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1、泓域咨询/半导体研磨片分析报告目录第一章 背景及必要性8一、 半导体硅片行业基本风险特征8二、 半导体硅片及下游市场规模9三、 半导体硅片驱动因素15四、 营造开放包容大环境15五、 建设现代特色园区17六、 项目实施的必要性18第二章 市场分析19一、 半导体硅片技术发展19二、 半导体硅片行业特征20三、 半导体硅片行业发展21第三章 项目概况23一、 项目名称及建设性质23二、 项目承办单位23三、 项目定位及建设理由24四、 报告编制说明26五、 项目建设选址28六、 项目生产规模28七、 建筑物建设规模28八、 环境影响28九、 项目总投资及资金构成28十、 资金筹措方案29十一、
2、项目预期经济效益规划目标29十二、 项目建设进度规划30主要经济指标一览表30第四章 产品方案分析32一、 建设规模及主要建设内容32二、 产品规划方案及生产纲领32产品规划方案一览表33第五章 选址可行性分析35一、 项目选址原则35二、 建设区基本情况35三、 提升融合创新水平38四、 项目选址综合评价39第六章 SWOT分析40一、 优势分析（S）40二、 劣势分析（W）42三、 机会分析（O）42四、 威胁分析（T）44第七章 发展规划47一、 公司发展规划47二、 保障措施53第八章 法人治理55一、 股东权利及义务55二、 董事57三、 高级管理人员60四、 监事63第九章 安全生
3、产分析66一、 编制依据66二、 防范措施68三、 预期效果评价71第十章 人力资源分析72一、 人力资源配置72劳动定员一览表72二、 员工技能培训72第十一章 原辅材料供应、成品管理75一、 项目建设期原辅材料供应情况75二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理75第十二章 环境保护分析77一、 编制依据77二、 环境影响合理性分析78三、 建设期大气环境影响分析79四、 建设期水环境影响分析80五、 建设期固体废弃物环境影响分析80六、 建设期声环境影响分析81七、 环境管理分析81八、 结论及建议83第十三章 投资估算85一、 编制说明85二、 建设投资85建筑工程投资一览表86主要设备
4、购置一览表87建设投资估算表88三、 建设期利息89建设期利息估算表89固定资产投资估算表90四、 流动资金91流动资金估算表91五、 项目总投资92总投资及构成一览表93六、 资金筹措与投资计划93项目投资计划与资金筹措一览表94第十四章 经济效益分析95一、 经济评价财务测算95营业收入、税金及附加和增值税估算表95综合总成本费用估算表96固定资产折旧费估算表97无形资产和其他资产摊销估算表98利润及利润分配表99二、 项目盈利能力分析100项目投资现金流量表102三、 偿债能力分析103借款还本付息计划表104第十五章 项目招投标方案106一、 项目招标依据106二、 项目招标范围106
5、三、 招标要求106四、 招标组织方式109五、 招标信息发布112第十六章 总结评价说明113第十七章 补充表格116建设投资估算表116建设期利息估算表116固定资产投资估算表117流动资金估算表118总投资及构成一览表119项目投资计划与资金筹措一览表120营业收入、税金及附加和增值税估算表121综合总成本费用估算表121固定资产折旧费估算表122无形资产和其他资产摊销估算表123利润及利润分配表123项目投资现金流量表124本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 背景及必要性一、 半导体硅片行业基
