《《配位化学》第四章 溶液中配合物的稳定性》由会员分享，可在线阅读，更多相关《《配位化学》第四章 溶液中配合物的稳定性（42页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、第六章 配合物在溶液中的稳定性第一节 影响配合物稳定性的因素一、概述逐级稳定常数和积累稳定常数:M + L = ML ML + L = ML2 ML2 + L = ML 二、金属离子对配合物稳定性的影响1、具有惰性气体电子结构的金属离子 碱金属： Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+ 碱土金属：Be2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+ 及：Al3+、Sc3+、Y3+、La3+一般认为它们与配体间的作用主要是静电作用，金属离子z/r越大，配合物越稳定。例：二苯甲酰甲烷phC(O)CH2C(O)ph配合物的lgK1值（30，75%二氧六环） M2+ lgK1 Be2+ 13.62 Mg2+
2、 8.54 Ca2+ 7.17 Sr2+ 6.40 Ba2+ 6.10 2、Irving-Williams顺序研究发现：第四周期过渡金属离子与含O、N配位原子的配体的高自旋八面体配合物，其稳定性顺序如下： Mn2+ Fe2+ Co2+ Ni2+ Zn2+CFSE(Dq) 0 -4 -8 -12 -6 0这称为Irving-Williams顺序，可用CFSE解释。Ni2+ ClBrI (1)OSSeTe (2)NPAsSb (3)而与软酸中心离子形成配合物的倾向的顺序为：F Cl Br I (4)O S Se Te (5)N As Sb (6)对(6)的解释：键 增强N As Sb 空d轨道：
3、无 3d 4d 5d反馈键 减弱键作用大于键。对于O CH3NO2 (CH3O)3P=O HC(O)N(CH3)2 (CH3)2 SO2）配体与溶剂的缔合作用在质子溶剂（H2O、EtOH）中，有如下竞争反应ML + S = M + L(S)L与S通过氢键结合。如：Cd2+、Cu2+与Cl-的配合物稳定性：DMSO H2O但Hg2+、Cu2+、Ag+与I-的配合物稳定性：DMSO n时，则用最小二乘法。2、半整数法当相邻的稳定常数Kj与Kj+1值相差很大时，（如Kj103Kj+1）可用如下方法：以-lgL对作图，= 1/2、3/2、5/2处的-lgL值即为lgK1、lgK2、lgK3。-lgL
4、lgK1 lgK2 lgK3 1/2 3/2 5/2 现以n=2的体系为例：=1/2时： (L1/2为=1/2时的L值)整理：K1L1/2 + 3K1K2L1/22 - 1=0 (1)将K2=10 -3K1代入上式，并整理得：3(K1L1/2)2 + 1000(K1L1/2) 1000 = 0 解得：K1L 1/2 = 0.997 1， 即 lgK1 = -lgL1/2若K11000K2，则准确性更好。=3/2时：整理：K1K2L3/22 - K1L3/2 3 = 0 (2)将K1=103K2代入，并整理得： 1000(K2L3/2)2 - 1000K2L3/2 -3=0 解得：K2L3/2 = 1.003 1， ， lgK2 = -lgL3/2同样K11000K2时，准确性更好。 3、作图外推法1） 单向法： (0=1)展开：移项整理： 以 对 作图，则L 0时，应近似接近于一斜率为2，截距为1的直线。 n 斜率 = 2 1 若再展开一项：移项: 整理：以 对作图，L 0时，应近似于斜率为3，截距为2的直线。 斜率=3 2
