《防静电应用》ppt课件

上传人:tia****nde 文档编号:69636118 上传时间:2019-01-14 格式:PPT 页数:43 大小:3.52MB
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1、静电是自然界普遍存在的瞬态强电脉冲,其频率在1MHz500MHz之间,3.2 防静电应用 静电无处不在,摩擦:具有不同介电常数的物体之间,接触 感应:带电体与导体之间,非接触,3.2 防静电应用 静电产生:形成方式,摩擦时,电子从较上的物质转向较下的物质,使较上的物质带正电荷,较下的物质带负电荷 物质离得越远,摩擦产生的电荷量越大,静电产生: 摩擦起电序列,中性,正电荷逐渐增加,负电荷逐渐增加,3.2 防静电应用 静电产生:实例,人在地毯上行走产生静电 鞋底与地毯摩擦产生静电,并逐渐传输到整个人体 鞋与地毯的性质差距越大,走得越快,走的距离越远,环境湿度越小,则产生的静电就越大,人体及其衣服:

2、接触面广,活动范围大,与大地之间的电容小(150pF左右),串联电阻低(150左右),放电电流可达几十A,上升速度小于ns 器件载体:包装容器(袋、盒、包),夹具,传送导轨 周边环境:工作台,椅子,地板,焊接工具,装配工具,3.2 防静电应用 静电产生:主要来源,运动的速度 材料性质的差异 (化纤比棉织品严重) 物体之间的电容 环境湿度 (北方比南方严重,内陆比沿海严重) 物体的电阻,3.2 防静电应用 静电产生:影响因素,3.2 防静电应用 静电放电:定义,什么是静电放电? ESD:Electric Static Discharge 静电放电是具有不同静电电位的物体相互靠近或直接接触引起的电

3、荷转移(GB/T4365-1995),静电放电导致芯片损坏,3.2 防静电应用 静电放电:基本过程,静电荷的产生 若一个电源对100pF的电容充以10-7C的电荷,可使其端电压达到100V,存贮能量50uJ,静电荷的保持与泄漏 若介质漏电电阻Rg和空气放电电阻Ra之和为1013量级,则放电时间常数为103s左右 若电容不能耐1000V的电压,即会被击穿,静电荷的泻放 若放电电阻为100欧姆,则放电时间常数为10ns,放电电流峰值可达10A,平均功率可达1000W 若放电通道上的器件忍受不了这么大的电流,即会被烧毁,人体对器件放电(Human-Body Model,HBM):发生概率最大,常作为

4、测试标准 机器对器件的放电(Machine Model,MM):放电电阻小,破坏力大 带电器件的放电(Charged-Device Model,CDM):器件通过摩擦或接触带电 场致放电(Field-Induced Model):器件通过静电感应带电,3.2 防静电应用 静电放电:主要形式,人体放电的典型波形,带电器件放电的典型波形,3.2 防静电应用 静电放电:人体的静电放电,如果接受者是元器件,就会对元器件带来损伤或者破坏,3.2 防静电应用 静电放电:对人体的损害,人在地毯上行走:鞋与地毯摩擦产生静电(假定为正电荷) 人体电荷重新分布:脚带正电荷,手带负电荷 人手接近(或触摸)键盘:键盘

5、通过感应(或传导)带正电荷(或负电荷),接近速度越快,距离越近,电荷越多 键盘对地放电或辉光放电:键盘上的元器件损坏,3.2 防静电应用 静电放电:人行走-键盘模型,辉光放电,对地放电,3.2 防静电应用 静电放电:器件抗静电能力测试,I/O-to-VDD/VSS,Pin-to-Pin,VDD-to-VSS,3.2 防静电应用 静电失效:失效模式,pn结击穿,金属化失效,键合线开路,突发失效(catastrophic damage):单次高电压,功能即时丧失 隐性失效(latent damage):多次低电压,寿命缩短,抗应力能力下降,现象:MOS器件栅击穿,双极器件pn结击穿 因素:输入电阻

6、越高,输入电容越小,越容易失效 多发器件:超大规模集成电路(薄栅氧化层),超高频功率晶体管(高压,梳状电极),声表面波器件(小间距薄层电极),3.2 防静电应用 静电失效:过电压场致失效机理,现象:直接烧毁,诱发闩锁效应或二次击穿效应 因素:电流截面越小,对地电阻越低,环境温度越高,越容易失效 多发器件:反偏pn结,小面积pn结,高温工作条件,3.2 防静电应用 静电失效:过电流热致失效机理,甚敏感器件 MOS器件:MOSFET,VDMOS,MOS电容 栅控器件:JFET,SCR 微波与射频器件: GaAs MESFET,HEMT,MIMIC 敏感器件 MOS数字电路:CMOS,NMOS,存储

7、器与微处理器 小信号模拟电路:运算放大器,A/D&D/A 双极数字电路:TTL,STTL,ECL 中等敏感器件 双极器件:pn二极管,双极晶体管 阻容元件,3.2 防静电应用 静电敏感性:器件分类,3.2 防静电应用 静电敏感性:CMOS与双极器件,nMOSFET VGSVGD,pMOSFET VSGVDG,MOS 器件比双极器件更容易被静电损坏 输入为绝缘层,无放电通道,静电容易产生及积累 输入电容很小(几pF),耐压不高(通常在15V40V),积累较少的静电电荷(约100pC)即可发生击穿 栅-源比栅-漏更容易发生击穿,因为在器件的正常工作条件下,栅-源电压的绝对值大于栅-漏电压的绝对值,

