FPC各制程的不良原因分析及管制重点

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1、各制程的制作要点自动裁剪裁剪是整个FPC源材料制作的首站，其质量问题对后其影响较大,而且是 成本的一个控制点，由于 裁剪机械程度较高,对机械性能和保养大为重要.而且裁剪机设备精度基本可以达到所裁剪物的 精度要求,所以在对操作员操作技术及熟练程度和责任心提高为重点.1. 原材料编码的认识如; B 08 N N 0 0 R 1 B 250B铜箔类08 :厂商代码1N层别,N，铜片S,单面板D,双面板2N绝缘层类别N.无绝缘层类别K.kapthon P.polyster 10 绝缘层厚度 0,无 1:1mil 2:2mil 20绝缘层与铜片间有无粘着剂 0; 无 1;有R,铜皮类别A：铝箔H:高延展

2、性电解铜R:压延铜E:电解铜1,铜皮厚度B,铜皮处理R:棕化G:normal 250,宽度码Coverlay编码原则2. 制程质量控制根据首件A. 操作者应带手套和指套，防止铜箔表面因接触手上之汗渍等氧化.B. 正确的架料方式，防止邹折.C. 不可裁偏，手对裁时不可破坏冲制定位孔和测试孔如无特殊说明裁剪公差为张裁时在1mm条D.裁时在0.3m m内E.裁剪尺寸时不能有较大误差，而且要注意其垂直性，即裁剪为张时四边应为垂直（2）G.材料质量,材料表面不可有皱折，污点，重氧化现象，所裁切材料不可有毛边，溢胶等.3. 机械保养 严格按照自动裁剪机保养检查纪录表之执行.CNC：CNC是整个FPC流程的

3、第一站，其质量对后续程序有很大影响.CNC基本流程:组板一打PIN-钻孔一 退 PIN.1. 组板选择盖板一组板一胶带粘合一打箭头（记号）基本组板要求:单面板 15张 单一铜 10张或15张 双面板 10张 单一铜 10张或15张黄色Coverlay 10张或15张白色Coverlay 25张辅强板根据情况3-6张盖板主要作用:A：减少进孔性毛头B：防止钻机和压力脚在材料面上造成的压伤.C:使钻尖中心容 易定位避免钻孔位置的偏斜D：带走钻头与孔壁摩擦产生的热量减少钻头的扭断.2. 钻针管制办法a. 使用次数管制 b. 新钻头之辨识方法 c. 新钻头之检验方法3. 品质管控点a. 正确性;依据对

4、b.钻片及钻孔数据确认产品孔位与c.孔数的正确性，并check断针监视孔是 否完全导通.d.外观质量;不e.可有翘铜，毛边之不f.良现象.4. 制程管控a. 产品确认b.流程确认c.组合确认d.尺寸确认e.位置确认f.程序确认g.刀具确认h.坐 标确认i.方向确认.5. 常见不良表现即原因断针a钻机操作不当b.钻头存有问题c.进刀太快等毛边a盖板，垫板不正确b.钻孔条件不对c.静电吸附等等7. 良好的钻孔质量a. 操作人员;技术能力，责任心，熟练程度b. 钻针;材质，形状，钻数，钻尖c. 压板;垫板;材质，厚度，导热性d. 钻孔机;震动，位置精度，夹力，辅助性能e. 钻孔参数;分次/单次加工方

5、法，转数，进刀退刀速.f. 加工环境;外力震h.动，噪音，温度，湿度相关连接;我司28日，机种F5149-001-C01由于程序的使用误用，造成钻孔不良2700张,虽然两 公司都有工作上的疏忽，但对于我司的质量要求，故也要对程序要有个相对完善的管理方案.P.T.H 站1. PTH原理及作用PTH即在不外加电流的情况下，通过镀液的自催化（钯和铜原子作为催化剂）氧化还原反应，使铜离 子析镀在经过活化处理的孔壁及铜箔表面上的过程，也称为化学镀铜或自催化镀铜，化学反应方 程式:2. PHT流程及各步作用整孔f水洗f微蚀f水洗f酸洗f水洗f水洗f预浸f活化f水洗f速化f水洗f水洗f化学 铜f水洗.a.