6、本风险特征（一）半导体硅片市场风险行业需求与下游终端应用领域行业的景气度紧密相关。例如，2009年，受经济危机的影响，半导体硅片行业下游传统应用领域景气程度下降，导致行业利润水平明显降低。2017年开始，伴随着5G、物联网、人工智能、云计算、新能源车等新兴市场快速发展带来半导体终端市场强劲需求，硅片行业景气度总体保持快速上升趋势。行业呈现周期性变化。如果未来全球经济出现经济增速放缓、甚至衰退的情况，下游行业的市场需求量可能下降，将导致半导体产业陷入发展低谷。（二）半导体硅片技术风险从全球来看，半导体产业中的半导体硅材料行业具有高度垄断性，国际大厂依靠最先进的半导体硅片制造技术，特别是在8英寸和
7、12英寸大尺寸硅片市场具有垄断地位。我国半导体相关产业起步较晚，发展时间较短，虽在半导体硅材料领域通过自主研发、引进吸收等方式已经取得了很大进步，但总体技术水平和制造能力相对发达国家还存在着一定差距。如果行业内企业在半导体硅片方面的技术更新无法追赶国际领先水平，或不能快速将行业的新技术运用于产品的开发和升级，导致与国际领先技术水平的差距将被会进一步拉大。（三）半导体硅片人才竞争风险我国半导体硅片产业起步较晚，国内关键技术人才非常稀缺。企业核心技术人员的技术水平和研发能力是企业得以长期保持技术优势的关键。国内半导体硅片行业的持续发展亦会导致人才竞争不断加剧，因此，若行业内企业关键技术人才大量流失
8、，将对行业内企业的研发技术和盈利能力造成重大不利影响。（四）半导体硅片原材料价格波动风险硅片企业的主要原材料有多晶硅、石英坩埚、石墨件、包装盒、切磨材料、抛光材料等，其价格波动将直接影响行业产品的生产成本，继而影响行业毛利率水平。虽然行业内企业可通过采取技术创新、生产流程优化以及扩大产能实现规模经济等措施化解原材料成本上涨的压力，但仍存在原材料上升的风险，这对行业企业的正常生产与盈利能力将产生不利影响。二、 半导体硅片及下游市场规模5G技术的应用，人工智能的发展，云计算数据量和终端电子产品需求大幅增加，以及新冠肺炎疫情蔓延带动居家办公、居家娱乐等信息化生活方式，促进了消费电子需求回升，各类半导
9、体需求反弹，供需矛盾从芯片制造领域传导至上游硅片环节。据SEMI统计，2021年全球半导体硅片出货面积达到1416亿平方英寸，硅片市场规模达到1262亿美元，创历史新高。SEMI报告显示，全球半导体硅片出货面积有望在2023年攀升至更高水平。2014年起，随着中国各半导体制造商生产线投产、中国半导体制造技术的不断进步与半导体终端产品市场的发展，中国大陆半导体硅片市场步入了发展的快车道。产能方面，据ICInsights统计数据，2018年中国硅晶圆产能243万片/月（等效于8英寸硅片），中国大陆硅晶圆产能占全球硅晶圆产能125%。据ICInsights对未来产能扩张预测，2022年中国大陆晶圆厂
10、硅晶圆产能将达410万片/月，占全球产能1715%，2018至2022年，年复合增长率为2293%。因此，中国半导体硅片的销售额将随着下游晶圆厂的扩产而打开提升空间。根据SEMI数据，2015年中国半导体硅材料市场规模为1016亿元，2021年增长至2505亿元，2015年至2021年复合增长率达到162%。国内半导体硅材料生产企业技术水平不断提升，中国市场占比维持较高水平。即便如此，中国硅片市场90%左右的市场仍由日本信越化学、SUMCO、德国Siltronic、中国台湾环球晶圆等国际巨头占据，国产化率水平仍旧较低。以直径计算，半导体硅片的尺寸规格主要有2英寸（50mm）、3英寸（75mm）
