原子层沉积镀膜系统项目质量管理总结

原子层沉积镀膜系统项目 质量管理总结 目录 一、 产业环境分析 3 二、 光伏设备行业 5 三、 必要性分析 7 四、 项目基本情况 8 五、 质量数据与分布规律 15 六、 过程质量控制的特点 18 七、 过程能力 24 八、 过程能力的计算和评价 25 九、 质量形成的过程 27 十、 质量职能 30 十一、 生产过程的质量控制 34 十二、 工艺准备质量管理 39 十三、 进度规划方案 47 项目实施进度计划一览表 47 十四、 经济效益评价 49 营业收入、税金及附加和增值税估算表 50 综合总成本费用估算表 51 利润及利润分配表 53 项目投资现金流量表 55 借款还本付息计划表 57 一、 产业环境分析 “十三五”时期，按照全面建成小康社会的要求，综合考虑我市发展趋势、发展基础、主要任务和增长潜力，今后五年，要在已经确定的全面建成小康社会目标任务的基础上，努力实现以下新的发展目标。 ——经济保持健康稳定增长。在加快转变经济发展方式、促进经济结构转型升级、产业发展迈向中高端水平的基础上，实现经济增长和城乡居民收入增速高于全国全省平均水平，到2017年生产总值比2010年翻一番，2020年达到3050亿元，在全省的经济首位度提高到30%以上；经济结构更加合理，第三产业、战略性新兴产业、非公有制经济占全市生产总值的比重分别达65%、16%、60%以上；文化旅游产业成为支柱性产业，文化和旅游产业增加值分别占全市GDP的8%以上和5%以上；兰白科技创新改革试验区加快发展，研究与开发支出占生产总值比重达到2.6%以上，科技进步贡献率达到60%以上，城市核心竞争力明显增强。 ——人民生活水平和质量大幅提升。新型城镇化发展步伐加快，常住人口城镇化率、户籍人口城镇化率分别达到85%、80%。现代农业取得明显进展，城乡居民收入差距逐步缩小，城镇居民人均可支配收入达到43625元，年均增长10%；农村居民人均可支配收入达到15750元，年均增长10.2%。现行标准下农村贫困人口实现脱贫，贫困县全部摘帽，实现全市整体脱贫。就业、教育、文化、社保、医疗、住房等公共服务体系更加健全，城镇新增就业达到25万人，城乡基本养老保险和基本医疗保险基本实现全覆盖，全民参保登记率100%，人均预期寿命提高到74.5岁，基本公共服务均等化水平稳步提高，各项社会事业协调推进，主要劳动年龄人口平均受教育年限达到11年以上，新增劳动力平均受教育年限达到13年以上。 ——城市规划建设管理水平显著提高。四版城市规划、经济社会发展规划、土地利用总体规划执行更加协调配套。交通突破行动深入实施，铁路、公路、航空等综合交通运输体系建设取得重大突破。城市路、桥、管、网和轨道交通加快建设，建成“139”路网体系；轨道1、2号线一期工程竣工，轨道3号、4号线一期工程全线开工；建成地下综合管廊100公里以上；建成5万个公共停车泊位，4.5万个公共立体停车位；建成50座以上景观天桥地道，城区交通拥堵得到有效缓解。加强公共服务设施和公共基础设施建设，不断提升城市综合承载力，城市供水普及率达到100%以上，污水处理率达到100%。 ——城市文明程度明显提升。弘扬优秀传统文化，大力推进立德树人。中国梦和社会主义核心价值观更加深入人心，人民思想道德素质、科学文化素质、健康素质明显提高，公共文化服务体系基本建成，全社会法治意识不断增强。“五城联创”取得重大突破，努力争取全国文明城市和园林城市创建成功。 二、 光伏设备行业 （一）光伏设备行业发展情况 按照光伏电池产业链，可将光伏设备分为硅片设备、电池片设备、组件设备，其中硅片设备主要包括多晶铸锭炉、单晶炉、切片机、切断机、硅片检测分选设备等；电池片设备主要包括清洗制绒设备、扩散炉、刻蚀设备、镀膜设备、激光开槽设备、丝网印刷机等；组件设备主要包括划片机、自动串焊机、自动叠层设备、层压机、自动包装机等。 我国光伏电池设备制造企业通过工艺与装备的创新融合，以提高设备产能、自动化程度及转换效率为目标，同时适应大硅片生产，已具备了成套工艺设备的供应能力，基本实现设备国产替代，并在国际竞争中处于优势地位。