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榴氓河剧谚工节此京大学传_碳鳗髂弟l孽集成电路的设计过程:乙行为设计(VHDL)PHSENIPhosphidesllicategCqpEieFerroe06i园&zzztezht.toesxs史“FerrodecycepieitorFintmealN/AUTiN/Td口不DEE车77有源区集成电路的内部单元(俯视图)鹰儿表孝。1hmx1hm(晶体管的大小)90年代生产的集成电路中晶体管大小与人类头发丝粗细、皮肤细胞大小的比较qb素水棣“稳砥珑瑾执氩化念M真成电路(互补型MOS集成电跋):目前应用最为广泛的一种集成电路,约占集成电路总数的95奶以上。Mn-channeip-channeln-Substrate驯深成电路制造工艺粑图形转换:将设计在掩膜版(类似于照相底片)上的图形转移到半导体单晶片上丘掀杂:根据设计的需要,将各种杂质接杂在需要的位置上,形成唾体等、接触等丘制膜:制作各种材料的薄膜霸Ju#n命
