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1、泓域咨询/江门光刻机项目建议书目录第一章 市场分析6一、 海外设备厂商在手订单饱满，供应链限制延续6二、 全球市场受海外厂商主导，前五大厂商市占率较高7第二章 项目背景分析8一、 国内需求爆发，国产替代空间快速打开8二、 光刻机：半导体制程工艺核心环节，将掩膜板图形缩小9三、 全力创建国家创新型城市11四、 抢抓“双区”重大历史机遇12第三章 绪论15一、 项目名称及投资人15二、 编制原则15三、 编制依据16四、 编制范围及内容16五、 项目建设背景17六、 结论分析19主要经济指标一览表21第四章 建筑技术分析24一、 项目工程设计总体要求24二、 建设方案25三、 建筑工程建设指标26
2、建筑工程投资一览表26第五章 建设方案与产品规划28一、 建设规模及主要建设内容28二、 产品规划方案及生产纲领28产品规划方案一览表28第六章 运营管理30一、 公司经营宗旨30二、 公司的目标、主要职责30三、 各部门职责及权限31四、 财务会计制度34第七章 发展规划40一、 公司发展规划40二、 保障措施41第八章 SWOT分析说明44一、 优势分析（S）44二、 劣势分析（W）46三、 机会分析（O）46四、 威胁分析（T）47第九章 节能方案说明55一、 项目节能概述55二、 能源消费种类和数量分析56能耗分析一览表57三、 项目节能措施57四、 节能综合评价59第十章 原辅材料成
3、品管理60一、 项目建设期原辅材料供应情况60二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理60第十一章 进度计划62一、 项目进度安排62项目实施进度计划一览表62二、 项目实施保障措施63第十二章 投资计划方案64一、 投资估算的依据和说明64二、 建设投资估算65建设投资估算表69三、 建设期利息69建设期利息估算表69固定资产投资估算表71四、 流动资金71流动资金估算表72五、 项目总投资73总投资及构成一览表73六、 资金筹措与投资计划74项目投资计划与资金筹措一览表74第十三章 经济效益评价76一、 基本假设及基础参数选取76二、 经济评价财务测算76营业收入、税金及附加和增值税估算表7
4、6综合总成本费用估算表78利润及利润分配表80三、 项目盈利能力分析81项目投资现金流量表82四、 财务生存能力分析84五、 偿债能力分析84借款还本付息计划表85六、 经济评价结论86第十四章 招标、投标87一、 项目招标依据87二、 项目招标范围87三、 招标要求88四、 招标组织方式88五、 招标信息发布92第十五章 总结评价说明93第十六章 补充表格95主要经济指标一览表95建设投资估算表96建设期利息估算表97固定资产投资估算表98流动资金估算表99总投资及构成一览表100项目投资计划与资金筹措一览表101营业收入、税金及附加和增值税估算表102综合总成本费用估算表102利润及利润分
5、配表103项目投资现金流量表104借款还本付息计划表106第一章 市场分析一、 海外设备厂商在手订单饱满，供应链限制延续在手订单依旧强劲，供应链限制延续，设备大厂积极扩产。1）供给高度紧张：ASML22Q1营收yoy-19%，下滑主要系部分订单确认延迟；毛利率同比-5pt，承压主要系材料、供应链、运输等成本上升；库存周转率降低。泛林毛利率同比-1.7pt，主要系成本压力（原材料、物流、通胀等）。2）订单依旧强劲：ASML新增在手订单约70亿欧元，环比持平。KLA：当前在手订单交期总体56个月，部分产品78月。爱德万客户订单提前量增加，由于系半导体等材料和零件短缺，交期延长。3）积极扩产：ASM
6、L预计2030年产能至少翻番，2025年年产能增加到约90套0.33孔径EUV和600套DUV。泰瑞达预计2023研发费用1900亿日元，yoy+20.1%；资本开支750亿日元，yoy+31.1%，规划金额皆较往年有大幅提升。2022下半年展望乐观，全年需求强劲将有订单递延至明年。泛林2022Q2毛利率指引中枢仍略降，持续成本和供应压力影响持续，二季度订单积压不断增加。随产能落地、产品竞争力效益显现及部分订单延迟多数企业对H2展望乐观。ASML预计2022H2表现强劲，毛利率约54%，高于全年52%指引，主要由EUV和DPV出货及安装基础管理业务利润率提升驱动。Q4部分EUV系统收入将递延到
7、2023年。泛林预计2022WFE需求将超1000亿美元，未满足的设备需求将递延至明年。泰瑞达积极建立库存及扩产，预计H2出货有更大增量及灵活性，预计Q2实现增长，仅高端产品出货受限。二、 全球市场受海外厂商主导，前五大厂商市占率较高全球设备五强占市场主导角色。全球设备竞争格局，主要前道工艺（刻蚀、沉积、涂胶、热处理、清洗等）整合成三强AMAT、LAM、TEL。另外，光刻机龙头ASML市占率80%+；过程控制龙头KLA市占率50%。根据SEMI，ASML、AMAT、LAMResearch、TEL、KLA五大厂商2021年收入合计788亿美元，占全球市场约77%。综合看下来，设备五强市场在各赛道
8、合计市占率基本在50%以上。AMSL优势在光刻方面遥遥领先；AMAT优势在产品线广，沉积（CVD、PVD）市占率高；LAM优势在刻蚀领域；TEL优势在小赛道如涂胶、去胶、热处理；KLA优势在过程控制。第二章 项目背景分析一、 国内需求爆发，国产替代空间快速打开国内晶圆厂投资进入高峰期。根据集微网统计，20202022年国内晶圆厂总投资金额分别约1500/1400/1200亿元，其中内资晶圆厂投资金额约1000/1200/1100亿元。20202022年国内晶圆厂投资额将是历史上最高的三年，且未来还有新增项目的可能。设备国产化率较低，海外龙头垄断性较高。我国半导体设备市场仍非常依赖进口，从市场格
