关于电子探针x射线显微分析

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1、电子探针x射线显微分析,Electron Probe Microanalysis,4. 电子探针x射线显微分析,电子探针仪(EPMA)是一种微区成分分析仪器。 采用被聚焦成小于1 的高速电子束轰击样品表面,利用电子束与样品相互作用激发出的特征x射线,测量其和,确定微区的定性、定量的化学成分。 SEM-EPMA组合型仪器,具有扫描放大成像和微区成分分析两方面功能。,4.1 工作原理,具有足够能量的细电子束轰击试样表面,激发特征x射线,其波长为: 与样品材料的Z有关,测出 ,即可确定相应元素的Z 。,工作原理,某种元素的特征x射线强度与该元素在样品中的浓度成比例,测出x射线I,就可计算出该元素的相

2、对含量。,4.2 构造,主要有柱体(镜筒)、x射线谱仪、纪录显示系统。 镜筒包括电子光学系统、样品室、OM等。 EPMA与TEM大体相似,增加了检测特征x射线和I的x射线谱仪波谱仪、能谱仪。,X-ray 谱仪,(1)波长分散谱仪 WDS Wavelength Dispersive Spectrometer,通过衍射分光原理,测量x射线的分布及I。 已知d的晶体(分光晶体),反射不同的x射线,在特定位置检测。,工作原理,由布拉格定律,从试样中发出的特征X射线,经一定晶面间距的晶体分光,波长不同的特征X射线将有不同的衍射角。 连续改变,在与X射线入射方向呈2 的位置上测到不同波长的特征X射线信号。

3、 由莫塞莱定律可确定被测物质所含元素 。,分光晶体,专门用来对x射线起色散(分光)作用的晶体,具有良好的衍射性能、强的反射能力和好的分辨率。 晶体展谱遵循布拉格方程,对于不同的x射线,需要选用与其波长相当的分光晶体。 为了提高接收X射线强度,分光晶体通常使用弯曲晶体。,弯曲分光晶体两种聚焦方式,约翰型聚焦法:晶体曲率半径是聚焦圆半径的两倍 约翰逊型聚焦法:晶体曲率半径和聚焦圆半径相等,两种聚焦方式,约翰型:当某一波长的X射线自点光源S处发出时,晶体内表面任意点A、B、C上接收到的X射线相对于点光源来说,入射角都相等,由此A、B、C各点的衍射线都能在D点附近聚焦。 因A、B、C三点的衍射线并不恰

4、在一点,是一种近似的聚焦方式。 约翰逊型:A、B、C三点的衍射束正好聚焦在D点,叫做完全聚焦法,波长色散谱,WDS 特点:,分析速度慢 单个元素测量,做全分析时间较长。 分辨率高:10eV 谱仪分辨率是指分开、识别相邻两个谱峰的能力。 测量精度高,多用于超轻元素Z9测量。 峰背比大 背底扣除容易,数据处理简单。 分析元素范围:4Be92U 样品表面要求平整、光滑。,(2)能量色散谱仪 EDS Energy Dispersive Spectrometer,利用固态检测器(锂漂移硅)测量每个x射线光子的能量,并按E大小展谱。 得到以能量为横坐标、强度为纵坐标的x射线能量色散谱,显示于荧光屏上。,工

5、作原理,锂漂移硅半导体探测器,习惯记Si(Li)探测器。 X射线光子进入Si晶体内,产生电子空穴对,在100K左右温度时,每产生一个电子空穴对消耗的平均能量为3.8eV。能量为E的X射线光子所激发的电子空穴对数N为 NE 入射X射线光子E不同,激发的N不同,探测器输出电压脉冲高度由N决定。,NaCl的扫描形貌像及其能量色散谱,EDS 特点:,分析速度快 分辨率较低: 150eV 峰背比小 谱峰宽、易重叠,背底扣除困难,数据处理复杂 分析元素范围:11Na92U 进行低倍扫描成像,大视域的元素分布图。 对样品污染作用小 适于粗糙表面成分分析 不受聚焦圆的限制,样品的位置可起伏23mm 工作条件:

6、 探测器须在液氮温度下使用,维护费用高。,WDS 与EDS比较,WDS分析元素范围广、分辨率高、适于精确的定量分析,对样品表面要求高、分析速度慢,易引起样品和镜筒的污染。 EDS在分析元素范围、分辨率方面略逊,分析速度快、对样品表面要求不高、可用较小的束流和细微电子束,适于与SEM配合使用。,波谱仪的晶体分光特点,对波长为的X射线不仅可以在探测到n1的一级X射线,同时可在其它角处探测到n为不同值的高级衍射线。 波谱定性分析不如能谱定性分析那么简单、直观,就要求对波谱进行更合乎逻辑的分析,以免造成错误。,例:,SK(n1)存在于0.5372nm处,CoK(n1)在0.1789nm处,CoK(n3

