微电子专用设备之一-无掩膜光刻技术

上传人:cn****1 文档编号:468684806 上传时间:2023-12-29 格式:DOC 页数:2 大小:16KB
返回 下载 相关 举报
微电子专用设备之一-无掩膜光刻技术_第1页
第1页 / 共2页
微电子专用设备之一-无掩膜光刻技术_第2页
第2页 / 共2页
亲,该文档总共2页,全部预览完了,如果喜欢就下载吧!
资源描述

《微电子专用设备之一-无掩膜光刻技术》由会员分享,可在线阅读,更多相关《微电子专用设备之一-无掩膜光刻技术(2页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、无掩膜光刻技术激光无掩膜光刻技术,又称激光直接成像技术(LDI,Laser Direct Imaging),是直接利用图形工作站输出的数据,驱动激光成像装置,在涂覆有光致抗蚀剂的基材上进行图形成像的技术。LDI可以实现不使用掩膜板,因此不仅可以降低成本,同时可以减少流程,节约制程时间。在传统印制电路板(PCB)生产中大约需要250分钟-300分钟,9个工序的制程,使用LDI支撑可以节约到5分钟,3个工序。但是由于存在生产效率,激光束准确度,准确度验证和检查,与现有成熟工艺兼容,重合误差等问题,在使用范围上仍受到一定限制,目前主要应用在PCB领域,在平板显示,半导体制程中,仍然难以进入量产阶段。

2、不同的LDI设备差别较大,主要看最小线宽和最大基材面积这两个指标。在图形质量方面,LDI受到激光能量和光线照射角度的影响。在生产率方面,影响LDI速度的主要有多面镜转动速度和计算机数据处理和输出效率。目前,LDI主要应用在电路板行业,尤其是HDI(高密度互联板)企业,主要用于小批量样品,随着高感光度干膜应用,LDI进入连线试用阶段,进而提高了效率。目前最小线宽可以做到10微米的范围。主要设备企业有以色列的奥宝,日本的富士,德国的海德堡等,中国国内企业主要有合肥芯碁微,中山新诺和大族激光等。根据大族激光2015年年报披露,2015年大族激光LDI设备营收达到2000万元。合肥芯碁微的Tripod系列可以应用于各类HDI、软板、软硬结合板等,内、外层与防焊生产曝光设备,其最小线宽/间距可达到30/30m,工作台尺寸为610800mm。随着可穿戴设备、智能手机等电子产品销量不断增长,对HDI产品的需求也在不断增长,由于增长态势属于缓慢增长,因此工厂大多采用升级更新,因此影响了LDI设备的快速增长。

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 建筑/环境 > 建筑资料

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号