9、局来看，细分市场均有较高集中度，主要参与厂商一般不超过5家，top3份额往往高于90%，部分设备甚至出现一家独大的情况，目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求，尤其是内资投建的需求。制程越先进，设备投资额占比越高。设备投资一般占比7080%，当制程到16/14nm时，设备投资占比达85%；7nm及以下占比将更高。光刻、刻蚀、沉积、过程控制、热处理等均是重要投资环节。国内国产化逐渐起航，从0到1的过程基本完成。北方华创产品布局广泛，刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、ALD等设备新产品市场导入节奏加快，产品工艺覆盖率及客户渗透率进一步提高，在集成电路领域主流生产线实现批量销售
10、，产品加速迭代；第三代半导体、新型显示、光伏设备产品线进一步拓宽，出货量实现较快增长。拓荆科技作为国内唯一一家产业化应用PECVD和SACVD设备的供应商，PECVD累计发货150台，广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、合肥长鑫、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，PEALD已实现销售；中微公司介质刻蚀机已经打入5nm制程，新款用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备UniMax2022Q1订单已超180腔；芯源微前道涂胶显影设备在28nm及以上多项技术及高产能结构方面取得进展，并实现多种核心零部件的国产替代，公司前道物理清洗设备已经达到国际先进水平并成功实现国产替代，新签订单结构中
11、前道产品占比大幅提升；华海清科CMP设备在逻辑芯片、3DNAND、DRAM制造等领域的工艺技术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm，到2021年底，公司CMP设备累计出货超过140台，未发出产品的在手订单超70台。Mattson（屹唐半导体）在去胶设备市占率全球第二；盛美半导体单片清洗机在海力士、长存、SMIC等产线量产。精测电子、上海睿励在测量领域突破国外垄断。设备国产化率较低，国产厂商成长空间巨大。我国半导体设备市场仍非常依赖进口，目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求，尤其是内资投建的需求，潜在收入目标空间较大。二、 光刻机：半导体制程工艺核心环节，将掩膜板图形缩小202
12、0年，全球光刻机市场约135亿美元，占全球半导体制造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。光刻机单机价值量高，每年出货数量约300400台。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计，近两年全球光刻机每年出货量大约在300400台之间，整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90100台，ArFi约90100台。近几年EUV出货量在逐步增长，全球仅有ASML具备供应能力，每年出货3050台，均价超过1亿美元。光刻机的供给有限，前三大晶圆制造领先厂商占据大部分需求。ASML在
13、2020年一共销售34台EUV光刻机，2021年EUV光刻机的产能将增长到4550台。从历史需求端来看，全球90%以上的EUV光刻机由TSMC、Samsung、Intel三家采购，其他诸如代工厂GobalFoundries、存储厂海力士、美光每年最多采购1台光刻机。ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看，2020年ASML占据全球光刻机市场84%的市场空间，Nikon约7%，Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位，并且由于EUV跨越式的升级进步，ASML在技术上的领先性更加明显。国内上海微布局前道光刻机设备。上海微电子装备（集团）股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端
14、智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司于2002年成立，2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。三、 全力创建国家创新型城市加大研发投入和科技攻关力度，强化企业创新主体地位，支持企业突破一批关键核心技术。实施高新技术企业提质增量行动。推进五邑大学建设高水平理工科大学，培养更多创新型、应用型、技能型人才服务地方发展。加快省科学院江门产业技术研究院、中德（江门）人工智能研究院、数字光芯片联合实验室、再生医学大动物实验研究基地建设，加强国际科技交流合作，融入全球创新网络。强化地方配套支持和服务，建好用好江门中微子实验站，发挥国家大科学装置创新要素集聚裂变效应，建设江门中微子实验
15、科普馆。加强与院士等高层次人才及团队对接合作，推动科技成果落地转化和产业化应用。加强知识产权保护，争创国家知识产权示范城市。加快谋划推进市科技馆建设。支持台山国家创新型县（市）建设。推动江门国家高新区争先进位。推进江门翠山湖高新区、江门鹤山高新区建设，推动台山产业转移工业园、恩平产业转移工业园等加快创建省级高新区。加快江门人才岛建设，打造高品质人才培养示范基地、创新发展示范区。加快推进科技创新平台建设，引进培育综合性研究院、重点实验室、工程技术研究中心、企业技术中心。鼓励利用和发展各类创业投资基金、产业基金，大力发展科技孵化器、众创空间、创客中心。支持领军企业组建创新联合体，带动中小企业创新活动。改进科技项目组织管理方式，试行“揭榜挂帅”制度。推动科技重点领域项目、基地、人才、资金一体化配置。四、 抢抓“双区”重大历史机遇举全市之力投身“双区”建设，强化与大湾区及周边城市“软”“硬”联通，建设粤港澳大湾区重要节点城市，为大湾区建设国际一流湾区和世界级城市群作出江门贡献。（一）建
