专利技术交底书张鑫

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1、2016 学年度第一学期 姓 名 张 鑫 学 号 03160125 院（所、部） 化工学院 年 级 2016级 专 业 工程硕士 研究方向 化学工程 课 程 专利实务与专利申请 考试方式 论文 主考教师评语成绩 主考教师签名： 2016 年 10 月 8 日 技技 术术 交交 底底 书书 编号: 专利发明人填写 手机手机18795278319 第一发明人第一发明人张 鑫 座机座机 (总机总机+ 分机分机) 邮箱邮箱Z 手机手机 技术问题联系人技术问题联系人 座机座机 (总机总机+ 分机分机) 邮箱邮箱 发明名称发明名称一种柔性基板及基于该基板的 OLED 中文中文柔性，有机电致发光器件，底发射

2、，网状结构关键词关键词 （35 个）个） 英文英文 相关性分析相关性分析 （本领域现有技（本领域现有技 术的介绍，最好术的介绍，最好 有最接近的现有有最接近的现有 技术的专利申请技术的专利申请 号或者专利号）号或者专利号） 目前柔性 OLED 采用的阳极材料为 PEDOT，但是 PEDOT 的导电性不佳，所以需要在电极下 面制备电流汇集层，制备电流汇集层之后，阳极表面的平整性会受到影响，平整性太差会影响 OLED 的性能，甚至使 OLED 不能点亮，专利 201210076439.3 介绍了一种制备超平滑阳极结 构的柔性 OLED 的方法，本专利采用在该专利的基础上加上沉积、曝光、显影等工艺使

3、电流汇 集层嵌入柔性衬底里面，获得拥有电流汇集层的平整的柔性衬底。 摘要摘要代表性附图代表性附图 发发 明明 人人 填填 写写 本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的 OLED，该柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和 脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层 网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里 面，该网状汇流层在保证高透过率的同时， 提高了电流的传导能力，由于该柔性基底的 制备工艺，使得该柔性衬底表面的粗糙度非 常小，有利于载流子的注入，使得该柔性基 底有利于提升 OLED 的发光效率。基于该柔 性基底的 OLED 包括柔性基底、阳极、有机 层、阴极，阳极为导电高分子材料。 技术领域技术领域（写明

4、要求保护的技术方案所属的技术领域） 本发明涉及一种柔性基板及基于该基板的 OLED，属于光电子技术领域。 背景技术背景技术（背景技术是指本技术交底书的基础技术或者方法或结构与本技术交底书最近似的技术。写明对技术方案的理解、检索有 用的背景技术，有可能的，并引证反映这些背景技术的文件；记载现有技术的出处，即参考文献、专利公开号，并且详细说明现有技术 的实施情况；客观指出现有技术的不足之处与存在的问题。 ） 到目前为止，实际应用的显示器主要有阴极射线管（CRT） ，液晶显示器（LCD） 、真空荧光器件（VFD） 、等离子 显示器（PDP） 、有机电致发光器件（OLED） 、场发射显示器（FED）和

5、电致发光显示器（ELD）等。 OLED 作为新型的平板显示器与 LCD 相比，具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应 速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点。OLED 正是由于 具有其他显示器不可比拟的优势以及美好的应用前景得到了产业界和科学界的极大关注。 在 OLED 的各项功能层，电极材料的选择非常重要，大部分用于 OLED 的有机材料的 LUMO 能级在 2.5eV- 3.5eV,HOMO 能级在 5eV-6eV,因此阴极是一个低功函数的金属，阳极需要一个高功函数的材料去配合，才能得到最低 的注入能垒，选择阳极材料时，

6、要求良好的导电性、化学及形态的稳定性、功函数和空穴传输材料的 HOMO 能级匹 配、可见光的透明度，最常用的透明导电聚合物为 ITO，该类材料拥有上述的优点，但是 ITO 也有相关的缺点，比如 价格比较昂贵，而且有实验证明 ITO 会影响 OLED 的寿命，不仅如此，在柔性显示中，ITO 的溅镀会影响柔性基底的 平整性，柔性显示中，反复的折叠会导致 ITO 从基底表面脱落，进而影响 OLED 的寿命 PEDOT 具有分子结构简单、能隙小、电导率高等特点，被广泛用作有机薄膜太阳能电池材料、OLED 材料、 电致变色材料、透明电极材料等领域的研究。PEDOT 有以下这些优点： (1) 导电率高。用

