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1、泓域咨询/聊城半导体材料项目可行性研究报告聊城半导体材料项目可行性研究报告xx有限公司目录第一章 背景及必要性8一、 砷化镓衬底行业概况8二、 半导体材料行业概况15三、 行业发展态势、面临的机遇和挑战17四、 聚焦聚力创新驱动，重塑产业发展新优势19五、 项目实施的必要性21第二章 项目总论22一、 项目名称及项目单位22二、 项目建设地点22三、 可行性研究范围22四、 编制依据和技术原则23五、 建设背景、规模24六、 项目建设进度25七、 环境影响25八、 建设投资估算25九、 项目主要技术经济指标26主要经济指标一览表26十、 主要结论及建议28第三章 项目承办单位基本情况29一、
2、公司基本信息29二、 公司简介29三、 公司竞争优势30四、 公司主要财务数据32公司合并资产负债表主要数据32公司合并利润表主要数据32五、 核心人员介绍33六、 经营宗旨34七、 公司发展规划34第四章 行业、市场分析41一、 磷化铟衬底行业概况41二、 PBN材料行业概况46三、 锗衬底行业概况48第五章 建筑工程方案分析51一、 项目工程设计总体要求51二、 建设方案52三、 建筑工程建设指标53建筑工程投资一览表53第六章 选址方案55一、 项目选址原则55二、 建设区基本情况55三、 聚焦聚力改革攻坚，激发市场主体新活力58四、 聚焦聚力城市建设，打造宜居宜业新家园59五、 项目选
3、址综合评价61第七章 建设方案与产品规划62一、 建设规模及主要建设内容62二、 产品规划方案及生产纲领62产品规划方案一览表62第八章 法人治理结构64一、 股东权利及义务64二、 董事67三、 高级管理人员71四、 监事73第九章 运营管理模式75一、 公司经营宗旨75二、 公司的目标、主要职责75三、 各部门职责及权限76四、 财务会计制度79第十章 劳动安全分析83一、 编制依据83二、 防范措施86三、 预期效果评价88第十一章 组织架构分析89一、 人力资源配置89劳动定员一览表89二、 员工技能培训89第十二章 项目进度计划91一、 项目进度安排91项目实施进度计划一览表91二、
4、 项目实施保障措施92第十三章 工艺技术设计及设备选型方案93一、 企业技术研发分析93二、 项目技术工艺分析96三、 质量管理97四、 设备选型方案98主要设备购置一览表98第十四章 投资计划方案100一、 投资估算的依据和说明100二、 建设投资估算101建设投资估算表105三、 建设期利息105建设期利息估算表105固定资产投资估算表107四、 流动资金107流动资金估算表108五、 项目总投资109总投资及构成一览表109六、 资金筹措与投资计划110项目投资计划与资金筹措一览表110第十五章 经济效益及财务分析112一、 经济评价财务测算112营业收入、税金及附加和增值税估算表112
5、综合总成本费用估算表113固定资产折旧费估算表114无形资产和其他资产摊销估算表115利润及利润分配表117二、 项目盈利能力分析117项目投资现金流量表119三、 偿债能力分析120借款还本付息计划表121第十六章 风险分析123一、 项目风险分析123二、 项目风险对策125第十七章 招标、投标128一、 项目招标依据128二、 项目招标范围128三、 招标要求129四、 招标组织方式131五、 招标信息发布131第十八章 总结说明132第十九章 附表134建设投资估算表134建设期利息估算表134固定资产投资估算表135流动资金估算表136总投资及构成一览表137项目投资计划与资金筹措一
6、览表138营业收入、税金及附加和增值税估算表139综合总成本费用估算表140固定资产折旧费估算表141无形资产和其他资产摊销估算表142利润及利润分配表142项目投资现金流量表143第一章 背景及必要性一、 砷化镓衬底行业概况1、砷化镓简介砷化镓是砷与镓的化合物，砷化镓作为半导体材料具有优良的特性。使用砷化镓衬底制造的半导体器件，具备高功率密度、低能耗、抗高温、高发光效率、抗辐射、高击穿电压等特性，因此砷化镓衬底被广泛用于生产LED、射频器件、激光器等器件产品。20世纪90年代以来，砷化镓技术得以迅速发展，并逐渐成为最成熟的半导体材料之一。但长期以来，由于下游应用领域的发展滞后，市场需求有限，
7、砷化镓衬底市场规模相对较小。2019年后，在5G通信、新一代显示（MiniLED、MicroLED）、无人驾驶、人工智能、可穿戴设备等新兴市场需求的带动下，未来砷化镓衬底市场规模将逐步扩大。2、砷化镓衬底行业发展情况砷化镓产业链上游为砷化镓晶体生长、衬底和外延片生产加工环节。衬底是外延层半导体材料生长的基础，在芯片中起到承载和固定的关键作用。生产砷化镓衬底的原材料包括金属镓、砷等，由于自然界不存在天然的砷化镓单晶，需要通过人工合成制备；砷化镓衬底生产设备主要涉及晶体生长炉、研磨机、抛光机、切割机、检测与测试设备等。砷化镓产业链下游应用主要涉及5G通信、新一代显示（MiniLED、MicroLE
