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1、Volume 3, Issue 3 摘要：钛及钛合金的金相样品制备比钢更困难，其磨光和抛光效率非常低。过度剧烈的切割和磨光 过程都会在相中产生形变孪晶。对于纯度相对较高的纯钛采用冷镶嵌的方法比热压力镶嵌更为适 合，因为热压力镶嵌有可能改变纯钛中氢元素的含量和分布。特别对于纯钛而言，在样品制备过程 中想要去除划痕和塑性流变非常困难。 钛及钛合金由于其具有低密度、优异的强度与重量比、良好 的耐腐蚀性和高的机械强度。所以其商业应用已经有50余年 的历史。其缺点是钛及钛合金的生产成本非常昂贵。钛和铁 一样具有同素异构转变，像钢一样，钛也可以进行热处理。 而合金元素对低温的相和高温的相的稳定性都有一定
2、的影响作用。在常温下，钛及钛合金其稳定相以含合金、 -和相存在，另外两种相是：近和近相。 钛及钛合金的金相样品制备比钢更困难，其磨光和抛光效率 非常低。过度剧烈的切割和磨光过程都会在相中产生形变 孪晶。对于纯度相对较高的纯钛采用冷镶嵌的方法比热压力 镶嵌更为适合，因为热压力镶嵌有可能改变纯钛中氢元素的 含量和分布。特别对于纯钛而言，在样品制备过程中想要去 除划痕和塑性流变非常困难。 在早期的机械抛光工艺相当耗时，而且几乎所有的机械抛光 方法在最后一步或最后两步抛光过程中使用含有侵蚀剂的抛 光液。常用的化学腐蚀抛光剂参见文献6，电解抛光的方法 往往能够得到较好的抛光表面。但是在电解抛光过程中电解
3、 液存在着一定得危险，这些电解液也具有一些化学抛光的作 用。对于钛及钛合金的常用的电解液和化学抛光液参见文献 6。 二十世纪70年代和80年代，钛及钛合金的机械抛光方法仍旧 延续着老的抛光方法，Springer 和Ahmed在1984年首次发表 了关于钛及钛合金的抛光方法文章。 这就是三步的样品抛光方法，假设使用320grit砂纸来完成样 品的磨平工序，但是情况可能不一定总是这样。如果样品切 割时使用的是超薄的切割片或者是粘接强度合适的砂轮切割 片，其切割表面平整且其损伤层最小，这时可以使用320grit 砂纸来完成样品的磨平工序。如果切割后的表面粗糙且损伤 层较大，例如：使用带锯切割就可能产
4、生这样的结果，此时 就必须使用颗粒更粗的砂纸和花费一定的时间来去除损伤 层。 Springer 和Ahmed使用的钛及钛合金的抛光方法，具体如 下： 1，磨平，使用320grit砂纸水冷，磨制23分钟，去除切割产 生的损伤层，并使样品表面平坦。 2，粗抛光，把9m的METADI金刚石抛光膏预先涂抹在带孔 的TEXMET抛光布上，使用蒸馏水做为冷却润滑剂，抛光 钛和钛合金的金相样品制备 Written by: George Vander Voort (Buehler Ltd) Tech-Notes Using Microstructural Analysis to Solve Practical
5、 Problem 1015分钟。 3，最终抛光，使用MICROCLOTH或者MASTERTEX抛光布，添 加MASTERMET二氧化硅悬浮抛光液，抛光1015分钟。 但是，非常遗憾的是，他们在文章中并未提到在每步过程 中，样品上的压力、抛光盘转速和抛光盘旋转方向等参数。 此后G. Mller开发了钛合金的三步抛光方法，如果切割后 的样品损伤层最小且切割表面平坦，仅仅通过三步就可以完 成抛光过程。例如：在样品夹持器上同时夹持6个直径30mm （1.25英寸）样品： 1，P500砂纸水冷却，转速300 rpm、每个样品上的压力 16.7N（3.75lb）、制备时间所有样品磨平为止。 2，P1200