7、旋涂或者浇铸成膜得到的 PEDOT 其电导率能达到 550S/cm，用气相聚合法得到的聚合物更是 达到 1000S/cm 以上； (2) 氧化状态下具有很高的稳定性。在 120下保持 1000h，其电导率基本不变； (3) 氧化状态下，PEDOT 的薄层几乎是透明的，这是它在电子器件方面得到广泛应用的一个重要因素。 采用一种水溶性的高分子电解质聚苯乙烯磺酸 (PSS)掺杂解决了 PEDOT 的加工问题，获得的 PEDOT/PSS 膜 具有高电导率、高机械强度、高可见光透射率和优越的稳定性等 ，PEDOT/PSS 用作电极时，虽然相比于其它导电 聚合物，导电率较高，但是相比于金属和 ITO 还是

8、有一定差距，因此一般都会在底部增加一层电流汇集层，电流 汇集层会增加阳极的导电性，降低 OLED 起始电压，但是也会导致阳极表面平整度降低，本发明增加了阳极表面 的平整度，有助于增加阳极表面的载流子注入能力。 发明内容发明内容 要解决的技术问题和要解决的技术问题和 有益的技术效果有益的技术效果（尽 可能多的列举本技术交 底书相比较现有技术带 来的有益技术效果，要 与最接近现有技术进行 对比描写） 本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的 OLED，该柔性基板采用成膜、曝光、旋 涂和脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里 面， 该柔性基板有如下优点： 1. 该

9、柔性基板的制备工艺简单，使用该柔性基板的 OLED 可以采用导电高分子材料 为阳极，有助于提升柔性 OLED 的使用寿命 。 2. 含有电流汇集层，该电流汇集层有助于提升阳极的导电能力，当制备成OLED 后， 有助于降低器件的起始电压。 3. 表面平整度高，当制备成 OLED 后，使得阳极表面的平整度高，有助于提升载流 子传输能力。 所有的实施方式所有的实施方式 （尽可能的多写几个优 选的实施方式,。 如果涉及产品结构， 必须结合附图描述各部 件及各部件的安装关系, 给出各部件的领域内专 业名称，各部件名称在 前后描述中要保持一致， 并在各部件后加上附图 标记。 如果涉及方法或工艺 流程，请详

10、细描述方法 工艺的步骤过程以及各 步骤中所参与或应用到 的部件名称及其结构； 如果方法或工艺中涉及 体现发明点的工艺制造 条件，例如：温度、湿 度等取值范围也需要尽 可能地提供，并请提供 流程附图，结合附图详 细说明实施方式。 ） 本发明提供了一种柔性基板及基于该基板的 OLED，该柔性基板采用成膜、曝光、旋涂和 脱模工艺制得，制得的柔性基板表面有一层网状汇流层，该网状汇流层嵌入柔性基板里面，该 网状汇流层在保证高透过率的同时，提高了电流的传导能力，该柔性基底的具体结构如下： 该柔性基板的制作方法为： 1） 在洗干净的 SiO2绝缘层的 Si 衬底上，采用蒸镀或者旋涂等方法沉积一层金属薄膜；

11、2） 采用曝光、刻蚀的方法将金属薄膜变成网状半透明结构； 3） 在金属半透明结构表面旋涂光敏聚合材料； 4） 对光敏聚合物材料进行紫外光处理使其固化； 5） 将固化后的光敏聚合物从衬底上剥离，得到带有金属网状半透明层的柔性基底。 制备基底所用的光敏聚合材料体系包括苯乙烯类、丙烯酸类、丙烯酸酯类、环氧树脂类、 不饱和聚酯类、酰胺类或醋酸乙烯类材料体系；每一光敏可聚合材料体系包括单体、预聚物和 光引发剂；聚合类型是自由基型、阴离子型或阳离子型，光敏材料的旋涂厚度为 0.3-0.8mm。 本发明不仅包括该柔性基底、该柔性基底的制备方法，而且包括基于该柔性基底的 OLED，该柔性 OLED 的结构如图