7、)的三级衍射在30.1789nm0.5367nm处,故SK的一级线和CoK的三级线非常近无法区分。 SK和CoK具有不同的能量,使探测器输出不同电压脉冲幅度。CoK是SK的3倍,根据SK电压脉冲信号设置窗口电压,通过脉冲高度分析器排除CoK的脉冲,从而使谱中0.5372 nm处仅存在SK线。,4.3 样品制备,EMPA对样品尺寸大小、导电性、预处理的要求与TEM相同,除此之外,应注意: 定量分析的样品,表面必须抛光以保证平整、光滑。 光学观察进行侵蚀的样品,应控制侵蚀程度。 样品表面清洁,防止污染。(机械抛光、化学试剂、表面氧化膜和碳化产物、残存的污染),4.4 分析方法,定性分析: 记录样品

8、发射的特征x射线。 对比单元素特征谱线波长,确定样品中的元素。 定量分析: 记录样品发射的特征x射线和I。 每种元素选择一根谱线与已知成分纯元素标样的 同根谱线进行比较,确定元素含量。,基本工作方式:,(1)定点元素全分析(定性或定量) 电子束固定在分析的某一点(微区),改变晶体的衍射角,记录该点不同元素 的x射线和I。 谱线强度峰的位置波长微区含有元素 元素某一谱线的强度元素的含量,微区成分分析,(2)线扫描分析,聚焦电子束在试样沿一直线慢扫描,同时检测某一指定特征x射线的瞬时I,得到特征x射线I沿试样扫描线的分布。(元素的浓度分布) 直接在SE像、BE像上叠加,显示扫描轨迹和x射线I分布曲

9、线,直观反映元素浓度分布与组织结构之间的关系。,线扫描分析,对于测定元素在材料相界和晶界上的富集与贫化是十分有效的。 垂直于扩散界面的方向上进行线扫描,可以很快显示浓度与扩散距离的关系曲线,若以微米级逐点分析,可相当精确测定扩散系数和激活能。,线扫描分析,(3)面扫描分析,电子束在试样表面进行面扫描,谱仪只检测某一元素的特征x射线位置,得到由许多亮点组成的图像。亮点为元素的所在处,根据亮点的疏密程度可确定元素在试样表面的分布情况。 准确显示与基体成分不同的夹杂物的形状,定性显示元素偏析。,面扫描分析,亮区代表元素含量高,灰区代表元素含量较低,黑色区域代表元素含量很低或不存在。,注意:,线扫描、

10、面扫描要求样品表面平整,否则出现假象。 线扫描、面扫描只作定性分析,不作定量分析。 定量分析是一种半定量分析。 原因是:谱线强度与元素含量有关外,还与试样的化学成分有关,通常称为“基体效应”,谱仪对不同波长(或能量)X射线探测的效率不同。,4.5 应用,一种无损的微区分析,特别是成分及其分布。 对微区、微粒、微量的成分分析具有分析元素范围广、灵敏度高、可定量等优点,在各领域广泛应用。(冶金、材料、生物、医学、考古等),应用举例,组分不均匀合金试样的微区成分分析 扩散对试样中成分梯度的测定 相图低温等温截面的测定 金属半导体界面反应产物,其它电子显微镜,扫描隧道显微镜 (STM),主要用于表面原

11、子成象(导体) STM的横向分辨率高达1,纵向分辨率10。它对原子的检测深度12个原子层,对样品无破坏。 发明者 Dr.Binning获1986年的诺贝尔奖。,Atomic Resolution on Si(111),原子力显微镜 (AFM),Dr G. Binning developed AFM in 1986 可测量表面原子间的力(可测量最小位移10-2-10-4 ,最小的力10-14-10-15N)、表面弹性、塑性、硬度、粘着力、摩擦力等性质。(可用于非导体) 横向分辨率1.5,纵向分辨率为0.5。,a. Writing on Ferroelectric Materials b. Atomic resolution on carbon nanotubes c. Magnetic domain walls on a BaFe12O19 single crystal,电子显微镜分析在材料研究中的应用,形态分析 元素的存在状态分析 玻璃的非晶态结构分析 材料断面的研究 晶界(微观研究) 微区结构分析 高分子材料的研究,

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