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1、.电子工厂高级别洁净室的建造文件.专业资料 .2017 年版本电子工厂高级别洁净室的建造特点一、高级别洁净室在电子工厂中的应用本文所指的高级别洁净室是指洁净室的洁净度高 （ISO-2 、3、 4、5 级），生产环境温湿度的精确度高 ，其他一些环境参数 ，例如：静压差、静电、微振、电磁、噪声、照度等参数都必须按生产工艺的要求进行严格控制的洁净室 。 这类面积大 、环境参数要求高的洁净室广泛地应用在电子工业厂房中 ，如：大规模集成电路 （LE1）、.专业资料 .超大规模集成电路 （VLS1）等微电子产业的电子工厂以及彩色薄膜液晶显示器（ TFT-LCD);发光二极管 （LED）以及等离子技术 （P
2、DP）等光电子产业的电子工厂之中。当今世界 ，微电子和光电子产业已成为一个国家 、一个地区国民经济和科学技术发展的基础和平台 ，也是衡量一个国家和地区经济发展和科学技术水平的重要标志 。发达国家 (美国、日本、以及欧洲各国 ）都极为重视 ，纷纷投入大量的人力 、物力、财力进行开发 、研究和生产 。我国在 “十五 ”规划中夜明确指出 “重点发展集成电路 、新型元件、器件、计算机和通信设备 。”争取用 1015 年的时间 ，把我国建设成为世界电子信息产业的强国 。以超大规模集成电路为代表的微电子产业 ，在今后的十年中全世界年平均增长率高达 15%。到 2010 年全世界微电子产品的销售额将高达 6
3、0008000 亿美元 。到那时我国将成为全球第二大半导体市场 。而光电子是继微电子技术之后近十年内迅速崛起的新兴高科技产业 ，它是集固体物理 、导体光学 、材料力学 、微细加工和微电子技术为一体，是微电子技术和光电子技术的结合和扩展 。光电子产业以液晶显示器（ LCD）、等离子技术 （ PDP）和发光二极管 （LED）为代表，尤其是彩色薄膜液晶显示器（TFT-LCD）它是微电子技术与透射式彩色液晶显示器技术的完美结合 。它对生产环境的参数 ，原材料的纯度以及生产设备和技术都等同甚至超过大规模集成电路的生产要求 。到 2010 年以光电子产业为代表的信息产品的总产值将突破50000 亿美元。我
4、国在微电子产业方面 ，“八五 ”、九“五 ”、十“五 ”期间发展很快 ，继“华越 ”和“华虹”之后又有 “中芯 ”、宏“力 ”、贝“岭 ”、先“进 ”等超大规模集成电路生产线相继建成投产。在光电子产业方面 “LCD”、PDP“”、LED“”、TFT“-LCD”已成为我国光电子产业的新的增长点 ，随着 “吉林通海高科 ”TFT-LCD 生产线建成投产后又有更大规模的 “上广.专业资料 .电”、京“东方 ”等 TFT-LCD 生产线相继建成投产 。深圳的 “深超 ”和具有第六代TFT-LCD生产线的 “京东方 ”也在建设之中 。二、电子工厂高级别洁净室的建造特点（一）电子工厂生产工艺对洁净室生产环
5、境的要求非常严格电子工厂尤其是微电子和光电子产业的电子工厂，工艺生产对大面积高洁净度洁净室所要求的生产环境不仅仅有 ：建筑围护 、结构、空气、水以及气体 、溶剂等原材料，而且还有声 、光、电、磁、振等各种环境 。例如：建筑形式 、层高承重、围护的装修材料 ；空气的洁净度 、温湿度、静压力；水和气体的纯度和重金属等含量以及噪声、照度、电磁波、微振动等等 。总的来说 ，微电子和光电子对生产环境的要求可用“精”、纯“”、大“”来描写。建造电子工厂的高级别洁净室最重要的是要使建造的洁净室能满足生产工艺对生产环境的严格要求 ，使之能高效率 、高成品率地生产出高质量的电子产品 。这是建造高级别洁净室最根本
6、的目的 。下表给出了微电子 、光电子生产工艺对生产环境所要求的条件和参数 ：超大规模集成电路对生产环境污染控制的要求控制参数集成度4M16M64M256M1G4G特征尺寸 （m)0.80.550.350.250.180.150.13控制粒径 （ m)0.10.10.080.080.060.04控制温度 （21C25 C）0.10.050.050.050.050.05控制相对湿度 （ 35%45% ）211111洁净度级别工作区（级）312121211ISO-14644通道区（级）444444.专业资料 .维护区（级）5655555下夹层（级）787867676767建筑物0.10.10.10.