6、砂纸水冷却，转速300 RPM、每个样品上的压力 16.7N（3.75lb）、制备时间30S。 3，使用人工合成无绒毛抛光布+含有化学腐蚀剂的二氧化硅 悬浮抛光液，抛光机转速150 RPM，抛光时间：每个样品上压 力 33N（7.5lb）10分钟，每个样品上压力 16.7N（3.75lb） 2分钟，每个样品上压力 8N（2lb）1分钟。 4，抛光剂成分：260ml SiO2+40ml H2O2 (浓度30%),1ml HNO3 + 0.5mL HF。FEPA标准的P500和P1200砂纸粒度，分别 对应ANSI/CAMI标准320/360 和600 grit砂纸。 样品制备实例 Springe
7、r 和 Ahmed制备方法： 最初对Springer 和 Ahmed制备方法的关注仅局限于如何改进 和提升这种制备方法。由于带孔的TEXMET抛光布现在已经不 再使用，所以必须使用其他制备表面取代。而且在已经发表 的制备方法中并未提到抛光机底盘转速、转动方向和压力等 参数。 1，使用320grit SiC砂纸，水冷，转速240 RPM，同向转动 *，压力：27N（6lbs）/每个样品，直到样品磨平为止。 2，粗抛光过程：9m METADI金刚石抛光液+ METADI抛光润 滑剂，使用ULTRA-PAD抛光表面，转速120 RPM, 反向转动 *，压力：27N（6lbs）/每个样品，时间10mi
8、n。 Tech-Notes Volume3, Issue3 钛和钛合金的金相样品制备 幸运的是现在有许多可供选择的方法和材料能够用于Al合金 样品制备,而且制备步骤更少。 第一个实例展示的是用五步 制备方法得到质量非常好（印刷质量）的一个样品。 后面还 有四步和三步制备样品插图，由于制备步骤减少，样品制备 质量也有所降低。 3，最终抛光过程：在MICROCLOTH抛光表面上，使用 MASTERMET 2二氧化硅抛光液， 转速120 RPM, 反向转动，压 力：27N（6lbs）/每个样品，时间10min。 * 同向转动是指，抛光机动力头转动方向与抛光机底盘转动 方向相同。 * 反向转动是指，抛
9、光机动力头转动方向与抛光机底盘转动 方向相反。 对于钛合金，使用上述方法虽然抛光后还有一些划痕存在， 但是其效果还是完全能够满足要求的。如果CP级的纯钛使用 上述样品制备方法，就不能达到要求了，如下图1所示： 在第二步和第三步之间加上一步3m金刚石抛光序，对于 相钛合金和CP级的纯钛没有太大作用。无论你使用质地硬的 无毛还是质地软的有毛织物，对于纯钛样品结果一样的。如 果在第二步使用这种ULTRA-POL抛光布那么结果样品上的划 痕会减少许多，这样的结果对于纯钛的样品也是不错的。在 第二步抛光使用TEXMET 1000抛光布也与ULTRA-POL抛光布 具有几乎同样的效果。图2显示的是同一个样
10、品试用不同抛光 布得到的成功的实例。320grit SiC砂纸（第一步），粗抛 光使用9m金刚石抛光液（第二步），使用的抛光布分别为 ULTRA-PAD, ULTRA-POL 和 TEXMET 1000。由此可见第二步 抛光，首选的抛光布应该是ULTRA-POL 和 TEXMET 1000，二 者的效果几乎相当。 图3 显示的是另一个实例，两个样品的第二步使用ULTRA- POL第三步使用MICROCLOTH 抛光布，化学抛光剂： 0.5% HF水溶液， CP级的纯 Ti (图 3b)中的晶粒彩色腐蚀。 在高放大倍数下可以观察到晶粒凸凹起伏，第三步使用 MICROCLOTH 抛光布可以得到相当
11、不错的效果。如果使用 Krolls 侵蚀剂代替 0.5% HF, CP级的纯 Ti中的晶界可 以显示出来而不是彩色侵蚀，但是注意，只有在样品制备接 近完成才进行侵蚀，图4 显示的是- 相合金，-相合金 和一个CP级的纯钛样品，其中- 相合金样品制备全部完 成，但是-相合金和一个CP级的纯钛样品制备效果不佳。 图1：使用 3-步制备方法 a) Ti-6Al-2Sn-4Zr-2Mo (977C, 风冷, 593C - 8h, 空冷, 500x) 显微组织清晰; b) CP 纯Ti (ASTM F67, 2级, 1040C 退火) 未添加化学侵蚀剂 (0.5% HF )不能显示显微组织(200x)
