有机合成课件保护基团

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1、第七章 保护基团 (protective groups) 参考文献: T. W. Greene, Protective groups in organic synthesis, third edition,一、概述:理想保护基团的标准 1保护基的来源,经济性 2容易引入,保护效率高 3保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复 杂性,如新手性中心等。 4保护后的化合物在后面的反应中要求稳定 5保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定 6能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影 响分子其余部分。 7去保护的后的主产物要易于分离。 8有时还可以将保护基转换为其他官能团。,二、羟基的保护 (一)形成

2、醚 1.甲基醚,I. 保护 (1) 有机溶剂, 产率6090% (2)MeI, Me2SO4 NaH, KI,THF,引入甲醚无很大位阻影响 (3)CH2N2 硅胶 /HBF4,(4)MeI, Ag2O,II去保护 Lewis酸 Me3SiI/CHCl3, BBr3, CH2Cl2。 浓HI,2形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3,去保护: 无水CF3COOH, 0-20oC. 2M HCl, CH2OH HBr, AcOH, 20oC 30分钟,3苄醚 ROCH2Ph, Bn-OR BnCl, KOH(粉末),130140o, 苄氯或苄溴与醇形成苄醚。,优先保护伯醇,三、二醇的保护 1,2二醇 1,3二醇 (一)形成缩酮、缩醛 用醛、酮:丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚 (2甲氧基丙烯)等 在酸催化下进行。,糖类,甘油,脱保护: 稀酸水溶液,rt; 或加热。,四、羰基的保护 (一)形成缩酮或其他等价物 反应活性: 醛链状羰基环己酮a,b-不饱和酮苯基酮,环状缩酮较稳定。,酸水解的相对速率:,(二)、形成缩硫酮 保护:酸催化 去保护: HgCl2,CdCO3 Hg(ClO4)2,MeOH,25oC,Raney Ni 可将羰基还原成亚甲基。 应注意去保护,同时可以完整地还原成CH2 很好的保护基,但不如乙二醇 乙二醇,毒性小 二硫醇,毒性,气味,

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