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1、有机化学复习总结一有机化合物的命名 1. 可以用系统命名法命名多种类型化合物:涉及烷烃,烯烃,炔烃,烯炔,脂环烃(单环脂环烃和多环置换脂环烃中的螺环烃和桥环烃),芳烃,醇,酚,醚,醛,酮,羧酸,羧酸衍生物(酰卤,酸酐,酯,酰胺),多官能团化合物(官能团优先顺序:COOHSO3HCOORCOXCNCHOCOOH(醇)OH(酚)SHNH2ORCCCC(RXNO2),并可以判断出Z/E构型和R/S构型。 2. 根据化合物的系统命名,写出相应的构造式或立体构造式(伞形式,锯架式,纽曼投影式,Fischer投影式)。 立体构造的表达措施:1)伞形式:2)锯架式:3) 纽曼投影式:4)菲舍尔投影式:5)构
2、象(conformation) (1) 乙烷构象:最稳定构象是交叉式,最不稳定构象是重叠式。(2) 正丁烷构象:最稳定构象是对位交叉式,最不稳定构象是全重叠式。(3) 环己烷构象:最稳定构象是椅式构象。一取代环己烷最稳定构象是e取代的椅 式构象。多取代环己烷最稳定构象是e取代最多或大基团处在e键上的椅式构象。立体构造的标记措施1. Z/E标记法:在表达烯烃的构型时,如果在顺序规则中两个优先的基团在同一侧,为Z构型,在相反侧,为E构型。2、 顺/反标记法:在标记烯烃和脂环烃的构型时,如果两个相似的基团在同一侧,则为顺式;在相反侧,则为反式。 3、 R/S标记法:在标记手性分子时,先把与手性碳相连
3、的四个基团按顺序规则排序。然后将最不优先的基团放在远离观测者,再以次观测其他三个基团,如果优先顺序是顺时针,则为R构型,如果是逆时针,则为S构型。注:将伞状透视式与菲舍尔投影式互换的措施是:先按规定书写其透视式或投影式,然后分别标出其R/S构型,如果两者构型相似,则为同一化合物,否则为其对映体。二. 有机化学反映及特点1. 反映类型还原反映(涉及催化加氢):烯烃、炔烃、环烷烃、芳烃、卤代烃氧化反映:烯烃的氧化(高锰酸钾氧化,臭氧氧化,环氧化);炔烃高锰酸钾氧化,臭氧氧化;醇的氧化;芳烃侧链氧化,芳环氧化)2. 有关规律1) 马氏规律:亲电加成反映的规律,亲电试剂总是加到连氢较多的双键碳上。2)
4、 过氧化效应:自由基加成反映的规律,卤素加到连氢较多的双键碳上。3) 空间效应:体积较大的基团总是取代到空间位阻较小的位置。4) 定位规律:芳烃亲电取代反映的规律,有邻、对位定位基,和间位定位基。5) 查依切夫规律:卤代烃和醇消除反映的规律,重要产物是双键碳上取代基较多的烯烃。6) 休克尔规则:判断芳香性的规则。存在一种环状的大键,成环原子必须共平面或接近共平面,电子数符合4n+2规则。7) 霍夫曼规则:季铵盐消除反映的规律,只有烃基时,重要产物是双键碳上取代基较少的烯烃(动力学控制产物)。当碳上连有吸电子基或不饱和键时,则消除的是酸性较强的氢,生成较稳定的产物(热力学控制产物)。8) 基团的
5、“顺序规则”3. 反映中的立体化学 烷烃:烷烃的自由基取代:外消旋化 烯烃:烯烃的亲电加成: 溴,氯,HOBr(HOCl),羟汞化-脱汞还原反映-反式加成 其他亲电试剂:顺式+反式加成 烯烃的环氧化,与单线态卡宾的反映:保持构型 烯烃的冷稀KMnO4/H2O氧化:顺式邻二醇 烯烃的硼氢化-氧化:顺式加成 烯烃的加氢:顺式加氢 环己烯的加成(1-取代,3-取代,4-取代) 炔烃:选择性加氢:Lindlar催化剂-顺式烯烃Na/NH3(L)-反式加氢 亲核取代: SN1:外消旋化的同步构型翻转 SN2:构型翻转(Walden翻转) 消除反映: E2,E1cb: 反式共平面消除。 环氧乙烷的开环反映
6、:反式产物 四概念、物理性质、构造稳定性、反映活性 (一).概念1. 同分异构体2. 试剂亲电试剂:简朴地说,对电子具有亲合力的试剂就叫亲电试剂(electrophilic reagent)。亲电试剂一般都是带正电荷的试剂或具有空的p轨道或d轨道,可以接受电子对的中性分子,如:H、Cl、Br、RCH2、CH3CO、NO2、SO3H、SO3、BF3、AlCl3等,都是亲电试剂。亲核试剂:对电子没有亲合力,但对带正电荷或部分正电荷的碳原子具有亲合力的试剂叫亲核试剂(nucleophilic reagent)。亲核试剂一般是带负电荷的试剂或是带有未共用电子对的中性分子,如:OH、HS、CN、NH2、