7、10.10.1防微振设备0.010.010.010.010.010.1纯水、纯气中的杂质5x10-95x10-91x10-90.1x10 -90.01x10 -9噪声 dB （A）606060606060超大规模集成电路对生产环境污染控制的要求环境控制要求控制粒径 （ m)温度（C）相对湿度 （%）项目名称洁净度 （级）某 IC 前工序生产线0.13220.1453某 TFT-LCD 生产线0.3423 1555某 TFT-LCD 基极生产0.33； 4230.3505线某高密度磁带生产线0.5523 1505某彩色显示器生产线0.57 （局部 5）22 1505某磁头生产线0.3521 25
8、55某光导纤维生产线0.37 （局部 5）24 27电子、光电子产品生产对生产环境的要求相对湿度相对低级别洁净产品工序空气洁净度等级 （级）温度（C）（ %）室的正压 （ Pa）拉单晶45 （0.3 m ）23245 55半导体切、磨、抛57 （0.3 m）23245 55材料清洗47 （0.3 m）23245 55.专业资料 .外定35 （0.3 m）23245 55氧化、扩散、清洗、刻25 （ 0.10.3 m）23145 55前工序蚀、薄膜、离子注入（芯片光刻14 （0.10.3 m）23145 55制造）检测36 （0.10.3 m）23245 55设备区68 （0.10.3 m）23
9、545105封装划片、键合57 （0.3 m）21150 55（后工封装68 （0.3 m）23150 55序）薄膜光刻 、刻蚀、剥离23 （0.1 m）23145 55TFT-LC涂复13 （0.1 m）23145 55D模块45 （0.3 m）23245105组装67 （0.3 m）23245 5567 （ 0.3 m(）局部 5STN-LCD23245 55级）制造区34 （0.1 m）23145 55HDD其他区67 （0.3 m）23145105核心区5（0.3 m）23145 55PDP支持区67 （0.3 m）23245605干工艺区67 （0.5 m）23225锂电池其他区78
10、 （0.5 m）232155彩色显涂屏电子枪装配荧光粉7（0.5 m）23245 55.专业资料 .像管锥子墨涂复防罩8（0.5 m）23245 55电子仪微型计算机装配8（0.5 m）2023 25器印制线照像、制版、干膜78 （0.5 m）22240605路板预制棒67 （0.3 m）24250 55光导纤拉丝57 （0.3 m）22150 55维光盘制造68 （0.3 m）2315010568 （ 0.5 m(）局部 5高密度磁带制造23150105级）核心区5（0.3 m）23260 55磁头生产清洗区6（0.3 m）212705（二）电子工厂高级别洁净室的建造投资费用非常高高级别洁净室建造投资的费用很高 。一般来说 ， 4 级（10 级）、 5 级（100 级）垂直单向流洁净室 ，其室内建筑围护装修 （包括墙、顶、地、门窗等）和净化空调系统（包括制冷和空调 、净化设备 、管道和配件 ）其建设初投资大约为 1000015000 元 /m 2 ；如果再加上纯水制备设备和系统管线配件 ，纯气的发生设备和系统管线配件
