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1、集成电路版图设计实验（一）：三输入与或门设计一设计目的1、掌握使用Ledit软件绘制基本的元器件单元版图。2、掌握数字电路基本单元CMOS版图的绘制方法，并利用CMOS版图设计简单的门电路，然后对其进行基本的DRC检查。3、学习标准逻辑单元的版图绘制。二设计原理（一）设计步骤： 1、设计参数设置：包括工艺参数设置（理解 Technology Unit和Technology Setup的关系）、栅格设置（理解显示栅格、鼠标栅格和定位栅格）、选择参数设置等2、布局布线：安排各个晶体管、基本单元、复杂单元在芯片上的位置，并且设计走线，实现管间、门间、单元间的互连。4、尺寸确定：确定晶体管尺寸（W、L
2、）、互连尺寸（连线宽度）以及晶体管与互连之间的相对尺寸等（此次实验可以忽略）。5、版图编辑（Layout Editor ）:规定各个工艺层上图形的形状、尺寸和位置。6、布局布线（Place and route ）：给出版图的整体规划和各图形间的连接。7、版图检查（Layout Check ）：设计规则检验（DRC,Design Rule Check），能够找到DRC规则在版图的应用点。（二）设计目标：1、满足电路功能、性能指标、质量要求。2、尽可能达到面积的最小化，以提高集成度，降低成本。3、尽可能缩短连线，以减少复杂度，缩短延时、改善可靠性。三设计内容用CMOS工艺设计一个三输入与或门F=A
3、+BC，进行基本的DRC检查。四.评价标准本次的实验作业旨在让同学通过亲身实践，对所学的CMOS集成电路设计有一个更系统更全面的了解，并且通过软件的使用，达到将来参与电路设计工作的的入门练习作用。五部分设计规则描述设计规则是设计人员与工艺人员之间的接口与“协议”， 版图设计必须无条件的服从的准则，可以极大地避免由于短路、断路造成的电路失效和容差以及寄生效应引起的性能劣化。设计规则主要包括几何规则、电学规则以及走线规则。其中几何设计规则通常有两类： 微米准则：用微米表示版图规则中诸如最小特征尺寸和最小允许间隔的绝对尺寸。 准则：用单一参数表示版图规则，所有的几何尺寸都与成线性比例。设计规则分类如
4、下：1.拓扑设计规则（绝对值）：最小宽度、最小间距、最短露头、离周边最短距离。2.设计规则（相对值）：最小宽度w=m、最小间距s=n、最短露头t=l、离周边最短距离d=h（由IC制造厂提供，与具体的工艺类型有关，m、n、l、h为比例因子，与图形类形有关）。 宽度规则（width rule）：宽度指封闭几何图形的内边之间的距离。 图1.宽度规则 间距规则（Separation rule）：间距指各几何图形外边界之间的距离。同一工艺层的间距(spacing) 不同工艺层的间距(separation)图2.间距规则 交叠规则（Overlap rule） 交叠有两种形式：（1）一几何图形内边界到另一图
5、形的内边界长度（intersect）（2）一几何图形外边界到另一图形的内边界长度（enclosure） Intersect enclosure图3.交叠规则 因为物理结构直接决定晶体管的跨导、寄生电容和电阻，以及用于特定功能的硅区，所以说物理版图的设计与整个电路的性能（面积、速度、功耗）关系密切。 另一方面，逻辑门精密的版图设计需要花费很多的时间与精力。这在按照严格的限制对电路的面积和性能进行优化时是非常需要的。但是，对大多数数字VLSI电路的设计来说，自动版图生成是更好的选择（如用标准单元库，计算机辅助布局布线）。为判断物理规范和限制，VLSI设计人员对物理掩膜版图工艺必须有很好的了解。 因
6、为物理结构直接决定晶体管的跨导、寄生电容和电阻，以及用于特定功能的硅区，所以说物理版图的设计与整个电路的性能（面积、速度、功耗）关系密切 。CMOS逻辑门掩膜版图的设计是一个不断反复的过程。首先是电路布局（实现预期的逻辑功能）和晶体管尺寸初始化（实现期望的性能规范）。绘制出一个简单的电路版图，在图上显示出晶体管位置、管间的局部互连和接触孔的位置。 部分MOS版图设计规则有了合适的版图结构后，就可以根据版图设计规则利用版图编辑工具绘出掩膜层。这个过程可能需要多次反复以符合全部的设计规则，但基本布局不应有太大的改变。进行DRC（设计规则检查）之后，就在完成的版图上进行电路参数提取来决定实际的晶体管
7、尺寸，更重要的是确定每个节点的寄生电容。提取步骤完成后，提取工具会自动生成一个详细的SPICE输入文件。在就可以使用提取的网表通过SPICE仿真确定电路的实际性能，如果仿真出的电路性能（如瞬态响应时间或功耗）与期望值不相符，就必须对版图进行修改并重复上面的过程。版图修改主要是对晶体管尺寸中的宽长比进行修改。这是因为管子的宽长比决定器件的跨导和寄生源极和漏极电容。为了减小寄生效应，设计者也必须考虑对电路结构进行局部甚至全部的修改。版图设计流程图:图四. 版图设计流程图六设计过程分析（一）绘制版图前分析： P型MOS管必须放在n阱区。PMOS的有源区、n阱和n区的最小重叠区决定n阱的最小尺寸。n有