11、、4英寸（100mm）、5英寸（125mm）、6英寸（150mm）、8英寸（200mm）与12英寸（300mm）等；根据用途分类，半导体硅片可分为抛光片、退火片、外延片、结隔离片和以SOI硅片为代表的高端硅片。其中，抛光片是用量最大的产品，其他的硅片产品都是在抛光片的基础上二次加工产生的。在摩尔定律的影响下，半导体硅片正在不断向大尺寸的方向发展。硅片尺寸越大，在单片硅片上制造的芯片数量就越多，单位芯片的成本随之降低。同时，在圆形的硅片上制造矩形的芯片会使硅片边缘处的一些区域无法被利用，必然会浪费部分硅片。硅片的尺寸越大，相对而言硅片边缘的损失会越小，有利于进一步降低芯片的成本。例如，在同样的工
12、艺条件下，12英寸半导体硅片的可使用面积超过8英寸硅片的两倍以上，可使用率（衡量单位晶圆可生产的芯片数量的指标）是8英寸硅片的25倍左右。半导体硅片尺寸越大，对半导体硅片的生产技术、设备、材料、工艺的要求越高。全球范围内，2008年以前，半导体硅片中8英寸占比最高；2008年12英寸硅片首次超过8英寸硅片的市场份额。得益于移动通信、计算机等终端市场持续快速发展，12英寸硅片出货面积自2000年以来市场份额逐步提高，从9，400万平方英寸扩大至2021年的9598亿平方英寸，市场份额从169%大幅提升至6847%，成为半导体硅片市场主流的产品，预计到2022年市场份额将接近70%。2011年至2
13、019年，8英寸半导体硅片市场占有率稳定在25%至27%之间，其中2016年至2017年，由于汽车电子、智能手机用指纹芯片、液晶显示器市场需求快速增长，8英寸硅片出货面积从2，69000百万平方英寸上升至3，08500百万平方英寸，同比增长1468%；2018年，受益于汽车电子、工业电子、物联网等应用领域需求依旧强劲，以及功率器件、传感器等生产商8英寸产能增加，带动8英寸硅片继续保持增长。2021年8英寸硅片出货面积达到3，443百万平方英寸，增长了1687%。目前，全球市场主流的产品是8英寸、12英寸直径的半导体硅片，占全球半导体硅片出货量的90%以上，下游芯片制造行业的设备投资也与8英寸和
14、12英寸规格相匹配。核心技术方面，为了满足12英寸硅片较高的技术指标要求，厂商需要投入更大的研发成本，在单晶生长、硅片加工及硅片清洗等方面实现技术突破。例如，对于单晶生长相关核心技术，12英寸硅单晶生长需要采用更大尺寸的热场设计、更高磁场强度的超导磁场；对于硅片加工相关核心技术，厂商需要增加掌握磨削工艺及双面抛光等相关核心技术，并调整其与原有工艺的匹配性；对于硅片清洗相关核心技术，12英寸硅片在传统多片清洗技术的基础上开始引入单片清洗技术。生产设备及投资规模方面，12英寸硅片的生产工艺更为复杂，一方面增加了如粗磨削机、精磨削机、双面抛光机等12英寸硅片制造的特需设备，另一方面设备的精度要求比8
15、英寸更高。同时，12英寸加工设备大多采用单片加工方式，与8英寸加工设备大多采用批加工方式相比，同样的产量需要投入更多数量的设备，故设备投资也会较8英寸产线有大幅增加。8英寸硅抛光片主要应用于90nm以上制程范围的模拟电路、功率芯片、CMOS图像传感器、微控制器（MCU）、射频前端芯片、嵌入式存储器等芯片，这些芯片的应用场景包括微机电系统（MEMS）、电源管理、汽车电子、工业控制、物联网等领域；12英寸硅抛光片主要应用于28nm及以下半导体制程范围制造逻辑电路、存储器等高集成度的芯片，这些芯片多在大计算量、大存储量或便携式终端上应用，其中需求占比最大的终端应用为智能手机，其次为数据中心、PC/平板电脑等。按照下游产品来分，全球8英寸晶圆代工产能中模拟芯片占比最高，达到23%，MOSFET、光电器件、分立器件占比分别为21%、17%和16%；12英寸晶圆应用结构中，存储芯片占比最高，达到了3