自2010年以来，中国一直是全球最大的光伏设备市场。 2018年，我国光伏设备产业规模达到了220亿元。2019年达到了250亿元，同比增长13．6%。2020年，光伏设备产业规模超过280亿元，在新冠疫情等客观不利因素的影响下仍保持增长。2021年，随着光伏企业产能扩张的计划发布，相关设备厂商订单不断增加，我国光伏设备产业规模超过400亿元。在光伏行业降本增效的发展趋势推动下，新产品、新技术层出不穷，相应量产和扩产需求催生更多的生产设备需求，在国内巨大市场需求拉动下，光伏设备厂商收入快速增长。 （二）光伏薄膜沉积设备应用情况 光伏薄膜沉积设备主要应用于太阳能晶硅电池片的制造环节，根据电池不同工艺和所需的薄膜性质，所采用的薄膜沉积设备会有所不同。2018年-2021年，我国新建成产线基本全部为PERC产线，针对目前已经大规模生产的PERC电池生产技术，生产设备基本实现国产化，其中薄膜沉积设备主要用于PERC电池的钝化和减反膜的制备。 对于新型高效电池来说，目前产业化前景最为明确的TOPCon电池和HJT电池对于薄膜沉积的需求更高。TOPCon电池生产线可以由PERC电池生产线升级改造实现，除原薄膜沉积需求外，还增加了隧穿层和掺杂多晶硅层镀膜需求。HJT电池整体结构变化较大，其制造环节只需4大类设备，分别是制绒清洗设备（投资占比10%）、非晶硅沉积设备（投资占比50%）、透明导电薄膜设备（投资占比25%）和印刷设备（投资占比15%），其中非晶硅沉积设备、透明导电薄膜设备均需要用到薄膜沉积设备。 在TOPCon电池关键工艺步骤隧穿层和多晶硅层的制备中，LPCVD为起步较早的技术路线，但市场推广进程较慢，主要因为其存在绕镀严重、成膜速率低、需二次掺杂过程繁琐、后期运营成本高等尚未解决的技术难题。 （三）光伏薄膜设备发展趋势 现阶段，下游光伏行业发展已经由过去的粗放式、外延式发展向精细化、内涵式发展转变，高效率、低成本的产品受到行业的青睐，产品升级需求进一步提高。光伏企业从传统重视规模效益、依赖补贴，逐步转向对高效率、高性能、高品质的光伏产品的追求。在市场化愈发重要的背景下，各种技术的创新，将会催生出更多的设备需求。 设备研制与新型工艺技术开发相结合成为趋势。以提高转换效率为目的采用新型工艺的电池片生产将采取设计、制造、工艺开发、设备开发与改进联合进行的方式，上下游紧密合作，既缩短设备的开发周期，同时促进先进工艺的应用，也能降低设备采购成本，进一步提高国内光伏企业的市场竞争力。 由于TOPCon电池生产线可以由现有PECR电池生产线升级改造完成，而且目前TOPCon电池生产线单位投资规模和运营成本明显低于HJT电池生产线，因此TOPCon电池生产线在N型电池线建设中进展显著。 三、 必要性分析 1、现有产能已无法满足公司业务发展需求 作为行业的领先企业，公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度，产品销售形势良好，产销率超过 100%。预计未来几年公司的销售规模仍将保持快速增长。 随着业务发展，公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产流程、强化管理等手段，不断挖掘产能潜力，但仍难以从根本上缓解产能不足问题。通过本次项目的建设，公司将有效克服产能不足对公司发展的制约，为公司把握市场机遇奠定基础。 2、公司产品结构升级的需要 随着制造业智能化、自动化产业升级，公司产品的性能也需要不断优化升级。公司只有以技术创新和市场开发为驱动，不断研发新产品，提升产品精密化程度，将产品质量水平提升到同类产品的领先水准，提高生产的灵活性和适应性，契合关键零部件国产化的需求，才能在与国外企业的竞争中获得优势，保持公司在领域的国内领先地位。 四、 项目基本情况 （一）项目承办单位名称 xxx集团有限公司 （二）项目联系人 韩xx （三）项目建设单位概况 公司秉承“诚实、信用、谨慎、有效”的信托理念，将“诚信为本、合规经营”作为企业的核心理念，不断提升公司资产管理能力和风险控制能力。 