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1、裘亡57Jinchu醚u.奏om5微纳加工技术80画x纳米技术(ranotechnology,米范围内材料的性质和应用。F发明后,诞生了一门以0.1到100纳米长度为研究分分二来构造具有功能的产品。因此,人至100纳国技米技术将氙原子排成IBM学s微纳加工技术仪t木俊&的提出及应用领域随着制造业的发展对加工精度提出了越来越的要求高,传统机床的加工精度已经远远能潇足飞速发展的消费及军工领域的要求,如电子硅芯片、大规模集成电路,以及对表面粗机度要求很高的波晶面板等,于是,人们把眼光投入到精度更高的加工技术上,从最初的毫米级,到微米级(丁分之一毫米),到纳米级(千分之一微米),于是,“微纳技术“这一
2、概念就应运而生了。微纳技术多年的取展过程中。从刚开始的单纲理论|研究衍生出了许多组分。如微纳级糖度和表面形猷的浏量,微纳级表层物理、化学、机械性能的检测,微纳级精度的加工和微纳级表层的加工原子和分子的去除、撞迁和重组,以及纳米材料纳米级微传感器和控制技术。微型和超微型机械:微型和超微型机电系统和其他综合系统;纳米生物学等古一方面,微纳技术的应用领域也得到了很大拓展。到目前为止。微纳技术已经被广泛应用于国防军工和民用产品。最主要的应用如纳米级机械加工、电子林和离子林加、LIGA技术、扫描隐道显徽加工技术等。园X3ER4R微纳加工技术我国微纳制造技术发展现状微纳加加工技术般指微米、纳米级(1-10
3、0nm)的材料、设计、制造、测量、控制和产品的研究、加工、制造以及应用术由于受到基础装备、工艺技术、科研经费、行业基础等多方面因素的影响。我国的微纳制造技术的研究与世界先进水平之间尚有差距。从制造角度来说,国内的微纳技术应用除了在微电子技术、生命科学生物工程及材料应用外,在机电工程领域如静电陀蝎等精确制导系统方面也有应用。但总体上来说,国内徽纳制造加工成烨度不高。纳米制造在工业应用上更尕。究其赔图,一方面是国为我国工业底子濑一些最适合应用到微纳技术的领域如芯片、大规模集成电路、汽车以及飞机发动机系统、高端制导系统等,核心技术、核心装备并没有学提在我们手里;古一方面,我国的科研体系更倾向于能够产
4、生市场效益的工程研究,而对于短期无法看到效益的基础研究支持力度不够,甚至有逐年下滑的趋势,第三。微纳制造技术不只是加工方法的问题,同样是制造装备的问题。高精密仪咤设备及高精度制造、测量技术也是制约我国微纳技术发展的因素之一。s微纳加工技术ku丁团四时善人tyut系组(MEMs)的广用领我微型机电系统HMEMS)可以说是目前微纳技术应用最为广泛的了,如专用集成微塑仪器,微型机器人。微型慢性仪表,以及小型、微型关致是纳米卫星等。尤其是惯性仪表,它是指陀螺仪、加速度表和惜台)是航空、航天、航侮中指矛方门的导航仪器由于航空术、基巳揍俨聂轨二工红述院系统,小虬坦技术分卡组件装配技术,军事领域的精确制导/
5、精确攻击技术、微塑惯性平台、航空航天领域的微型飞机、微型卫星、纳米卫星等。微纳制造技术的发展,同样涉及到科研体系问题。严格意义上来说,科研分为三个领域,一个是基础研究领域,一个是工程化应用领域,一个是市场推广领域。在发达国家的科研机制中。儿乎所有的基础研究领域都是由国家或改府直拳或间接支持的。这种基础研究最看重的是对于国家、民生或国防的长远意义,而不是短期内的投入与产出。因而致力于基础研究的机构或者人员。根水小川柬虑删冗们所删坳化”问题。咖只足进】础川L仑5分析,并提出史议,最后由市场或最后市场化推广的问题自然是企业来做了微纳加工技术图12号纳米电子李曝光系统(JSM-6360)传X微纳加工技
6、术纳米级电子束嚣光系统是以电子光学、精密机械、高真空技术、精密电子技术和计算机自动控制技术为一体的高技术集成,是研究半导体技术、光电子技术、微机电系统及微结构研发的关键设备之中国科学院电工研究所完成的纳米级电子东曝光系统具有纳米级嚣光分辨率,控制软件丰富、操作便捷,可进行图形拼接和图形套刻。该设备既可以用于制作精密实验掩模版,也可以在硅片上直接嚣光。击于其极高的分辨率,除了微电子产业应用外,它也成为当今纳米制消和助米分析的丶要手段。该项目兽准国内急需的电子束嚣光设备,在攻克实用化样机关键技术基础上。研制了以高档扫描电镜(SEM)为基础,配备了激光定位精密工件台、DSP为核心的多功能图形发生器、
7、控制用微型计算机、真空系统、控制软件和自动输片机构的新型纳米级电子李曝光系统。供科研单位和大学用于纳米科技和半导体前治研究,满足我国科研机构和国防建设需要。:微纳加工技术在该项目在研究过程中,科研人员研发了多项具有自主知识产权的创新性关键技术。开发了以数字信号处理器(DSP)为核心,Windows2000为操作系统的通用图形在自主研制数字信号处理和软件系统方面取得了重大突破。该图形发生器可接_收GDSII、CIF、DXF图形数据并可与SEM、扫措探针显微镜(SPM)、聚焦离子束(FIB)连接,实施嚣光或加工,实现高精度图形拼接和套刻。0园0人在PMMA胶上制作的单线条图形线宽21.4nm“PMMA胶光柚图形线宽30nm-_-_1