7、RCH2、RO、RS、PhO、RCOO、X、H2O、ROH、ROR、NH3、RNH2等,都是亲核试剂。自由基试剂: Cl2、Br2是自由基引起剂,此外,过氧化氢、过氧化苯甲酰、偶氮二异丁氰、过硫酸铵等也是常用的自由基引起剂。少量的自由基引起剂就可引起反映,使反映进行下去。3. 酸碱的概念布朗斯特酸碱:质子的给体为酸,质子的受体为碱。Lewis酸碱:电子的接受体为酸,电子的给与体为碱。4. 共价键的属性键长、键角、键能、键矩、偶极矩。5. 杂化轨道理论sp3、sp2、sp杂化。6. 旋光性平面偏振光:手性:手性碳:旋光性:旋光性物质(光学活性物质),左旋体,右旋体:内消旋体、外消旋体,两者的区别
8、:对映异构体,产生条件:非对映异构体:苏式,赤式:差向异构体:Walden翻转: 7. 电子效应 1) 诱导效应 2) 共轭效应(-共轭,p-共轭,-p 超2共轭,-超共轭。 3) 空间效应8. 其他内型(endo), 外型(exo): 顺反异构体,产生条件:烯醇式:(二). 物理性质 1. 沸点高下的判断? 不同类型化合物之间沸点的比较; 同种类型化合物之间沸点的比较。 2. 熔点,溶解度的大小判断?3. 形成有效氢键的条件,形成分子内氢键的条件:(三). 稳定性判断1. 烯烃稳定性判 R2C=CR2 R2C=CHR RCH=CHR(E-构型) RCH=CHR(Z-构型) RHC=CH2 C
9、H2=CH2 2. 环烷烃稳定性判断 3. 开链烃构象稳定性4. 环己烷构象稳定性 5. 反映中间体稳定大小判断(碳正离子,碳负离子,自由基)碳正离子的稳性顺序:自由基稳定性顺序: 碳负离子稳定性顺序: 6. 共振极限构造式的稳定性判断(在共振杂化体中奉献限度): (四)酸碱性的判断 1. 不同类型化合物算碱性判断 2. 液相中醇的酸性大小 3. 酸性大小的影像因素(吸电子基与推电子基对酸性的影响):(五)反映活性大小判断 1. 烷烃的自由基取代反映 X2的活性:F2 Cl2 Br2 I2 选择性:F2 Cl2 Br2 R2C=CHR RCH=CHR RCH=CH2 CH2=CH2 CH2=C
10、HX 3. 烯烃环氧化反映活性 R2C=CR2 R2C=CHR RCH=CHR RCH=CH2 CH2=CH2 4. 烯烃的催化加氢反映活性:CH2=CH2 RCH=CH2 RCH=CHR R2C=CHR R2C=CR2 5. Diles-Alder反映 双烯体上连有推电子基团(349页),亲双烯体上连有吸电子基团,有助于反映进行。 例如: 下列化合物 A. ; B. ; C. ; D. 与异戊二烯进行Diels-Alder反映的活性强弱顺序为: 。 6. 卤代烃的亲核取代反映 SN1 反映:SN2 反映:成环的SN2反映速率是:v五元环 v六元环 v中环,大环 v三元环 v四元环 7. 消除
11、反映 卤代烃碱性条件下的消除反映-E2消除 RI RBr RCl 醇脱水-重要E1 8. 芳烃的亲电取代反映 芳环上连有活化苯环的邻对位定位基(给电子基)-反映活性提高 芳环上连有钝化苯环的间位定位基(吸电子基)或邻对位定位基-反映活性下降。 例如:下列芳香族化合物: A. B. C. D. 硝化反映的相对活性顺序为 。例如: 萘环的 A. 位; B. 位 ; C. 氯苯 ; D. 苯在亲电取代反映中相对活性顺序为为 。例如:下列各化合物中,最容易与浓硫酸发生磺化反映的是( )。 A. ; B. ; C. ; D. (六)其他1. 亲核性的大小判断:2. 试剂的碱性大小:3. 芳香性的判断:4
12、. 定位基定位效应强弱顺序:邻、对位定位基:ON(CH3)2NH2OHOCH3NHCOCH3R OCOCH3C6H5FClBrI间位定位基:NH3NO2CNCOOHSO3HCHOCOCH3COOCH3CONH2五、活性中间体与反映类型、反映机理反映机理:1. 自由基取代反映机理中间体:自由基反映类型:烷烃的卤代,烯烃、芳烃的H卤代。2. 自由基加成反映机理中间体:自由基:反映类型:烯烃、炔烃的过氧化效应。3. 亲电加成反映机理中间体:环鎓离子(溴鎓离子,氯鎓离子)反映类型:烯烃与溴,氯,次卤酸的加成中间体:碳正离子,易发生重排。反映类型:烯烃的其他亲电加成(HX,H2O,H2SO4,B2H6,羟汞化-去汞还原反映)、炔烃的亲电加成,小环烷烃的开环加成,共轭二烯烃的亲电加成。或环鎓离子): 4. 亲电取代反映机理:中间体:-络合物(氯代和溴代先生成络合物)反映类型:芳烃亲电取代反映(卤代,硝化,磺化,烷基化,酰基化,氯甲基化)。 5. 亲核加成反映机理:中间体:碳负离子反映类型:炔烃的亲核加成6. 亲核取代反映机理:SN1反映中间体:碳正离子,易发生重排。反映类型:卤代烃和醇的亲核取代(重要是3),醚键断裂反映(3烃基生成的醚)。SN2反映 中间体:无(通过过渡态直接生成产物) 反映类型:卤代烃和醇的亲