公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念，倡导“诚信尊重”的企业情怀；坚持“品质营造未来，细节决定成败”为质量方针；以“真诚服务赢得市场，以优质品质谋求发展”的营销思路；以科学发展观纵观全局，争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。 本公司秉承“顾客至上，锐意进取”的经营理念，坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。公司坚持“责任+爱心”的服务理念，将诚信经营、诚信服务作为企业立世之本，在服务社会、方便大众中赢得信誉、赢得市场。“满足社会和业主的需要，是我们不懈的追求”的企业观念，面对经济发展步入快车道的良好机遇，正以高昂的热情投身于建设宏伟大业。 公司坚持提升企业素质，即“企业管理水平进一步提高，人力资源结构进一步优化，人员素质进一步提升，安全生产意识和社会责任意识进一步增强，诚信经营水平进一步提高”，培育一批具有工匠精神的高素质企业员工，企业品牌影响力不断提升。 （四）项目实施的可行性 1、符合我国相关产业政策和发展规划 近年来，我国为推进产业结构转型升级，先后出台了多项发展规划或产业政策支持行业发展。政策的出台鼓励行业开展新材料、新工艺、新产品的研发，促进行业加快结构调整和转型升级，有利于本行业健康快速发展。 2、项目产品市场前景广阔 广阔的终端消费市场及逐步升级的消费需求都将促进行业持续增长。 3、公司具备成熟的生产技术及管理经验 公司经过多年的技术改造和工艺研发，公司已经建立了丰富完整的产品生产线，配备了行业先进的染整设备，形成了门类齐全、品种丰富的工艺，可为客户提供一体化染整综合服务。 公司通过自主培养和外部引进等方式，建立了一支团结进取的核心管理团队，形成了稳定高效的核心管理架构。公司管理团队对行业的品牌建设、营销网络管理、人才管理等均有深入的理解，能够及时根据客户需求和市场变化对公司战略和业务进行调整，为公司稳健、快速发展提供了有力保障。 4、建设条件良好 本项目主要基于公司现有研发条件与基础，根据公司发展战略的要求，通过对研发测试环境的提升改造，形成集科研、开发、检测试验、新产品测试于一体的研发中心，项目各项建设条件已落实，工程技术方案切实可行，本项目的实施有利于全面提高公司的技术研发能力，具备实施的可行性。 作为半导体制造过程中三大核心工艺之一，刻蚀可以简单理解为用化学或物理化学方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程，可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀，目前市场主流的刻蚀方法均为干法刻蚀，可将其分为CCP刻蚀和ICP刻蚀。CCP刻蚀主要是以高能离子在较硬的介质材料上，刻蚀高深宽比的深孔、沟槽等微观结构；而ICP刻蚀主要是以较低的离子能量和极均匀的离子浓度刻蚀较软的或较薄的材料。 三星宣布将成为全球首家采用GAA工艺进行3nm制程的生产，相较于FinFET工艺，GAA被誉为突破3nm制程的有力手段。每一代芯片新技术的突破，晶体管体积都会不断缩小，同时性能不断提升。从平面MOSFET结构到FinFET晶体管架构，再到后面的GAA结构甚至MBCFET结构，晶体管的复杂度不断提升，对刻蚀和薄膜沉积等核心技术提出了更高的要求。 随着芯片制程的提升，受到光刻机波长的限制，往往需要采用多次曝光，才能得到要求的线宽，实现更小的尺寸。这对刻蚀速率、各向异性、刻蚀偏差、选择比、深宽比、均匀性、残留物、等离子体引起的敏感器件损伤、颗粒沾污等指标上对刻蚀设备都提出了更高的要求。我国因无法购买EUV光刻机而无法进行更先进制程的产线建设，如果想要用28nm产线生产14nm线宽的芯片，只能通过多次刻蚀才有可能实现，这使得对刻蚀的需求进一步提升。 从全球范围来看，刻蚀设备主要由美国泛林半导体、日本东京电子以及