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1、FXCWZ-3001半光亮低应力镀镍工艺WZ-3001 Semi-bright Nickel Plating ProcessWZ-3001 半光镍添加剂适用于电子工业电镀如各种低应力要求的电子产品 , 诸如印制板,接插件,镍层线路电镀等。其工艺特点为：添加剂组分单一，使用维护简 单，其镀层应力极低，色泽白晰且呈半光亮状。优点：是用于瓦特(Watts)及氨基璜酸镍(Suiphama te)镍浴；镀层平滑,低应力，延展性佳，特别适用于作金，钯，铑,银等贵重金属电镀和非金属镀层的打底镀层；适用于连续电镀,Tab电镀，快速电镀及高电流作业；单一组分添加, 现场操作, 维护简单；镀液稳定, 槽液操作温度
2、低, 更加有利于生产操作.一.操 作 条 件:控制范围最佳值氨基磺酸镍280-400g/l300g/l氯化镍15-30g/l20g/l硼酸30-50g/l40g/l添加剂 WZ-300110-15ml/l12ml/l润湿剂 WZ-K1-2ml/l1.5ml/lPH3.8-4.54.0温度40-50C45C阴极电流密度21-4A/dm222A/dm2阳极电流密度0.5-6A/dm2.2A/dm搅拌无油无尘空气搅拌兼阴极移动过滤5一10umPP滤芯循环过滤二. 槽 液 配 制:1. 将备用槽洗干净，加入3/4体积去离子水并加温至60C;2. 加入计量氨基磺酸镍，氯化镍和硼酸，并充分搅拌使之完全溶解
3、；3. 用碳酸镍把溶液PH值调至5-5.2；4. 在55-60C条件下加入4g/l活性碳粉，搅拌4小时并静置2小时。5. 过滤至溶液无活性碳粉之后，(可采用 23 级过滤)将溶液滤到镀槽中，6 . 把硼酸用热水溶解后加入镀液中，加去离子水至最终体积。27.用10%稀硫酸将溶液PH值调至2.5-3.0，用瓦楞板做阴极，在50C、0.2-0.4A/dm条件下电解处理 48小时,直至瓦楞板低谷处无灰暗色或棕色阴影为止。8. 加入添加剂并调节 PH 至最佳范围即可试镀。三. 槽液的控制与补充:1. 镀液中各种成份要经常分析,维持在最佳范围内，可用 10%稀硫酸和碳酸镍调 整溶液的PH值。2. 为了获得
4、低应力的镀镍层,要特别防止有机杂质的污染 ,若有少量有机污染 ,已 经影响到镀层的质量,可先加入适量的双氧水,充分搅拌后,用碳芯过滤处理。3. 溶液经活性碳处理后,光剂和润湿剂都有损失 ,依照霍尔槽试验补充光剂和润 湿剂。4. 槽液受少量有机污染可添加适量润湿剂来改善镀液状况。5. 添加剂的消耗量与溶液的通电量,带出量,电流密度,搅拌程度以及溶液中杂质的多少有关，在一般情况下,WZ-3001的基本消耗量如下：WZ-3001 添加剂 150-250ml/1000AHWZ-K 润湿剂10-20 ml/1000AH四. 产 品 数 据:WZ-3001 添加剂WZ-K 润湿剂颜色浅黄色无色透明比重(波
5、美度)5858PH 值3.6-4.03.6-4.0包装20L/桶20L/ 桶有效期1年1年五. 设 备:镀槽半硬质聚氯乙烯(PVC),聚乙烯(PE)或包聚丙烯(PP)加热器不锈钢加热器过滤持续以35um的聚丙烯(PP)滤芯过滤，流速为每小时循环槽容量 25 次搅拌无油无尘空气搅拌兼阴极移动阳极装满镍角之阳极钛篮，外套PP阳极袋整流器46 伏特六. 储 存:置于通风,干爽的地方,不要放在阳光直射的地方,不用时要密封好。七 安 全 事 项:注意！ WZ3001添加剂为酸性溶液,在操作时应格外小心，不要触及皮肤, 眼睛或衣服,会损害眼睛或皮肤.如不慎溅在眼睛或皮肤上应立即用清水清洗,如 果情况严重立
6、即送医院处理。八. 槽 液 分 析 与 控 制:1. 氨基磺酸镍的测定 原理： 基于络合滴定原理,在微碱性溶液中,以紫脲酸胺为指示剂,用 EDTA 标液滴定镍,求得其含量。 试剂：PH=1 0氨缓冲溶 液 紫脲酸氨指示剂 0.1 M EDTA 标准溶 液 分析方法：移取10ml槽液于100ml容量瓶中，稀释至刻度摇匀后，移取10ml于锥 形瓶中,，搅匀，加入50ml纯水，加入氨水2ml及少量紫脲酸胺指示剂.用0.1M EDTA标液滴定由黄色变为紫红色为终点，记下耗用毫升数即为V。 计算：NI(NH2SO3)2 g/l = VXMX250.7 式中:M - EDTA标准溶液的浓度V -耗用的ED
