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1、第一发明人技术问题联系人发明名称技术交底书编号：专利发明人填写手机座机（总机+分机）手机座机（总机+分机）一种柔性基板及基于该基板的邮箱邮箱OLED发明人填写关键词（35个）相关性分析（本领域现有技术的介绍，最好有最接近的现有技术的专利申请号或者专利号）中文柔性，有机电致发光器件，底发射，网状结构英文目前柔性OLED采用的阳极材料为PEDOT但是PEDOT勺导电性不佳，所以需要在电极下面制备电流汇集层，制备电流汇集层之后，阳极表面的平整性会受到影响，平整性太差会影响OLED的性能，甚至使OLED能点亮，专利201210076439.3介绍了一种制备超平滑阳极结构的柔性OLED的方法，本专利采用
2、在该专利的基础上加上沉积、曝光、显影等工艺使电流汇集层嵌入柔性衬底里面，获得拥有电流汇集层的平整的柔性衬底。摘要代表性附图本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的OLED该柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里面，该网状汇流层在保证高透过率的同时，提高了电流的传导能力，由于该柔性基底的制备工艺，使得该柔性衬底表面的粗糙度非常小，有利于载流子的注入，使得该柔性基底有利于提升OLED勺发光效率。基于该柔性基底的OLED包括柔性基底、阳极、有机层、阴极，阳极为导电高分子材料。技术领域（写明要求保护的技术方案所属的技术领域）本发明涉及一
3、种柔性基板及基于该基板的OLED属于光电子技术领域。背景技术（背景技术是指本技术交底书的基础技术或者方法或结构与本技术交底书最近似的技术。写明对技术方案的理解、检索有用的背景技术，有可能的，并引证反映这些背景技术的文件；记载现有技术的岀处，即参考文献、专利公开号，并且详细说明现有技术的实施情况；客观指岀现有技术的不足之处与存在的问题。）到目前为止，实际应用的显示器主要有阴极射线管（CRT，液晶显示器（LCD、真空荧光器件（VFD、等离子显示器（PDP、有机电致发光器件（OLED、场发射显示器（FED和电致发光显示器（ELD等。OLED作为新型的平板显示器与LCD相比，具有薄、轻、宽视角、主动发
4、光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点。OLED正是由于具有其他显示器不可比拟的优势以及美好的应用前景得到了产业界和科学界的极大关注。在OLED的各项功能层，电极材料的选择非常重要，大部分用于OLED的有机材料的LUMO能级在2.5eV-3.5eV,HOMO能级在5eV-6eV,因此阴极是一个低功函数的金属，阳极需要一个高功函数的材料去配合，才能得到最低的注入能垒，选择阳极材料时，要求良好的导电性、化学及形态的稳定性、功函数和空穴传输材料的HOM（能级匹配、可见光的透明度，最常用的透明导电聚合物为ITO,该类材料
5、拥有上述的优点，但是ITO也有相关的缺点，比如价格比较昂贵，而且有实验证明ITO会影响OLED的寿命，不仅如此，在柔性显示中，ITO的溅镀会影响柔性基底的平整性，柔性显示中，反复的折叠会导致ITO从基底表面脱落，进而影响OLED勺寿命PEDOT具有分子结构简单、能隙小、电导率高等特点，被广泛用作有机薄膜太阳能电池材料、OLED材料、电致变色材料、透明电极材料等领域的研究。PEDOT有以下这些优点：导电率高。用旋涂或者浇铸成膜得到的PEDOT其电导率能达到550S/cm，用气相聚合法得到的聚合物更是达到1000S/cm以上；（2）氧化状态下具有很高的稳定性。在120C下保持1000h，其电导率基
