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1、http:/ 润联网 登录【润联网】查询价格高真空镀膜机和台式磁控溅射系统价格标题:高真空离子溅射仪EMSQ150和离子溅射仪LJ-16小型价格库号：JX164033 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4工作真空： 210-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计
2、时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:离子溅射仪ETD-900型和超高分辨多靶材离子溅射仪208HR价格库号：JX164034 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实
3、验电极制作。特点：在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm300mm400mm（LWH）靶（上部电极）50mm0.1mm（DH）真空样品室硼硅酸盐玻璃 160mm110mm（DH）样品台50mm (D)操作真空410-1mbar至210-2mbar工作电压0-1600V (DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-9999S蒸碳电流0-10A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:高真空离子溅射仪和台式离子溅射仪参数库号：JX164036 价
4、格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 150 T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻完美的镀膜品质！根据不同的应用方向，150T细分为三个型号：150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped
5、 Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜标题:高真空镀膜机LJ-16T和离子溅射仪ETD-900型价格库号：JX164037 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。特点：1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流
6、表，用以指示、监控仪器状态；2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果；3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-2000主机规格L360mm*W300mm*H380mm 靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真空样品室直径：160mm，高：120mm溅射面积50mm真
7、空指示表最高真空度： 4X10-2 &nb标题:离子溅射仪ETD-2000和离子溅射仪ETD-900型参数库号：JX164038 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： Features优势说明：源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺，60多年专业技术及全球5000名科研工作者的信赖； 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为20nm左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状；108C中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便进行电镜成像和能谱仪X射线EDS或EBSD分析； 使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头传感监控，蒸发源作为反馈回路一部分被控制，该蒸发装置使常规碳棒具
8、有优良的镀膜稳定性和重现性； 自动模式下，蒸发源按程序设定进行镀膜，手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续方式操作，并通过旋钮控制输出电压样品仓尺寸120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构样品台可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀材料Bradley 型高纯度碳棒, 无需削减或调整溅镀优点基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护 模拟计量真空Atm - 0.001mb,电流: 0 - 200A 标题:三靶射频磁控溅射镀膜仪和小型离子溅射仪价格库号：JX164039 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：150R 型
9、镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！产品参数：仪器尺寸585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H)包装尺寸725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)工作腔室硼硅酸盐玻璃152mm (内直径)x 127mm H安全钟罩聚乙烯对苯二酸，柱形显示屏彩色液晶320 x 240用户界面直观的图形界面，触摸键。记忆功能：维护提醒及最后十个镀膜方案日志记录重量28.4Kg样品台直径为50 mm的旋转样品台，上有6个样品座，可配15mm, 10mm, 6.5
10、mm或者3.1mm样本座，转速为8-20rpm真空泵Edwards RV3 50L/s两级真空泵，Pirani 真空计极限真空度洁净系统可达 2x10-2 mbar，充氮气喷镀真空范围3 x 10-2 -5 x 10-1mbar安培计碳绳：0-60 Amps，1.4mm 碳棒：1-90 Amps标题:台式磁控溅射系统和离子溅射仪ETD-900型价格库号：JX164040 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备，由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成，由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来，通过面板上的按键状态，经溅射
11、机箱中的CPU判别操作项，以确定允许与否（具体操作见说明书）。设备使用简便，性能可靠，蒸发材料为碳绳，溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm300mm400mm（LWH）靶（上部电极）50mm0.1mm（DH）真空样品室硼硅酸盐玻璃 160mm110mm（DH）样品台50mm (D)工作电压0-1200V (DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-3600S蒸碳电流0-50A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:全自动磁控溅射系统NSC-3000(A)和台式离子溅射仪价格库号：JX164041 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得
12、到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。 技术规格：样品仓尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75
13、 x 4.75)，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，最大电流40mA，程序化数字控制溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩模拟计量：真空 标题:全自动离子溅射仪ETD-800型和磁控溅射系统NSC-4000(M)价格库号：JX164042 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适
14、用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真空样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： 50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度： 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大电流：50mA(100mA) 6、定时器： 最长时间：900S 7、微型真空气阀： 可连接3mm软管 8、可通入气体： 多种 9、最高电压： -1600（-3000）DCV 10、机械泵： 2L/S主要特点：特点： 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪
15、器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘标题:全自动离子溅射仪ETD-800型和台式离子溅射仪参数库号：JX164043 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 150T为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统，适合SEM、TEM及许多薄膜应用。 150T 集成了溅射和碳蒸镀两种沉积镀膜功能的高分辨镀膜系统主要特点: 金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用 涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材 全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 预编程自动真空控制 使用膜厚监控选件精确控制膜厚 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型 高真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术，操作简单，重现性好 Drop-in式快速换样品台（标配旋转台） 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易 技术参数: 工作腔室：165mm外径 x 127mm高 触摸屏全图像用户界面 靶材：标配直径57m