6、整孔;清洁板面，将 孔壁的负电荷极化为政电荷，已利与带负电荷的钯胶体粘附.b. 微蚀;清洁板面;粗化铜箔表面，以增加镀层的附着性.c. 酸洗;清洁板面;除去氧化层，杂质.d. 预浸;防止对活化槽的污染.e. 活化;使钯胶体附着在孔壁.f. 速化;将Pd离子还原成Pd原子，使化学铜能锡镀上去。g. 化学铜：通过化学反应使铜沉积于孔壁和铜箔表面。3. PTH常见不良状况之处理。1. 孔无铜a：活化钯吸附沉积不好。b速化槽：速化剂溶度不对。c：化学铜：温度过低，使反应不能进行反应速度过慢；槽液成分不对。2. 孔壁有颗粒，粗糙a：化学槽有颗粒，铜粉沉积不均，须安装过滤机装置。b板材本身孔壁有毛刺。3.

7、 板面发黑a：化学槽成分不对（NaOH浓度过高）b建浴时建浴剂不足镀铜：镀铜即提高孔内镀层均匀性，保证整个版面（孔内及孔口附近的整个镀层）镀层厚度达到一定的 要求。制程管控：产品确认，流程确认，药液确认，机台参数的确认。品质管控： 1，贯通性：第一槽抽2张，以20倍放大镜检查孔壁是否有镀铜完全附着贯通。2，表面品质：铜箔表面不可有烧焦，脱皮，颗粒状，针孔及花斑不良等现象。3, 附着性：于板边任一处约为2.54*2.54cm2面积以切片从轴横轴各割10条，再以3M胶带粘贴3 分钟后，以垂直向上接起不可有脱落现象。化学铜每周都应倒槽，作用：有铜沉积于槽底，槽底的铜越来越多，消耗药水就越多，从而使成

8、 本变高。切片实验：程序：1，准备好的切片所需的亚克力药粉及药水，凡士林，夹具，器皿。 2，根据要求取样制作试片。3，现在器皿的内表面均匀地涂抹一层润滑作用的凡士林。 4，将试片用夹具夹好后放入器皿中。5，将亚克力药粉与亚克力药水以10： 8的比例调匀后缓慢地倒入器皿中。 6，待其凝固成型后直接将其取出。7，将切片放在金相试样预磨机上研磨抛光至符合要求后用金相显微镜观察并记录其数值。贴膜：1，干膜贴在板材上，经露光后显影后，使线路基本成型，在此过程中干膜主要起到了影象转移 的功能，而且在蚀刻的过程中起到保护线路的作用。2, 干膜主要构成：PE，感光阻剂，PET。其中PE和PET只起到了保护和隔

9、离的作用。感光阻剂包 括：连接剂，起始剂，单体，粘着促进剂，色料。作业要求：1、保持干膜和板面的清洁。2、平整度，无气泡和皱折现象。3、附着力达到要求，密合度高.作业品质控制要点：1，为了防止贴膜时出现断线现象，须先用无尘纸除去铜箔表面杂质。 2，应根据不同板材设置加热滚轮的温度，压力，转数等参数。3，保证铜箔的方向孔在同一方位。4，防止氧化，不要直接接触铜箔表面，如果要氧化现象要用纤维刷刷掉氧化层。 5，加热滚轮上不应该有伤痕，以防止产生皱折和附着性不良。6, 贴膜后留置15min-3天，然后再去露光，时间太短会使干膜受UV光照射，发生的有机聚合反应 未完全，太长则不容易被水解，发生残留导致

10、镀层不良。7，经常用无尘纸擦去加热滚轮上的杂质和溢胶。8，要保证贴膜的良好附着性。品质确认：1，附着性：贴膜后以日立测试底片做测试，经曝光显影后线路不可弯曲变形或断等（以放大镜 检测）2，平整性：须平整，不可有皱折，气泡。3，清洁性：每张不得有超过5点之杂质。露光：1. 原理：使线路通过干膜的作用转移到板子上。2，作业要点： 作业时要保持底片和板子的清洁；底片与板子应对准，正确；不可有气泡，杂质；放片时要注意 将孔露出。双面板作业时应垫黑纸以防止曝光。品质确认：1, 准确性：a.定位孔偏移+0.1/-0.1以内b. 焊接点之锡环不可小于0.1mm （不可孔破为原则）c. 贯通孔之锡环不可小于0