6、本不变；（3）氧化状态下，PEDOT勺薄层几乎是透明的，这是它在电子器件方面得到广泛应用的一个重要因素。采用一种水溶性的高分子电解质聚苯乙烯磺酸（PSS）掺杂解决了PEDOT的加工问题，获得的PEDOT/PSS膜具有高电导率、高机械强度、高可见光透射率和优越的稳定性等，PEDOT/PSS用作电极时，虽然相比于其它导电聚合物，导电率较高，但是相比于金属和ITO还是有一定差距，因此一般都会在底部增加一层电流汇集层，电流汇集层会增加阳极的导电性，降低OLED起始电压，但是也会导致阳极表面平整度降低，本发明增加了阳极表面的平整度，有助于增加阳极表面的载流子注入能力。发明内容要解决的技术问题和有益的技术
7、效果（尽可能多的列举本技术交底书相比较现有技术带来的有益技术效果，要与最接近现有技术进行对比描写）所有的实施方式（尽可能的多写几个优选的实施方式，。如果涉及产品结构，必须结合附图描述各部件及各部件的安装关系，给岀各部件的领域内专业名称，各部件名称在前后描述中要保持一致，并在各部件后加上附图标记。如果涉及方法或工艺流程，请详细描述方法工艺的步骤过程以及各步骤中所参与或应用到的部件名称及其结构；如果方法或工艺中涉及体现发明点的工艺制造条件，例如：温度、湿度等取值范围也需要尽可能地提供，并请提供流程附图，结合附图详细说明实施方式。）本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的OLED该柔性基板采用成膜、曝
8、光、旋涂和脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里面，该柔性基板有如下优点：1该柔性基板的制备工艺简单，使用该柔性基板的OLED可以采用导电高分子材料为阳极，有助于提升柔性OLED的使用寿命。含有电流汇集层，该电流汇集层有助于提升阳极的导电能力，当制备成OLED后,有助于降低器件的起始电压。表面平整度高，当制备成OLED后，使得阳极表面的平整度高，有助于提升载流子传输能力。本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的OLED该柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里面，该网状汇流层在保证高透过率的同
9、时，提高了电流的传导能力，该柔性基底的具体结构如下：该柔性基板的制作方法为：1）在洗干净的SiO2绝缘层的Si衬底上，采用蒸镀或者旋涂等方法沉积一层金属薄膜；2）采用曝光、刻蚀的方法将金属薄膜变成网状半透明结构；3）在金属半透明结构表面旋涂光敏聚合材料；4）对光敏聚合物材料进行紫外光处理使其固化；5）将固化后的光敏聚合物从衬底上剥离，得到带有金属网状半透明层的柔性基底。制备基底所用的光敏聚合材料体系包括苯乙烯类、丙烯酸类、丙烯酸酯类、环氧树脂类、不饱和聚酯类、酰胺类或醋酸乙烯类材料体系；每一光敏可聚合材料体系包括单体、预聚物和光引发剂；聚合类型是自由基型、阴离子型或阳离子型，光敏材料的旋涂厚度
10、为0.3-0.8mm。本发明不仅包括该柔性基底、该柔性基底的制备方法，而且包括基于该柔性基底的OLED该柔性OLED勺结构如图：所以基于该柔性基底的OLED的阳极可以采用比较薄的金属或者其他导电高分子材料。由于该柔性基底的制备工艺，使得该柔性衬底表面的粗糙度非常小，有利于阳极载流子的注入，使得该柔性基底有利于提升OLED勺发光效率。附图说明有关本发明的详细说明及技术内容，现配合附图说明如下：图1为该柔性基底的三维图图2本发明所述的柔性基底的制备流程；图3为基于该柔性衬底的OLED图4为圆形网状结构的柔性基底；图5为环形网状结构的柔性基底；（1为表面带有SiQ层的Si基板，21为刻蚀前的金属薄膜
11、层，22为刻蚀后的网状金属薄膜层，31为固化前的光敏聚合材料，32为固化后的光敏聚合材料，4为OLED阳极导电高分子材料，5为OLED有机层，6为OLED阴极）具体实施方式实施例1柔性基板的制备：1）在洗干净的SiO2绝缘层的Si衬底上，采用蒸镀或者旋涂等方法沉积一层金属薄膜Ag,厚度为20nm；2）采用曝光、刻蚀的方法将金属薄膜变成网状半透明结构，所述的网状结构为矩形网状结构，具体结构如图1所述；3）在衬底表面旋涂光刻胶NOA63旋涂速度为1000rpm,旋涂时间为20s,旋涂厚度为0.7mm；4）对光敏聚合物材料进行紫外光处理3min；5)由于金属材料与聚合物的粘着性大于金属材料与SiO2
