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1、Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:1.等离子清洗技术介绍等离子清洗技术介绍-2page2.气体离子化的过程介绍气体离子化的过程介绍-37page3.等离子清洗原理介绍等离子清洗原理介绍-810page4.等离子清洗应用等离子清洗应用-11page4.1金属表面去油及清洁金属表面去油及清洁-1214page4.2等离子刻蚀等离子刻蚀-15page4.3刻蚀和灰化刻蚀和灰化-1618page4.4塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和
2、清洁塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洁-1920page4.5等离子涂镀等离子涂镀-20page5.清洗前后产品比对清洗前后产品比对-2127page8.Dual Chamber Direct Plasma ( VSP- 88D Pro )Dual Chamber Direct Plasma ( VSP- 88D Pro )-2831page9.Plasma Cleaning System VSP88HPlasma Cleaning System VSP88H-3234page10.Inline Direct Plasma Cleaning System VSIP88DInline Direct
3、 Plasma Cleaning System VSIP88D-3537page1.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:等离子清洗技术清除金属、陶瓷、塑料表面的有机污染物，可以显著加强等离子清洗技术清除金属、陶瓷、塑料表面的有机污染物，可以显著加强这些表面的粘性及焊接强度。这些表面的粘性及焊接强度。离子化过程能够容易地控制和安全地重复。离子化过程能够容易地控制和安全地重复。如果有效的表面处理对于产品的可靠性或过程效率的提高
4、是至关重要的，如果有效的表面处理对于产品的可靠性或过程效率的提高是至关重要的，那么等离子技术对你也许就是最理想的技术。那么等离子技术对你也许就是最理想的技术。通过表面活化、蚀刻、表面沉积，等离子技术可以改善绝大多数物质的性通过表面活化、蚀刻、表面沉积，等离子技术可以改善绝大多数物质的性能：洁净度、亲水性、斥水性、粘结性、标刻性、润滑性、耐磨性。能：洁净度、亲水性、斥水性、粘结性、标刻性、润滑性、耐磨性。2.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:5179393
5、3HomePage:“ “离子化的气体离子化的气体” ”等离子清洗原理就是在一组电极施以射频电压（频率约为几十兆赫兹），电极等离子清洗原理就是在一组电极施以射频电压（频率约为几十兆赫兹），电极之间形成高频交变电场，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体，活之间形成高频交变电场，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体，活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质变成粒子和气态物质。使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排
6、出，而达到清洗目的。排出，而达到清洗目的。3.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage: 为了生成为了生成 PlasmaPlasma，需要对自然状态的原子或分子进行离子化，需要对自然状态的原子或分子进行离子化. . 为了进行离子化为了进行离子化 ， 必须加上很高的热必须加上很高的热(Energy). (Energy). 即需要数十万度或数百万度的高温即需要数十万度或数百万度的高温. . 但是加上高的但是加上高的 电极的话，在低温
7、状态下也可以对原子或分子进行离子化电极的话，在低温状态下也可以对原子或分子进行离子化. . NucleusNucleus(Neutrons Protons)Electron Electron (e-) 4.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:Electric fieldCold electronHot electronNeutralPositive ionElectronsNeutrals (radical)Plasma
8、=Plasma =5.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:-因压力高使粒子增多的话，平均 行程距离(Mean Free Pass)缩短， 所以即使电压高也很难进行离子化.- 压力低的话可降低撞击的概率，所 以需要适当的压力.500V500V1010-3-3 为了使为了使 Plasma Plasma 容易生成离子化，需要适当的压力和适当的容易生成离子化，需要适当的压力和适当的 电压电压. .6.Room1017,Huabao
9、PlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:Ion EnergyIon DensityPower FrequencyDC40-100 kHz13.56 MHz2.45 GHz7.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage: 表示的是使用表示的是使用Argon,O2及及H2Plasma的洗净原理的洗
10、净原理.ArgonPlasma使用于把表面使用于把表面污染物物理的去除污染物物理的去除.H2Plasma是和表面的是和表面的O2反映生成反映生成H20，O2Plasma是和是和C反映反映生成生成CO2来除去污染物来除去污染物.(CH2)n+3/2nO2nCO2+nH2O)PadHydrogen PlasmaOxygen PlasmaArgon PlasmaChemical EnergyChemical EnergyPhysical EnergyHHHHHOOOOOCCCCCCCCCCCCCCCCOOOCOOOArAr8.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,
11、MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:AllAllPLASMAPLASMAC-HC-HC=CC=CC-CC-C有机物有机物C-OC-OC=OC=OO-C=OO-C=OC-O-OC-O-OCOCO2 2H H2 2O OCleaningCleaning( (有机物除去有机物除去) )Leadframe Leadframe 表面活性表面活性PlatingPlatingPlatingPlatingNi, Pd, AuNi, Pd, Au1.1.表面有机物除去表面有机物除去 : : 脱脂效果脱脂效果2.2
12、.有机物除去后表面活性化有机物除去后表面活性化 : : 酸洗效果酸洗效果 Leadframe Leadframe Leadframe Leadframe 污染表面污染表面污染表面污染表面9.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:Gas混合比混合比适用适用例例O2100%有机污染物除去/Polymer活化/氧化/Photoregist除去H2以carriergas使用,10%以下不需氧化洗净金属/氧化物除去Ar100%金属脱脂
13、及活化/氧化物除去/不需氧化除去hybrid电路的epoxy/亲水化N2100%Polymer活化/除去hybrid电路的epoxy/氧化物除去C2H4100%重合CF4/SF6100%Siliconeetching（硅蚀刻）DS30097%O2+3%CF4aluminiumChamber上的Photoregistfilm除去/有机污染物除去Ds1628199%N2+1%O2Photoregistfilm除去 利用利用Plasma洗净技术是主要活用于围绕半导体的金属洗净技术是主要活用于围绕半导体的金属,Plastic,玻璃种类的脱脂玻璃种类的脱脂,洗净及活化上洗净及活化上.10.Room101
14、7,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:等离子表面处理系统现正应用于LCD、LED、IC，PCB，SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻。等离子清洗过的IC可显著提高焊线强度，减少电路故障的可能性。溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区，短时间内就能清除。PCB制造商用等离子蚀刻系统进行去污和蚀刻来带走钻孔中的绝缘物。11.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,Mi
15、nhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:一、金属表面去油及清洁一、金属表面去油及清洁金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层，在进行溅射、油漆、粘合、健合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果：1.1灰化表面有机层灰化表面有机层表面会受到化学轰击（氧下图）在真空和瞬时高温状态下，污染物部分蒸发污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空带出紫外辐射破坏污染物因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度，所以污染层不能太厚。指纹
16、也适用。12.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:1.2氧化物去除氧化物去除金属氧化物会与处理气体发生化学反应（下图）这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合物。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面，第二步用氢气和氩气的混合物去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。13.Room1017,HuabaoPlazaNo.3065HongxinRd,MinhangDistrict,ShanghaiChina201101Tel:51793931Fix:51793933HomePage:1.3焊接焊接通常，印刷线路板在焊接前要用化学助焊剂处理。在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除，否则会带来腐蚀等问题。1.4键合键合好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱，这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。同时氧化层对键合的质量也是有害的，也需要进行等离子清洁。14.Room1017,HuabaoPlaz