8、3.2 防静电应用 静电敏感性:发射结与收集结,发射结比收集结更容易发生静电放电击穿,导致双极晶体管静电放电热破坏的功率密度与脉冲宽度关系曲线,发射结理论拟合曲线,实验数据,收集结理论拟合曲线,3.2 防静电应用 静电敏感性:正偏与反偏pn结,正偏pn结 结区压降小,中性区压降大 中性区截面积大,厚度大,故电流密度小,电场强度低,不易发生静电损伤,反偏pn结 结区压降大,中性区压降小 结区截面积小,厚度小,故电流密度大,电场强度高,易发生静电损伤,3.2 防静电应用 静电敏感性:温度的影响,对于静电放电热致失效,环境温度越高,发生失效所需的静电能量越低,越容易发生此类失效,3.2 防静电应用

9、片内静电保护:MOS单管,3.2 防静电应用 片内静电保护:二极管保护电路,保护电路,实现结构,等效电路,3.2 防静电应用片内静电保护:电阻-二极管保护电路,保护电路,实现结构,等效电路,3.2 防静电应用 片内静电保护:FET保护电路,利用栅-源短路的MOSFET代替二极管来箝制静电势和泻放静电能,利用高阈值电压(4050V)的p沟道MOSFET的开关特性来进行静电保护,利用MOSFET的漏-源穿通特性进行静电保护,3.2 防静电应用 片内静电保护: 扩散与多晶硅电阻,多晶硅电阻:相对较差,因为其周围的氧化层阻碍散热,必须采用更大的条宽,并接近输入端,但因无寄生二极管,抗闩锁能力较强,扩散

10、电阻:相对较好,因为其硅衬底可提供有效热阱,但因有寄生二极管,抗闩锁能力较弱,3.2 防静电应用 片内静电保护: 静电-闩锁双重防护,既保护输入端,也保护输出端 既防止正的过电压,也防止负的过电压,3.2 防静电应用 片内静电保护: 双极器件对策1,尽可能扩大发射区面积和周长,可减少静电损伤,静电损伤阈值电压测试电路,3.2 防静电应用 片内静电保护: 双极器件对策2,限流电阻,箝位二极管,采用箝位二极管限制输入端、电源端、地线端之间不会产生过电压,采用限流电阻限制输入端流入电流 电阻阻值通常在200 2k,限制电流10mA(输入端与输出端),3.2 防静电应用 片外静电保护:限流与限压,3.

11、2 防静电应用 片外静电保护:PCB对策1,采用限流和泄放电阻(对输入阻抗有影响),采用射级跟随器(对速度有影响),3.2 防静电应用 片外静电保护:PCB对策2,采用互补放大器(失真度小),采用光电耦合器(隔离地线干扰),3.2 防静电应用 片外静电保护:PCB插拔保护,3.2 防静电应用 片外静电保护:插入缓冲器,未加缓冲器,静电耐压12kV,加入缓冲器,静电耐压35kV,3.2 防静电应用 环境防护:防静电工作区,静电防护区 I类:静电电位100V II类:静电电位500V III类:静电电位1000V,3.2 防静电应用 环境防护:防静电工作桌,所有的桌垫、腕带、地毯等均通过1M电阻接

12、地,3.2 防静电应用 静电环境防护:防静电台面,推荐标志,可用标志,标准的防静电标志,防静电材料 不易产生静电 安全泄放静电,3.2 防静电应用 环境防护:湿度影响,抗静电能力很弱(如大陆性气候),抗静电能力很好(如海洋性气候,但易被腐蚀),3.2 防静电应用 环境防护:湿度控制,相对湿度,静电电压/kV,湿度:相对湿度最好控制在4060,相当于在物体表面覆盖了一层静电耗散材料(带导电杂质的水汽) 离子风:中和表面静电电荷 防静电涂剂:促进静电耗散,减少摩擦生电,防静电材料,接地回路应有足够的载流量 操作人员、导电物体接地必须接有适当阻值的电阻(100k),以保安全 不能与避雷地、交流地共用, 视情况可以与电气保护地、电磁屏蔽地等共用,3.2 防静电应用 环境防护:接地控制,插拔:禁止带电插拔,插上器件或印刷板后才通电,断电后才拔出器件或印刷板 安装:只接触器件外壳不接触引脚,接触器件前先放电,焊接与装配器具接地 调试:禁止不带电加信号,不要将电源加到非电源端,不要插错腿,不使用的输入端最好接地 动作:尽可能减少动作的频度和速度,3.2 防静电应用 环境防护:操作控制,包装要求 防止静电的产生和积累 使器件的所有管脚短路 对外电场有屏蔽作用 运送要求 器件间隔离传送 管脚短路传送 尽量减少机械振动和冲击 与传送载体无摩擦,3.2 防静电应用 环境防护:包装与运送要求,

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