7、TA毫升数Ni2+分析方法取样1ml于250ml锥形瓶中，加(3050ml) DI、电0,加5ml氨水 加紫脲酸胺指示剂，以0.1N EDTA-2Na标准液滴定至紫红色。计算Ni2+ (g/L) =0.1 X58.69X 消耗 ml 数补充Ni (NH2SO3)24H2O=(标准值一分析值)X槽积三180(L)2. 氯化镍的测定 原理：基于沉淀滴定原理,在中性C溶液中加入K CrO作为指示剂，用AgNO 243滴定首先AgCl沉淀出来，待滴定到达等当量点附近，由于溶液中Ag+离子 浓度 迅速增加,达到 Ag CrO 的溶度积时,立刻形成砖红色的 Ag CrO 沉 淀指示滴定终点 。2424 试
8、剂 ：0.1N AgNO标准溶液铬酸钾指示剂 （5水溶液） 分析方法：移取10ml槽液于100ml容量瓶中，稀释至刻度摇匀.加水50ml及约1ml 铬酸钾指示剂用 AgNO 标准溶液慢慢滴淀至形成的沉淀为砖红色为终3点，记下耗用毫升数即 V。 计算：NiCl.6HO g/L = N X V X 118.8522式中 : N- 硝酸银标准溶液的浓度V- 耗用硝酸银的毫升数3 .硼酸的测定 原理：基于酸碱反应原理，因 H BO 的酸性极弱，不能直接用碱滴定，加入甘 33油，使 H BO 与其生成较强的铬合物，然后以酚酞作指示剂，用碱来滴定， 33求其含量。 试剂 ：1酚酞指示剂甘油混合物0.1N
9、NaOH标准溶液 分析方法：移取10ml槽液于100ml容量瓶中，稀释至刻度摇匀取上述溶液 10ml于250ml锥形瓶中，加入甘油混合物25ml,用0.1N的NaOH滴定至溶液由绿色 变为紫色为终点，记下毫升数即为 V。 计算: HBO g/L = NX VX 61.8333式中: N - 标准氢氧化钠的浓度V-耗用的氢氧化钠的毫升数甘油混合物一柠檬酸钠60g溶于少量水中，加入甘油600ml,用水稀释到1升。十.镀 镍 常 见 故 障 及 纠 正 方 法：生产故障可能原因纠正方法镀层粗糙毛刺1、镀液中有固体悬浮物2、PH太高形成氢氧化物沉淀3、阳极袋破损4、电流密度太高5、补加水时带入钙离子1
10、. 检查过滤泵是否运转正常2. 调整PH值3. 更换阳极袋4. 核对施镀面积是否计算错5. 用纯水补充液位镀层起泡，起皮1、镀前处理不良2、中间断电时间过长3、电流密度太大4、有机杂质污染5、镀液PH太高或太低6、温度太低1、加强镀前处理2、检查整流器及各接点3、调整电流4、H 0 活性碳处理5、测2量2PH值后调整6、提高温度镀层有针孔、麻点1、润湿剂不够2、金属杂质或油等有机污染3、镀前处理不良4、过滤不良5、硼酸含量太低6、镀液温度太低1需适量补加2、进行适当处理3、加强镀前处理4、检查过滤系统5、补加硼酸6、适当提高温度镀层不均匀，低电 流区呈灰色或黑色1、镀前处理不良或底镀层 不良造
11、成2、电流密度太小3、主盐浓度太低4、阴极电接触不良5、金属离子污染1、认真检查电镀前的情况2、提高电流密度3、增加主盐浓度4、检查电接触情况5、小电流电解阳极钝化1、阳极电流度过大2、镀液中氯化镍含量过低或阳极活化剂过少1、增加阳极面积2、补加氯化镍或阳极活化剂镀层烧焦1、温度过低，电流密度高2、镍盐浓度低3、PH太高1、提高温度或降低电流密度2、补充镍盐3、调整PH镀层脆性大1、Cu或有机杂质过多2、PH过咼3、温度过低4、添加剂过少1、活性碳或少电流处理2、降低PH值3、升高温度4、可适当补充添加剂镀镍液炭处理1 将装有镍角的钛篮从镀缸中提出，用粗化液将阳极表面清洗干净，在 4%硫 酸中浸泡备用；2.将全部镀液抽至备用缸中，加入4ml/L的双氧水，打气3小时；3将镀液加热至60C，加入10g/L粒状活性炭（若为活性炭粉为5g/L）,同时 打气 4小时，再静置4小时以上；4. 将镀缸及过滤系统清洗干净，再把处理好的镀液过滤回镀缸中，过滤泵装上 新棉芯；5. 把钛篮挂上，加入光剂、润湿剂，经过 8小时以上电解后进行试镀。