8、D）、无人驾驶、人工智能、可穿戴设备等多个领域。全球砷化镓衬底市场集中度较高，根据Yole统计，2019年全球砷化镓衬底市场主要生产商包括Freiberger、Sumitomo和北京通美，其中Freiberger占比28%、Sumitomo占比21%、北京通美占比13%。目前砷化镓晶体主流生长工艺包括LEC法、HB法、VB法以及VGF法等，其中Sumitomo砷化镓单晶生产以VB法为主，Freiberger以VGF和LEC法为主，而北京通美则以VGF法为主。目前国内涉及砷化镓衬底业务的公司较少，除北京通美外，广东先导先进材料股份有限公司等公司在生产LED的砷化镓衬底方面已具备一定规模。得益于下
9、游应用市场需求持续旺盛，砷化镓衬底市场规模将持续扩大。根据Yole测算，2019年全球折合二英寸砷化镓衬底市场销量约为2,000万片，预计到2025年全球折合二英寸砷化镓衬底市场销量将超过3,500万片；2019年全球砷化镓衬底市场规模约为2亿美元，预计到2025年全球砷化镓衬底市场规模将达到3.48亿美元，2019-2025年复合增长率9.67%。3、砷化镓衬底下游应用情况砷化镓是当前主流的化合物半导体材料之一，其应用可以分为三个阶段。第一阶段自20世纪60年代起，砷化镓衬底开始应用于LED及太阳能电池，并在随后30年里主要应用于航天领域。第二阶段自20世纪90年代起，随着移动设备的普及，砷
10、化镓衬底开始用于生产移动设备的射频器件中。第三阶段自2010年起，随着LED以及智能手机的普及，砷化镓衬底进入了规模化应用阶段，例如2017年，iPhoneX首次引入了VCSEL用于面容识别，生产VCSEL需要使用砷化镓衬底，砷化镓衬底应用场景再次拓宽。2021年，随着Apple、Samsung、LG、TCL等厂商加入MiniLED市场，砷化镓衬底的市场需求将迎来爆发性增长。（1）射频器件射频器件是实现信号发送和接收的关键器件，射频器件主要包括功率放大器、射频开关、滤波器、数模/模数转换器等器件，其中，功率放大器是放大射频信号的器件，其直接决定移动终端和基站的无线通信距离和信号质量。由于砷化镓
11、具有高电子迁移率和高饱和电子速率的显著优势，因此砷化镓一直是制造射频功率放大器的主流衬底材料之一。4G时代起，4G基站建设及智能手机持续普及，用于制造智能手机射频器件的砷化镓衬底需求量开始上升。进入5G时代之后，5G通信对功率、频率、传输速度提出了更高的要求，使用砷化镓衬底制造的射频器件非常适合应用于长距离、长通信时间的高频电路中，因此，在5G时代的射频器件中，砷化镓的材料优势更加显著。随着5G基站建设的大量铺开，将对砷化镓衬底的需求带来新的增长动力；与此同时，单部5G手机所使用的射频器件数量将较4G手机大幅增加，也将带来对砷化镓衬底需求的增长。伴随5G通信技术的快速发展与不断推广，5G基站建
12、设以及5G手机的推广将使砷化镓基射频器件稳步增长。根据Yole预测，2025年全球射频器件砷化镓衬底（折合二英寸）市场销量将超过965.70万片，2019-2025年年均复合增长率为6.32%。2025年全球射频器件砷化镓衬底市场规模将超过9,800万美元，2019-2025年年均复合增长率为5.03%。（2）LEDLED是由化合物半导体（砷化镓、氮化镓等）组成的固体发光器件，可将电能转化为光能。不同材料制成的LED会发出不同波长、不同颜色的光，LED按照发光颜色可分为单色LED、全彩LED和白光LED等类型。LED根据芯片尺寸可以区分为常规LED、MiniLED、MicroLED等类型，其中
13、常规LED主要应用于通用照明、户外大显示屏等，MiniLED、MicroLED应用于新一代显示。随着LED照明普及率的不断提高，常规LED芯片及器件的价格不断走低。常规LED芯片尺寸为毫米级别，对砷化镓衬底的技术要求相对较低，属于砷化镓衬底的低端需求市场，产品附加值较低，该等市场主要被境内砷化镓衬底企业占据，市场竞争激烈；而新一代显示所使用的MiniLED和MicroLED芯片尺寸为亚毫米和微米级别，对砷化镓衬底的技术要求很高，市场主要被全球第一梯队厂商所占据。根据Yole预测，2019年全球LED器件砷化镓衬底市场（折合二英寸）销量约为846.9万片，预计到2025年全球LED器件砷化镓衬底
14、（折合二英寸）市场销量将超过1,300万片，年复合增长率为7.86%，增长较为平稳；2019年全球LED器件砷化镓衬底市场规模约为6,800万美元，预计到2025年全球LED器件砷化镓衬底市场规模将超过9,600万美元，相较2019年将增加接近3,000万美元的市场规模。目前基于LED的新一代显示包括MiniLED和MicroLED两种类型。MiniLED指使用次毫米发光二极管，即芯片尺寸介于50-200m之间的LED器件作为背光源或者像素发光源的显示技术，作为液晶显示面板（LCD）背光源的MiniLED技术目前已逐步应用于高清电视、笔记本电脑、平板等电子产品领域，可大幅提升液晶显示面板的显示
15、效果，当前MiniLED背光显示技术的规模化商业应用已具备产业条件；使用MiniLED作为像素发光源的显示技术，其在显示亮度、色域、对比度、响应速度等方面更加出色，但由于其使用的灯珠数量远大于背光场景，因此其芯片用量远高于背光技术，当前成本较高，目前用于户外显示、4K/8K大尺寸高清电视及显示屏。2021年为MiniLED大规模产业化元年，使用砷化镓衬底材料的MiniLED显示屏已正式应用于2021年版iPadPro平板中。MiniLED显示技术大幅拓宽了LED显示技术的应用场景，为砷化镓衬底带来了很大的需求增长空间。MicroLED指使用微米发光二极管，即芯片尺寸小于50m的LED器件作为像素发光源的高密度LED阵列显示技术。除显示效果的进一步提升外，MicroLED技术可