12、的粘着性，将固化后的光敏聚合物从衬底上剥离，得到带有金属网状半透明层的柔性基底。OLED的制备：本发明柔性衬底/PED0T:PSS(40nm)/EML(7Onm)/TPBI(30nm)/CsF(1.5nm)/AL(120nm)，EML共混比例为，PVK:PBD:FIrpic=70:30:1A) 在柔性衬底表面旋涂一层PEDOT:PSS膜，蒸镀厚度为100nm。B) 旋涂过PEDOT:PSS勺基片在真空烘箱里80C干燥8h后，转移至充满氮气的手套箱里制作发光层，实验中所用PVKPBD用氯苯溶解，旋涂厚度为70nm,PVKPBD与铱配合物的比例为PVK:PBD:FIrpic=70:30:1。C)
13、在小于3x104Pa的高真空下，以热蒸发沉积的方式，蒸镀约厚的CsF(1.5nm)/AI(120nm)作为阴极。实施例2具体的实施方法与实施例1类似，不同的是网状结构为圆形网状结构，如图4所述。实施例3具体的实施方法与实施例1类似，不同的是网状结构为环形网状结构，如图5所述。最后应说明的是，以上实施例子仅用以说明本新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例子对本专利进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，按照需要可以使用不冋的材料和设备实现之，即可以对本新型的技术方案进行修改或者等冋替换，而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围。可替代的技术方案(可完成与上述技术方案冋样功能实现冋样效果的
14、技术方案)(如果有请写岀替代方案的要点、优缺点；如果没有请填写“无”)附图(用图片正确地表示发明内容。附图统一用图1、图2、图3.在每幅附图下方标示；对图片内容，采用阿拉伯数字1、2、3等附图标记对每幅附图中的部件进行标示；多幅附图时，各附图中的同一技术特征或同一对象，应使用同一个标记。在所有附图绘制完成后，统一填写附图说明和附图标记，用cad格式。)图1为该柔性基底的三维图图2本发明所述的柔性基底的制备流程;2232AJQWJDOOOOOOCDOOOOOOCDOOOOOOCDOOOOOOCDOOOOOOCDOOOOOOC图4为圆形网状结构的柔性基底;图5为环形网状结构的柔性基底;着重保护的技
15、术创新点（根据上述填写内容，说明本技术交底书着重保护的技术创新点，即最主要的发明点）1. 本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的OLED该柔性基底的具体结构如下:2. 如权利要求书1所述的柔性基板，其特征在于该柔性基板的制作方法为：1）在洗干净的SiO2绝缘层的Si衬底上，采用蒸镀或者旋涂等方法沉积一层金属薄膜;2）采用曝光、刻蚀的方法将金属薄膜变成网状半透明结构；3）在金属半透明结构表面旋涂光敏聚合材料；4）对光敏聚合物材料进行紫外光处理使其固化；5）将固化后的光敏聚合物从衬底上剥离，得到带有金属网状半透明层的柔性基底。如权利要求书1和2所述的柔性基底，其特征在于制备基底所用的光敏聚合材料体系包括苯乙烯类、丙烯酸类、丙烯酸酯类、环氧树脂类、不饱和聚酯类、酰胺类或醋酸乙烯类材料体系；每一光敏可聚合材料体系包括单体、预聚物和光引发剂；聚合类型是自由基型、阴离子型或阳离子型，光敏材料的旋涂厚度为0.3-0.8mm。本发明不仅包括该柔性基底、该柔性基底的制备方法，而且包括基于该柔性基底的OLED该柔性OLED的结构如图：3. 如权利要求书4所述的基于该柔性基底的OLED其特征在于该OLED采用的阳极为导电高分子材料。
