常用晶体及光学玻璃折射率表物质名称分子式或符号折射率熔凝石英SiO21.45843氯化钠NaCl1.54427氯化钾KCl1.49044萤??？石CaF21.43381冕牌玻璃K61.51110K81.51590K91.51630重冕玻璃ZK61.61263ZK81.61400钡冕玻璃BaK21.53988火石玻璃Fl1.60328钡火石玻璃BaF81.62590重火石玻璃ZF11.64752ZF51.73977ZF61.75496液体折射率表物质名称分子式密度温度C折射率丙醇CH COCH3 30.791201.3593甲CH OH30.794201.3290乙Ch OH2 50.800201.3618苯CH6 61.880201.5012二硫化碳CS21.263201.6276四氯化碳CCl41.591201.4607三氯甲烷CHCl31.489201.4467乙醚ch ・o・ch2 5 2 50.715201.3538甘油CHO3 8 31.260201.4730松节油0.8720.71.4721橄榄油0.9201.4763水HO21.00201.3330DMF熔点-61 °C,沸点 152.8°C,76°C (5.2kPa),相对密度 0.9445(25/4°C),闪点 58°C,自燃点 445°C。
对多种有机化合物和无机 化合物均有良好的溶解能力和化学稳定性25C的蒸气压为0.493kPa1.4269晶体的折射率n和n表o e物质名分子式none称冰H021.3131.309氟化镁MgF21.3781.390石英SiO21.5441.553氯化镁MgO・H O21.5591.580锆石ZrO ・SiO2 21.9231.968硫化锌ZnS2.3562.378方解石CaO・CO21.6581.486钙黄长石2CaO・Al 0 ・SiO2 3 21.6691.658菱镁矿ZnO ・C021.7001.509刚石AlO2 31.7681.760淡红银矿3Ag S・AS S2 2 32.9792.711注：n、n分别是晶体双折射现象中的“寻常光”的折射率和“非常oe光” 的折射率 ???????????????????????????? 资料来源：华东师 大《光学教程》折光率色散双折射率硬度比重真钻石2. 420. 044无103. 52“苏联2. 150. 060无8. 55. 6—6钻”注：“苏联钻”，立方氧化锆钻石一般情况下，基础玻璃的折射率为1.5—1.7,而斜锆石的折射率为2.2,锆英石的折射率为1.94; SnO2 可以降低釉熔体的表面张力，且具有较高地折射率(2.09)CR-39即折射率1.499单体有机高分子化学日开发出新型热固性树脂2004-7-28 9:04:29 来源：中国化工网日前，日本 Nitto Denko Corp 公司开发出一种折射系数为 1.7 的 芳香族热固性树脂，高于折射率 1.56 的环氧树脂，且这种树脂的耐热 性也比环氧树脂高 30％。
该公司称，折射系数的提高是由于在其中添加了二氧化钛、二氧 化锆及其它金属氧化物的纳米级粒子据介绍，这种树脂主要用途在 电器领域，包括用于涂料中可提高白色发光二极管(LEDs)的发光率和 吸光率，液晶显示器(LCDs)和其它显示器的防反射膜，以及在电荷耦 合器件(CCDs)中作为微透镜使其能接受大量光等金红石型和锐钛矿型TiO2颜料的平均折射率分别为2.71和2.57，用 2.71来计算，氧化锌颜料的相对密度为5.45 ~ 5.65，吸油度量为10 ~ 25 g/100 g， 折射率为2.03 ~ 2.08商业上98%颜料级硫化锌的相对密度为4.0 ~ 4.1，折射率为2.37 三氧化锑颜料的折射率约为2.0，名称？?折射率?????透光范围???蒸发温度(°C)蒸发源 应用三氧化二铝 1.62/550n 200~5000 2000-2200 电子枪 增透 膜 多层膜氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼，钽，电子枪 增透膜、多 层膜氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼，钽，电子枪 增透膜 氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜透明导电膜料2.0/500nm 400〜800 1450电子枪，A12O3透明导电 膜氟化钙 1.23-1.42/550nm150〜12000 1280〜1400 钼，钽，钨 增透膜氟化镁 1.38/550nm 130〜7000 1300〜1600 钼，钽，钨 增透膜、多层膜氧化镁 1.7/500nm 200〜8000 2000 电子枪 多层膜锆钛混合物 2.1/500nm 400〜7000 2300 钨，电子枪 增透膜 氧化钪 1.89/500nm 250〜5000 2430 电子枪 紫外多层膜二氧化硅 1.45/500nm 200〜2000 1600〜2200 电子枪 多层膜 一氧化硅 1.55/550nm 600〜8000 1200〜1600 钼，钽，钨 增透膜、 保护膜五氧化二钽2.1 /500nm 400〜7000 1950 电子枪 增透膜 一氧化钛 2.35/500nm 400〜12000 1700〜2000 电子枪 多层 膜、分光膜二氧化钛 2.35/500nm 400〜12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽，钨电子枪 增透 膜、多层膜氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼，电子枪 增透膜硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪，钨 红外膜硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼，钽， 电子枪 红外膜 硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼，钽，电子枪 多层膜氟化钇1.49/632.8nm 200〜15000 1100钼红外膜(10.6mm)、增透膜 氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 1400~1600 钼，电子枪 红外膜(10.6mm)、增透膜氟化铝 1.35/500nm 200〜8000 800〜1000 电子枪，钼，钽 紫外膜氟化铅 1.76/470nm 220〜9000 700〜1000 铂 紫外膜氧化钆 1.8/550nm320〜15000 2200增透膜五氧化三钛 2.35/500nm 400〜12000 1750〜2000钛酸钡(BaTiO )单晶具有优异的光折变性能具有高的自泵浦相位共轭反射率和二波混频(光放大)3效率，在光信息存储方面有巨大的潜在应用前景；同时它也是重要的衬底基片材料。
晶体结构四方 Tetragona(4m):13oC〈T〈132oC a=3.99 ,c=4.04,(at26°C)生长方法TSSG (Top Seeded Solu tion Grow th)顶部籽晶法熔点1612 oC晶体参数：折射率515 nm633 nm800 nmn2.49122.41602.3681n2.42472.36302.3235透过波长范围0.43 - 6.30 m1、白色颜料与合成纤维的折射率见表表1白色颜料于合成纤维的 折射率白色颜料折射率合成纤维折射率硫酸钡1.64醋酸纤维 1.37氧化锌2.00粘胶纤维1.546氧化锑2.19酮氨纤维1.572硫化 锌 2.37 尼龙-6 1.558 锌钡白 2.00 尼龙-66 1.558 二氧化钛（锐钛型） 2.57 聚酯纤维 1.725 二氧化钛（金红石型） 2.71 聚丙烯腈 1.515。