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挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数

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慧胴网战略联盟www.hc360 .com挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数属于磨料流动加工过程,不但可以进行光整加工还可以去毛刺, 效果非常好一、基本原理将含有磨料的油泥状黏弹性高分子介质组成的黏弹性抛光剂,用 一定的压力挤过被加工表面,实现磨粒对表面的微切削加工,去 除表面微观不平的工艺方法是一种微磨削或刮削的工艺方法二、特点1一上磨室;2—上活塞;3—研磨抛光剂;4一夹具;5一工件;6—下磨室;7—下活塞图7-15挤压研磨抛光的加工过程1、 适用范围广;2、 抛光效果好;如线切割表面,抛光后尺寸 精度达0.01-0.0025mm,表面 粗糙度达0.04-0.05 Mmo3、 抛光效率高抛光余量微0.01-0.1mm则需要几分钟或十几分钟三、黏弹性研磨抛光剂和设备这种抛光剂称为黏性磨料 抛光机多为立式对置活塞式,通过两活塞的运动使抛光剂上下流动挤压研磨抛光的央具必须具备以下作用:① 定位和央紧作用;磨料磨具产业创新及资源整合服务平台The industrial i nnovation of t he abrasive tools and the service platform of resources i ntegration慧胴网战略联盟www.hc360 .com② 容纳和引导研磨抛光剂通过零件需要抛光的部位;③ 阻止和保证研磨抛光剂不流过不需要加工的部位。

必须根据加工零件的形状和尺寸、研磨抛光的需要合理进行研磨央具的设计如图7-16为常用夹具形式b)d)1—模具;2—夹具图7-16挤压研磨抛光夹具a)阶梯型孔;b)凸模;c),d)型腔四、工艺参数(1) 磨料的种类、粒度和研磨抛光剂中的含量根据加工零件材料的类型和要求决定2) 研磨抛光剂的黏度完全是抛光采用高黏度,有去毛刺或倒圆性质的选用中磨料磨具产业创新及资源整合服务平台The industrial i nnovation of t he abrasive tools and the service platform of resources i ntegration慧胴网战略联盟www.hc360 . comJVZ/IB商网修升器皿—■V,等黏度的研磨抛光剂3) 挤压压力根据机床能力,有低到高,一般机床能力为700-2000kPa(4) 速度或流量在机床范围内选取,一般为7 —225L/min参考资料: industrial i nnovation of t he a brasive tools a nd t he service p latform of resources i ntegration中国•深圳市龙岗区中心城吉祥中路风临国际中心A2905-A2907(客服)400-668-9835 (商务)0755-33277999 (编辑)33277989:0755-33277977雁 真info@ bianjibu@:邮箱。

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