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3、上讲内容:光刻工艺流程光刻工艺的8个基本步骤片水ProfShiyuanLiPage5上讲内容:光刘与光刘机么对准和曝光在光刻机(LithographyTool)内进行。其它工艺在涂胺显影机(Track)上进行。刑5ZEEE0动颊顶匹才刀江水孙明仁力光刻机简介光刻机结构及工作原理一PShiyuanLiPage7LozzpoupauypyAaT(，r/r7_旺沥、光刻机简介*微电子装备芯片设计能力芯片制造与制造设备芯片测试与测试设备设备是信息产业的源头:我们开发设备、设备制造芯片、芯片构成器件、器件改变世界!PhoShiyuanuPage8iazhongUnizersityo/Science口75zE园国U0光刻机简介Intel创始人之一摩尔1964年提出,大约每隔12个月:1).芯片能力增加一倍、芯片价格降低一倾;2).广大用户的福音、行业人员的史梦。芯片集成密度不断提升、光刻分辨率的不断提升!*摩尔定律Transistorsi10M心sosgdIMF一一门一一fEn一|0吵C310K32一rnI19751980“1985199019952000ProfShiyuanLiPage9畜*2006国际半导体技术路线图(LTRS)光lj木几简个一一3r_原理研究L样机研发LCLZLLEEE产品量产|。-二心el持续改进吴-一一s一PioShiyuanl
