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1、wordPVD工艺 真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种外表处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层结实、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。 真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术、溅射镀膜包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术，这些方法统称物理气相沉积Physical Vapor Deposition， 简称为PVD。与之对应的化学气相沉积Chemical Vapor Deposition简称为
2、CVD技术。行业内通常所说的“IPion plating离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作 用，而统称为离子镀膜。在真空离子镀膜加工行业中，森科位居前列。 Vacuum plating is a surface treatment process where a coating is formed on a metal substrate. Coating can be metal (such as titanium or gold) or non-metallic material (graphite or crystal ) a
3、nd is applied by sputtering, evaporation or ion-plating in a vacuum. Vacuum plating offers many advantages pared with traditional chemical plating. It is environmentally friendly, non polluting, and not hazardous to operators. Vacuum plated films are stable, dense, uniform, and corrosion resistant.
4、There are two vacuum plating methods. One is CVD (Chemical Vapor Deposition). The other is PVD (Physical Vapor Deposition). PVD includes evaporation plating (arc, electronic gun and resistance wire) and sputtering plating (DC magnetron Mid-frequency and RF). Gas ions and metal ions play an important
5、 role in coating formation. In order to emphasize the ion function, PVD is generally referred to as IP (Ion Plating). Tritree is one of the leaders in the IP industryPVD加工工艺流程 一、前处理工艺: 二、上挂 -2-1帕 成膜 四、出炉 五、下挂 六、全检 PVD简介 1. PVD的含义 PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被
6、镀工件上的薄膜制备技术。 2. PVD镀膜和PVD镀膜机 PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。 近十多年来，真空离子镀膜技术的开展是最快的，它已经成为当今最先进的外表处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。 3. PVD镀膜技术的原理 PVD镀膜离子镀膜技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离
7、，利用电场的加速作用，使被蒸发物质与其反响产物沉积在工件上。 4. PVD镀膜膜层的特点 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性低摩擦系数、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类 PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型外表处理方法，它能够制备各种单一金属膜如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜TiN、ZrN、CrN、TiAlN和碳化物膜TiC、Ti),以与氧化物膜如TiO等)。 6. PVD镀膜膜层的厚度 m 5m 1m ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件外表的各种
8、物理性能和化学性能，镀后不须再加工。 7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类 PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜完毕后可以用相关的仪器对颜色进展测量，使颜色得以量化，以确定镀出的颜色是否满足要求。 8. PVD镀膜与传统化学电镀水电镀的异同 PVD镀膜与传统的化学电镀的一样点是，两者都属于外表处理的X畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的外表。两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件外表的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD
9、镀膜不会产生有毒或有污染的物质。 9. PVD镀膜技术目前主要应用的行业 PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀膜和工具镀膜。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命；这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的外表硬度和耐磨性，降低外表的摩擦系数，提高工件的使用寿命；这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等、各种五金工具如螺丝刀、钳子等、各种模具等产品中。 10. PVD镀膜离子镀膜技术的主要特点和优势 和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比拟，PVD离子镀膜具有如下优点：
10、 1 膜层与工件外表的结合力强，更加持久和耐磨 2 离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件 3 膜层沉积速率快，生产效率高4 可镀膜层种类广泛 5 膜层性能稳定、安全性高获得FDA认证，可植入人体 PVD清洗剂 PVD是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质与其反响产物沉积在工件上。 PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的开展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻
11、、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。 PVD在广度上的普与应用与深度上的持续开展要求其设备、工艺与清洗剂等专用物料具有高稳定性、适应性和可靠性。 作为环保型工业清洗剂的专家和引领者，山之风致力于为PVD提供全方位多品种的系列清洗剂，产品涵盖PVD全过程 推荐PVD清洗剂：WIN-91 WIN-92、WIN-136； WIN-91：本品是一种多功能高效水基清洗剂，含有多种外表活性剂、助剂，缓蚀剂。清洗能力强，配合超声波使用只需稀释57使用即可，本品主要用于清洗不锈钢工件上冲压油、切削油与抛光蜡的清洗，特别用于PVD前工件的精细清洗。 WIN-92：本品是一种多功能
12、高效水基清洗剂，含有多种外表活性剂、碱性助剂，渗透剂，除油能力强。可清洗各类机器与配零件上的油污、抛光蜡、指印，特别适用于PVD前工件的精洗。 WIN-93：本品是采用金属外表处理技术中最新配方，根据用户需要而推出的，具有良好的中和金属外表的碱性残留物、溶解油脂的能力，且使用方便安全，对大部份金属材料和饰面都没有影响，是PVD前优良清洗中和剂，主要用于PVD前工件精洗中的碱性中和，使漂洗更容易，工件外表更洁净PVD PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材外表上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能强度高、耐磨性、散热
13、性、耐腐性等的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能！ PVD根本方法：真空蒸发、溅射 1. PVD简介 PVD是英文Physical Vapor Deposition物理气相沉积的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质与其反响产物沉积在工件上。 2. PVD技术的开展 PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在
14、硬质合金、陶瓷类刀具中进展了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精细复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的开展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。 PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由第一代的TiN开展为TiC、Ti、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAl、TiN-AlN、x、DLC和taC等多元复合涂层。 3. 涂层的PVD技术
15、增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材外表的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。 过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。 磁控溅射：在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进展轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。 离子束DLC：碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上，沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好；离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄与多层结构，工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。 4,补充 物理气向沉积技术 * PVD 介绍 物理气相沉积具有金属