11、.1mm （不可孔破为原则）2. 线路品质：不可有底片因素之固定断线，针孔或短路现象。 底片的规格，露光机的曝光能量，底片与干膜的紧贴度都会影响线路的精密度。 *进行抽真空目的：提高底片与干膜接触的紧密度减少散光现象。*曝光能量的高低对品质也有影响：1，能量低，曝光不足，显像后阻剂太软，色泽灰暗，蚀刻时 阻剂破坏或浮起，造成线路的断路。2. 能量高，则会造成曝光过度，则线路会缩细或曝光区易洗掉。显像：原理：显像即是将已经暴过光的带干膜的板材，经过显影液（7.9g/L的碳酸钠溶液）的处理，将 未受UV光照射的干膜洗去而保留受到UV光照射发生聚合反应的干膜使线路基本成型。 影响显像作业品质的因素：

12、1、显影液的组成.2、显影温度.3、显影压力.4、显影液分布的均匀性。5、机台转动的速度。 制程参数管控：药液溶度，显影温度，显影速度，喷压。显像作业品质控制要点：1、出料口扳子上不应有水滴，应吹干净.2、不可以有未撕的干膜保护膜.3、显像应该完整，线路不可锯齿状，弯曲，变细等状况。4、显像后裸铜面用刀轻刮不可有干膜脱落，否则会影响时刻作业品质。5、干膜线宽与底片线宽控制在+/-0.05m m以内的误差。6、线路复杂的一面朝下放置，以避免膜渣残留，减少水池效应引起的显影不均。7、根据碳酸钠的溶度，干膜负荷和使用时间来及时更新影液，保证最佳的显影效果。8、控制好显影液，清水之液位。9、吹干风力应

13、保持向里侧5-6度。10、应定期清洗槽内和喷管，喷头中之水垢，防止杂质污染板材和造成显影液分布不均匀性。11、防止操作中产生卡板，卡板时应停转动装置，应立即停止放板，并拿出板材送至显影台中间， 如未完全显影，因进行二次显影。12、显影吹干后之板子应有吸水纸隔开，防止干膜粘连而影响到时刻品质。品质确认：完整性：显像后裸铜面以刀片轻刮不可有干膜残留。适当性：线路边缘，不可呈锯齿状或线路明显变细，翘起之现象，显像后，干膜线宽与底片线宽 需在+0.05/-0.05m内。表面品质：需吹干，不可有水滴残留。蚀刻剥膜：原理：蚀刻是在一定的温度条件下（45+5）蚀刻药液经过喷头均匀喷淋到铜箔的表面，与没有蚀

14、刻阻剂保护的铜发生氧化还原反应，而将不需要的铜反应掉，露出基材再经过剥膜处理后使线路 成形。蚀刻药液的主要成分：氯化铜，双氧水，盐酸，软水（溶度有严格要求） 品质要求及控制要点：1、不能有残铜，特别是双面板应该注意。2、不能有残胶存在，否则会造成露铜或镀层附着性不良3、时刻速度应适当，不允收出现蚀刻过度而引起的线路变细，对时刻线宽和总pitch应作为本站 管控的重点。4、线路焊点上之干膜不得被冲刷分离或断裂5、时刻剥膜后之板材不允许有油污，杂质，铜皮翘起等不良品质。6、放板应注意避免卡板，防止氧化。7、应保证时刻药液分布的均匀，以避免造成正反面或同一面的不同部分蚀刻不均匀。 制程管控参数：蚀刻

15、药水温度：45+/-5C双氧水的溶度：1.952.05mol/L剥膜药液温度：55+/-5C蚀刻机安全使用温度W55C烘干温度：75+/-5C前后板间距：510cm氯化铜溶液比重：1.21.3g/cm3放板角度、导板、上下喷头的开关状态盐酸溶度：1.92.05mol/L品质确认：线宽：蚀刻标准线为.2mm & 0.25mm，其蚀刻后须在+/-0.02mm以内。表面品质：不可有皱折划伤等以透光方式检查不可有残铜。线路不可变形无氧化水滴光泽锡铅一、制程中常见不良及其原因：1. 结合力差（附着力不良）。前处理不良；电流过大；有铜离子等得污染2. 镀层不够光亮。添加剂不够；锡铅比不当。3. 析气严重。游离酸过多；二价锡铅浓度太低。4. 镀层混浊。锡铅胶体过多，形成沉淀。5. 镀层发暗。阳极泥过多；铜箔污染。6. 镀锡厚度偏大。电镀时间偏大；7. 镀锡厚度偏小。电镀时间不够8. 露铜。有溢胶二、质量控制：1、首件检查必须用3M600或3M810胶