12、图 2. 第二步使用9m METADI金刚石对 Ti-6Al-2Sn-4Zr- 2Mo样品使用不同抛光布后的，抛光效果a) ULTRA-PAD, b) ULTRA-POL, 和c) TEXMET 1000 (200x). 图 3. 使用三步抛光工序，期间没有使用化学抛光剂的抛光 样品实例 （第三步使用 MICROCLOTH 抛光布) a) 轧制的 Ti-8Al-1Mo-1V (500x); and, b) CP 级纯Ti, ASTM F67, 级 别 2, 1040C 退火 (200x) (0.5% HF侵蚀)。抛光效果相 当不错。 添加化学抛光剂： 如果在抛光的第三步中的SiO2中加入一些化
13、学抛光液，那么 就能更清晰的显示其显微组织。如图 5 所示： 第二步使用 ULTRA-POL 抛光布, 第三步使用 MICROCLOTH 抛光布，该步 骤的抛光液为: 50mL MASTERMET 2 图 5b 显示的是制备良好，退火后的CP级纯钛中的晶粒结 构，在晶粒中可以看到轻微的加工硬化现象。大量的实践 经验表明：在第三部抛光过程中加入化学侵蚀剂，对于CP级 纯钛中的晶粒往往可以得到令人满意的效果。 对于CP 级纯Ti样品而言，在第3步上使用有毛的抛光布， 如：MICROCLOTH 和 MASTERTEX, 抛光布比使用无毛的如 CHEMOMET I 抛光布效果更佳。 使用CHEMOME
14、T抛光布，可以很好的保持样品边缘和其内部空 洞边缘(铸件)，而且在这种抛光布上还能使用化学抛光剂。 所有的抛光布对于两相的Ti合金都有很好的效果，如：常用 的Ti-6Al-4V 合金。如果在第二步使用TEXMET 1000 抛光 Tech-Notes Volume3, Issue3 钛和钛合金的金相样品制备 布，第三步使用MICROCLOTH抛光布，同时加入一些化学抛光 剂其效果相当不错，如图 6所示。表1所列为首选的抛光工艺 简介。 图 4. 使用三步抛光工序，期间没有使用化学抛光剂的抛光 样品实例 （第三步使用 MICROCLOTH 抛光布) 。 a) 轧制的 Ti-8Al-1Mo-1V
15、(500x); b) 退火后 Ti-5Al-2.5Sn (200x); 和 c)CP 级纯Ti, ASTM F67, 级别 2, 1040C 退火 (200x)，侵蚀剂： Krolls, 图 b) 和 c)显示-相抛光质 量不佳的状态。SiO2 +10mL H2O2 (30%) 和 5mL Krolls 侵蚀剂。 图 5. 在第三步的抛光过程中，在SiO2抛光剂中加入了化学 侵蚀剂 (抛光布是MICROCLOTH)，其效果非常好 (第二步使用 ULTRA-POL抛光布)。 图 a)所示，热处理后Ti-6Al-2Sn-4Zr- 2Mo (500x); 和图 b) CP级纯 Ti (ASTMF67
16、, 4级, 704C 退火后, 200x), 侵蚀剂均为 Krolls侵蚀剂。 图 6. 优异的抛光质量：抛光第二步使用TEXMET 1000 抛光 布，第三步使用MICROCLOTH抛光布，化学抛光剂+二氧化硅抛 光剂。a)Ti-6Al-2Sn-4Zr-2Mo合金铸态 (200x), b) 热处理 后 (950C, 风冷, 593C - 8h, 空冷) Ti-6Al-2Sn-4Zr- 2Mo合金 (500x); 和 c) 轧制 CP级纯 Ti (ASTM F67, 2级, 200x); 侵蚀剂均为 Krolls 侵蚀剂. Mller 方法 Gnther Mller 三步抛光方法也是非常好的。虽然在CP 级 纯Ti样品中的相中有点加工硬化的痕迹，但是其效果还是 可以接受的。图7所示，就是一个使用这种抛光方法得到CP 纯Ti样品组织照片。 其他方法 三步抛光方法是可行的。首先，第一步使用240 grit SiC砂 纸而不是使用320 grit SiC