12、： 由于该柔性基底表面包括一层金属网状半透明层，该层增加了 OLED 阳极的电流汇集能力， 所以基于该柔性基底的 OLED 的阳极可以采用比较薄的金属或者其他导电高分子材料。由于该 柔性基底的制备工艺，使得该柔性衬底表面的粗糙度非常小，有利于阳极载流子的注入，使得 该柔性基底有利于提升 OLED 的发光效率。 附图说明附图说明 有关本发明的详细说明及技术内容，现配合附图说明如下： 图 1 为该柔性基底的三维图 图 2 本发明所述的柔性基底的制备流程； 图 3 为基于该柔性衬底的 OLED； 图 4 为圆形网状结构的柔性基底； 图 5 为环形网状结构的柔性基底； （1 为表面带有 SiO2层的

13、Si 基板，21 为刻蚀前的金属薄膜层，22 为刻蚀后的网状金属薄 膜层，31 为固化前的光敏聚合材料，32 为固化后的光敏聚合材料，4 为 OLED 阳极导电高分 子材料，5 为 OLED 有机层，6 为 OLED 阴极） 具体实施方式具体实施方式 实施例实施例 1 柔性基板的制备： 1） 在洗干净的 SiO2绝缘层的 Si 衬底上，采用蒸镀或者旋涂等方法沉积一层金属薄膜 Ag，厚度为 20 nm； 2） 采用曝光、刻蚀的方法将金属薄膜变成网状半透明结构，所述的网状结构为矩形网状结 构，具体结构如图 1 所述； 3） 在衬底表面旋涂光刻胶 NOA63，旋涂速度为 1000rpm，旋涂时间为

14、20s，旋涂厚度为 0.7mm； 4） 对光敏聚合物材料进行紫外光处理 3min； 5） 由于金属材料与聚合物的粘着性大于金属材料与 SiO2的粘着性，将固化后的光敏聚合 物从衬底上剥离，得到带有金属网状半透明层的柔性基底。 OLED 的制备：本发明柔性衬底/PEDOT:PSS(40 nm)/ EML(70 nm)/TPBI(30 nm) /CsF(1.5 nm) /AL(120 nm)，EML 共混比例为，PVK:PBD: FIrpic=70:30:1 A) 在柔性衬底表面旋涂一层 PEDOT:PSS 膜，蒸镀厚度为 100nm。 B) 旋涂过 PEDOT:PSS 的基片在真空烘箱里 80干

15、燥 8h 后，转移至充满氮气的手套箱里 制作发光层，实验中所用 PVK、PBD 用氯苯溶解，旋涂厚度为 70nm，PVK、PBD 与 铱配合物的比例为 PVK:PBD: FIrpic =70:30:1。 C) 在小于 310-4 Pa 的高真空下，以热蒸发沉积的方式，蒸镀约厚的 CsF(1.5 nm)/Al(120 nm)作为阴极。 实施例实施例 2 具体的实施方法与实施例 1 类似，不同的是网状结构为圆形网状结构，如图 4 所述。 实施例实施例 3 具体的实施方法与实施例 1 类似，不同的是网状结构为环形网状结构，如图 5 所述。 最后应说明的是，以上实施例子仅用以说明本新型的技术方案而非限

16、制，尽管参照较佳实施例 子对本专利进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，按照需要可以使用不同的材料 和设备实现之，即可以对本新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术 方案的精神和范围。 可替代的技术方案可替代的技术方案 （可完成与上述技术（可完成与上述技术 方案同样功能实现同方案同样功能实现同 样效果的技术方案）样效果的技术方案） （如果有请写出替代方 案的要点、优缺点；如 果没有请填写“无” ） 附图附图（用图片正确地表示发明内容。附图统一用图 1、图 2、图 3.在每幅附图下方标示；对图片内容，采用阿拉伯数字 1、2、3 等附图标记对每幅附图中的部件进行标示；多幅附图时，各附图中的同一技术特征或同一对象，应使用同一个标记。在所有附图绘制完 成后，统一填写附图说明和附图标记，用 cad 格式。 ） 图 1 为该柔性基底的三维图 图 2 本发明所述的柔性基底的制备流程； 图 3 为基于该柔性衬底的 OLED； 图 4 为圆形网状结构的柔性