. OPI(Operator Interface)操作接口13. Optical Aligner光对准曝光机14. OQC出货检验员15. Out Of Control(OOC)超出控制规格16. Out Of Spec(OOS)超出规格17. Outgassing 指附着于固体表面的气体因压力降低或热量而升华18. Oven烤箱;炉子19. Over Etching过度蚀刻20. Over Q-Time超过限制时间21. Owner负责人22. Oxide氧化物 P开头的单字1. Parameter参数2. Part Number型号3. Particle微粒子

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