8、源区同n阱间的最小间距决定了nMOS管和pMOS管的距离。 通常，将nMOS管和pMOS管的多晶硅栅极对准，这样可以由最小长度的多晶硅线条组成栅极连线。在一般版图中要避免出现长的多晶硅连接的原因在于多晶硅线条过高的寄生电阻和寄生电容会导致明显的RC延时。版图的最后一步是在金属中形成输出节点VDD和GND接触孔间的局部互连。版图中的金属线尺寸通常由金属最小宽度和最小金属间距（同一层上的两条相邻线间）决定。 为了得到合适的偏置，n阱区必须也有一个VDD接触孔。每当有源区被nSelect包围时就形成n+，每当有源区被pSelect包围时就形成p+。每当多晶穿越n+区时就形成nFET ，每当多晶穿越p
9、+区时就形成pFET 。若无接触孔（有源区接触、多晶接触、通孔），n+、p+、多晶硅、各层金属即使相互交叉，也不会形成电连接。设计步骤大体和COMS反相器差不多，只是过比CMOS反相器复杂，需注意各层之间的连接关系。（二）电路图与欧拉路径图五.欧拉路径图示图六.F=A+BXC电路图根据电路图和画的欧拉路径图，将输入选择为C、B、A的顺序，由图五的欧拉路径图，可以得到有源区连续的版图，节约版图面积。（三）三输入与或门版图绘制的步骤概述1、打开ledit软件，新建new layout,通过file中的replace setup选择lights.tdb文件，使用里面的参数设置来绘制版图。2、在P衬底
10、上绘制有源区，再画N select,将有源区包裹住，进行设计规则检查。3、在有源区上绘制4条多晶硅，宽度为最小尺寸。三条是MOS管的，一条是反相器的。需满足最小尺寸要求和伸展出有源区一定的距离。进行设计规则检查无误后，这样就形成了MOS管的源漏。4、绘制GND，将需要接地的晶体管的有源区打接触孔，通过metal1接地，可知A管的源端、C管的源端、反相器NMOS的源端需要接地，A管和反相器N管共源接地。需要满足金属包裹接触孔、接触孔离有源区的边界、接触孔离多晶的距离，金属的最小尺寸等设计规则。5、上述步骤将NMOS基本绘制完成。下面绘制PMOS，首先绘制N well，再在N well中绘制P s
11、elect，然后再绘制Active层。将N管的4条多晶拉伸，公用栅极，伸展出P有源区2微米，这样就形成了Pmos的源漏区，进行设计规则检查。6、绘制VDD。根据电路图知道A管的源极和反向器PMOS的源极需要接电源，两个管子共源，在有源区打接触孔，通过金属线连接至电源端。需要满足金属包裹接触孔、接触孔离有源区的边界、接触孔离多晶的距离，金属的最小尺寸等设计规则。7、上面的步骤基本完成了MOS管的绘制，之后就是连接和信号输入输出问题了。将PMOS中B管和C管的漏端与NMOS中的A管和B管进行连接，连接时通过在漏端打通孔，通过Metal2 进行连接，这样就得到了最终输出的反向结果，再通过Metal2
12、 连接到反相器的栅极，进行设计规则检查。8、由电路图可知，PMOS中A管的漏端是和B管、C管的源端连接的，所以在有源区打接触孔，通过Metal1连接。进行设计规则检查。9、将A、B、C信号加到PMOS和NMOS的栅极，在多晶硅上做多晶硅接触，连Metal1，再通过通孔连接Metal2接入信号。需要满足各种间距规则问题，进行设计规则检查。10、做NMOS和PMOS的衬底接触，进行设计规则检查。11、将反相器的NMOS和PMOS的漏极通过Metal1连接，在Metal1上打通孔连接Metal2将最终的输出引出，进行设计规则检查。通过以上的11个步骤，综合布局布线，设计版图、输入输出如下图7所示通过
13、DRC检测没有错误。图7.绘制的F=A+BxC版图（四）版图评价1、绘制之前，找到了欧拉路径，将输入选择为C、B、A的顺序，使得绘制的版图NMOS和PMOS都能够共用有源区，节省了版图的面积。2、版图的绘制都是一步一步按照设计规则卡出来的，使得有源区面积小，使用了最小尺寸的多晶硅和金属连线。3、在最小面积的有源区上，尽可能多的做了接触孔，减小接触电阻。4、通过使用Metal2，减小了布线间距，节省了面积。5、通过共用有源区、共用金属至地和电源的连线，也减少了有源区面积和连线长度。6、将nMOS管和pMOS管的多晶硅栅极对准，利于工艺上的加工，这样可以由最小长度的多晶硅线条组成栅极连线，这样做可
14、以降低RC延时。七、总结这次版图设计我做的是F=A+B*C的设计，通过这次L-edit软件的训练，对所学的CMOS集成电路设计有一个更系统更全面的了解,初步的掌握了L-edit软件的基本操作方法，并能够独立的运用该软件设计版图，灵活的根据设计规则要求绘制版图，熟悉了电路的结构，我想这对我今后学习或者工作大有裨益，今后，我要更多的运用该软件，达到熟练掌握的目的，在我们锻炼动手能力的同时，学到更多的有关专业知识。在我做集成电路版图设计过程中的困难之一是分不清楚集成器件的工艺层次结构。使用L-edit软件设计版图设计的过程中，对于工艺部分的尺寸调节这个环节是个相当繁琐的工作，通过此次上机，熟悉了设计规则，熟悉了器件的工艺层次结构，受益匪浅。
