抛光液简介及行业发展前景抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗 和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽本产品性能稳定、无毒，对环境无污染等作 用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅 锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨 光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品 光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定3、抛光完成后用清水清 洗一次并且烘干即可圈这两个概念主要出现在半导体加工过程中，最初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、 例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是及其严重的直到60年代末，一 种新的抛光技术 化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了旧的方法CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光 洁度高，损伤低，完美性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械 抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。
化学机械抛光可以获得较 为完美的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是目 前能够实现全局平面化的唯一有效方法依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半 导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因 素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：（1） 抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在 表面进行氧化还原的动力学过程这是化学反应的主体2） 抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力 学过程它是控制抛光速率的另一个重要过程硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须 使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡如果化学腐蚀作用大于机械抛 光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则 表面产生高损伤层产品硅材料抛光液 蓝宝石抛光液 砷化镓抛光液 铌酸锂抛光液 锗抛光液集成电路多次铜布线抛光液 集成电路阻挡层抛光液 应用1. led行业目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。
蓝 宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减 薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很 好的实现了蓝宝石表面的精密抛光随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧 化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增2•半导体行业CMP技术还广泛的应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路中（ULSI）对基体材料硅晶片的 抛光随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基 于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术， 不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前唯一的可以在整个硅 圆晶片上全面平坦化的工艺技术投料量（g/L）350~40030~5030~10040~8020~501~31~105~101~3余量抛光液参考配方组分硫酸硝酸双氧水盐酸乙酸2-巯基噻唑啉硫酸铜壬基酚聚氧乙烯醚有机硅消泡剂水市面常见抛光液硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化傢抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次 铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液 不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜 面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液、酸性抛光液、铝材抛光液、金刚石抛 光液、钻石抛光液、单晶体钻石研磨液、抛光膏抛光液的分类和应用抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛1］光液（多晶金刚石抛 光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液⑵（即CMP抛光液）、氧化 铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。
多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率 的同时不易对研磨材质产生划伤主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和 抛光氧化硅抛光液（CMP抛光液）CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，女口：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、 磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工氧化铈抛光液氧化肺抛光液是以微米或亚微米级Ce02为磨料的氧化肺研磨液，该研磨液具有分散性好、 粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精 密抛光氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光行业概况供求关系是一个行业能否快速发展的前提目前来看，市场需求是很大的，而供应方面却略 显不足，尤其是拥有核心知识产权，产品质量过硬的企业并不多，行业整体缺乏品牌效应。
在需求旺盛的阶段，行业需求巨大，发展前景好，这是毋庸置疑的但如何保持行业的健康， 稳定且可持续发展，需要业内企业的共同努力，尤其需要发挥吃毛求疵的研发精神，进一步 提高生产工艺，降低成本，真正解决客户的实际困难，严把质量关，提供最可靠的产品⑶ § 媒体报道:北京抛丽斯科技认为不锈钢抛光材料需求仍然巨大!不锈钢产品在热加工、机械加工或放置一定时间后其表面会形成一层黑色或灰 色氧化皮这些问题不仅常见，而且普遍，解决起来还比较麻烦，每年给国家及 相关产业造成巨大的经济损失，这样的现实使得不锈钢抛光行业近年来不断发 展，不锈钢抛光材料的需求自然也非常巨大，是机遇也是挑战到底该如何应对 这样的机遇与挑战，我们有幸采访了北京抛丽斯科技有限公司投资合伙人，知名 天使投资人，网络营销专家甘健先生，希望能获得我们想要的答案甘健先生首先从专业的角度给记者普及了下抛光材料的知识，让记者获益匪 浅抛光材料主要有：(1) 白色抛光膏由石灰及硬脂酸、脂肪酸、漆脂、牛油、羊油、地蜡等合作 而成，用于镍、铜、铝和胶木等的抛光2) 黄色抛光膏由长石粉及漆脂、脂肪酸、松香、黄丹、石灰、土红粉等合 作而成，用于铜、铁、铝和胶木等的抛光。
3) 绿色抛光膏由脂肪酸和氧化铬绿等合作而成，用于不锈钢和铬等的抛光4) 赤色抛光膏由脂肪酸、地蜡、氧化铁红等合作而成，用于金属电镀前抛 光以及抛光金、银回光等然后，甘健先生认为：供求关系是一个行业能否快速发展的前提目前来看， 市场需求是很大的，而供应方面却略显不足，尤其是拥有核心知识产权，产品质 量过硬的企业并不多，行业整体缺乏品牌效应在需求旺盛的阶段，不锈钢抛光 材料需求巨大，发展前景好，这是毋庸置疑的但如何保持行业的健康，稳定且 可持续发展，需要业内企业的共同努力，尤其需要发挥吃毛求疵的研发精神，进 一步提高生产工艺，降低成本，真正解决客户的实际困难，严把质量关，提供最 可靠的产品记者了解到，甘健先生所投资的北京抛丽斯科技有限公司，为国内深孔抛光行 业的领军者公司作为创新型领军企业，专业从事深孔磨削加工，磨削抛光、内 孔抛光、深孔抛光、不锈钢内壁抛光、小孔内壁抛光、深孔加工等公司拥有 训练有素的技术骨干和科技研发队伍，技术先进，生产加工能力强，多项专利技 术位居行业领先地位在与国际领先技术的交流和竞争中，公司保持着足够的竞 争力，可以和国际一流媲美，多次获得国内外专家及领导的好评。
公司全力打造 的国内知名品牌“抛丽斯”深受广大客户的信赖和厚爱抛丽斯科技比较关注 的领域还包括：深孔抛光 深孔加工 不锈钢内壁抛光 不锈钢抛光 小孔内壁抛光 内孔抛光磨削抛光抛光针头抛光磨削加工光整加工抛光材料珩磨研磨 深孔钻床深孔论坛深孔钻头深孔加工设备抛光加工中深孔爆破深孔珩磨 机深孔爆破抛光砖抛光机汽车抛光抛光器材抛光蜡抛光液硅片抛光抛 光粉电抛光不锈钢抛光机不锈钢电解抛光不锈钢抛光工艺不锈钢抛光方法 不锈钢表面抛光处理不锈钢抛光等级不锈钢抛光蜡不锈钢化学抛光深孔加 工机床深孔加工技术深孔加工设备珩磨头不锈钢表面处理电解抛光表面 拉丝小孔抛光抛光除尘内孔抛光轮钢管内抛光内墙抛光平面抛光等离子 抛光机抛光砖 抛光片抛光膏抛光轮金属表面光整光整锌花珩磨管珩磨 轮研磨机研磨膏研磨器研磨剂研磨液研磨设计模式研磨设计等等北京抛丽斯科技有限公司。