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第五章
晶体管电路基础
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5. 1半导体的基础知识
5.1.1半导体二极管
半导体的导电特性
半导体的导电性介于导体和绝缘体之间。如硅和锗。 导体的导电性能具有的特点:
(1) 导电能力受温度和光照的影响大,
即具有热敏性和光敏性。
(2) 导电能力可通过掺入微量杂质而提高 几十万乃至几百万倍
A
纯净的半导体以共价 键的形式形成晶体结 构,即每个原子最外 层的四个电子分别和 相邻的四个原子所共 有,这样使每个原子 都处于较为稳定的状 态
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共价键中的价电子在温度 升高或受到光照获得一定 能量后,即可挣脱原子核 的束缚,成为自由电子。 同时在共价键中留下一个 空位,称为空穴。失去电 子即有空穴的原子是带正 电的。
A A
自由电子和空穴都称为载流子。
载流子数目就越多,导电性能会越好。
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在硅(或锗)中掺入硼:
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多数载流子:空穴
少数载流子:自由电子
称为空穴半导体
或P型半导体
硼原子最外层只有三个 电子,所以硼原子(B) 在与周围四个硅原子
(Si)组成共价键时,
就缺少一个价电子而出 现一个空穴。
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在硅(或锗)
中掺入磷:
/A A
因磷原子最外层有五个 电子,则在与相邻硅原 子组成共价键时,就多 一个价电子,原子核对 这个电子的束缚很弱,
所以常温下就可以成为 自由电子。
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多数载流子:自由电子
少数载流子:空穴
称电子半导体,
也叫N型半导体
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PN结的形成
在一块半导体晶片上,采用一定工艺,在其两边分别 形成P型和N型半导体,则在交界面就形成PN结。
空间电荷区
P N P…/卜N
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空穴 自i好 岫场方向
空间电荷区中多数载流子已扩散复合掉了的,所以
PN结又称耗尽区或称阻挡层。
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变窄
R
PN结的单向导电性
(1) PN结外加正向电压
即外加电压正端接P区, 负端接N区 外加电场与内电场方
向相反,内电场受到 削弱,相当于空间电
荷区变窄,扩散与漂
移运动的平衡被打破, 多数载流子的扩散运 动增强,形成了较大 的扩散电流(正向电
流),即这时PN结呈 现出较低的电阻,又
称导通状态。
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(2) PN结外加反向电压
即外加电压正端接N区,负端接P区
'I+
外电场与内电场方向相同,内电场受到增强,空间电 荷区变宽。扩散更难进行,少数载流子的漂移运动加 强。由于少数载流子的数量很少,反向电流不大,即 PN结呈现出很高的电阻,又称截止状态。
PN结具有单向导电性
即PN结外加正向电压时PN结导通,正向 电流较大;外加反向电压时PN结截止,反 向电流很小。
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半导体二极管的基本结构
将PN结加上两个电极引线和管壳封装起来,就成
为一个半导体二极管。
从P区引出的端称为阳极(正极),
从N区引出的端称为阴极(负极)。
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引线 外壳
1*2 片
点接触型多为锗管,其
PN结面积小,不能通过 大电流,但高频性能好o
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金锑合金底座
铝合金小$
/阴极引线
PN结
N型硅
阳极引线
面接触型多为硅管,其
PN结面积大,能通过
大电流,一般用作整流。
.锗管I硅管
;正向导通
反向截止
击穿
内电场被克服,
0 0.2 0.5
0.3 0.7
正向电压超过一定数值后,
随电压增大而迅速上升。
二极管导通,电流
硅管约0.5V。
硅管约0.7V
半导体二极管的伏安特性曲线
(1)正向特性
外加正向电压很小,不足 以克服PN结内电场时,
正向电流几乎为零,这一
段称为“死区”。
锗管的死区电压约为0.2V,
锗管的导通压降约为0.3V,
(2)反向特性 外加反向电压不超过 一定范围时,反向电 流很小,二极管处于 截止状态。
当外加反向电压超过某一数值时,反向电流会突然 增大,这种现象称为击穿。
使二极管产生击穿的反向电压称为反向击穿电压4br)
注意:二极管被击穿时,失去单向导电性。若发生 击穿后,二极管电流急剧增大引起过热,则原来的 性能就不能再恢复、二极管就损坏了。
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二极管的主要参数
(1) 最大整流电流/oM
二极管长时间使用时所允许流过的最大正向平均电 流。电流超过此值时,会使管子过热而导致损坏。
(2) 反向工作峰值电压(/RWM
保证二极管不被反向击穿而规定的最大反向工作电压
一般Urwm取反向击穿电压的一半或三分之二
(3) 反向电流JR
二极管未被击穿时,流过二极管的反向电流
此值越小,单向导电性越好。锗管的反向电流比硅 管大。温度增高,反向电流变大。
二极管的电路模型
aD〉0时,S闭合
吻<0时,S断开
(1) 理想二极管电路模型 把二极管看成是一个由其端 电压控制的自动开关,并忽 略二极管的死区电压、正向 电压、反向电流等,即 当Wd>0时,二极管导通,相当于开关闭合,并 且开关电压为零。
当%<0时,二极管截止,相当于开关断开,并 且漏电流为零。
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(2)考虑正向电压
的二极管电路模型
(3)考虑正向伏安特
性曲线斜率的电路模型
lD八
"D
Wd多Ud时,S闭合 wD VE,发 射结加正向电压(正向 偏置);如果满足 ec>eb,则vc > VB, 即集电结加反向电压 (反向偏置)。
实验电路的测量数据
ZB/mA
0
0.02
0.04
0.06
0.08
0.10
/c/mA
0.001
0.70
1.50
2.30
3.10
3.95
ZE/mA
0.001
0.72
1.54
2.36
3.18
4.05
结论:
1. 符合基尔霍夫电流定律(KCL),即IE
2. /e和~比/8大得多。
= = 仏=23_15 =40
IB4 0.06 A/b 0.06-0.04
3. 晶体管要起到放大作用,必须使发射结正偏、集 电结反偏。如果/B = 0 ,也没有电流放大作用。
(1) 发射区向基区扩
散自由电子
(2) 自由电子在基区
扩散与复合
(3) 集电区收集从发射
区扩散过来的自由电子
电流分配
共射直流电流放大系数
共射交流电流放大系数
AZC
azb
晶体管的特性曲线
实验电路
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1.输入特性曲线
UeE为常数时,Tg与UBE与 16之间的关系曲线
Ib/
80
和二极管的伏安特性 60
一样,也有死区。
40
硅管的死区电压为
20
0.5V,锗管为0.1V。
0
0.2 0.4 0.6 0.8
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80pA
1 /g/mA
4
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