《光电子技术基础》1(第二版)朱京平Chap5

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1、第五章 光调制技术-光信息系统的信号加载与控制,5.1 晶体光学基础 5.2 光在晶体中的传播 5.3 电光调制 5.4 声光调制 5.5 磁光调制,2018/8/23,2,第二章 光辐射的调制,调制的内容:是指改变光波振幅、强度、相位或频率、偏振等参数,使之携带信息的过程。,调制的目的:光信息系统的信号加载与控制,调制的方法: 传统方法:调制盘(对光辐射强度进行调制); 现代方法:利用外场的微扰引起介质的非线性极化,从而改变介质的光学性质。在外场下利用光和介质的相互作用而实现对光辐射振幅频率、相位等参数的调制。,2018/8/23,3,二 、光调制分类,调制位置,调制光波的参量,内调制(直接

2、调制),外调制(间接调制),电光调制,声光调制,磁光调制,振幅调制,相位调制,偏振调制,物理效应,调制形式,模拟调制,数字调制,脉冲调制,其他 (如:电吸收调制),内调制 将调制信号直接注入激光器,从而改变输出激光的参数的调制方式 外调制 在激光谐振腔以外的光路上放置调制器,将待传输信号加载到调制器上,使输出光的特性随信号而变的调制方式,1875年,英国的Kerr发现了电光效应中的Kerr效应,利用这一效应制作的Kerr盒是一种用途广泛的电光调制器; 利用KDP晶体在电场作用下的双折射效应也可以制作电光调制器; 利用Pokels效应也可以制作电光调制器; 利用超声波作用下介质折射率周期性变化的

3、声光效应可以制作声光调制器; 利用法拉第效应可以制作磁光调制器与光隔离器。 利用强磁场中激光的Zeeman效应可以进行超细光谱分析与激光稳频。,5.2光在晶体中的传播,5.2.1晶体的极化率与介电系数介质极化强度P与入射光强度 E:晶体在不同方向上的极化率 不同,P不再与E同向,表现为极化率 成为二阶张量,具有九个分量:,于是,各向异性晶体中P每一个分量都与E的三个分量存在着线性关系,P不再与E同向; 坐标系确定后 均为常数, 的大小取决于晶体的结构和三个坐标轴相对于晶格结构的选择情况。坐标系选择任意,但被描述物理性质客观存在,不因坐标系而变化选择坐标系为晶体的主介电坐标系,则张量非对角元素为

4、零:,由电磁场物质方程得,与 都是对称二阶张量, 、简化下标得:,在主介电坐标系中上式简化为:,根据光的电磁理论, 光在晶体中的传播特性仍然由麦克 斯韦方程组描述。1. 麦克斯韦方程组在均匀、不导电、非磁性的各向异性介质(晶体)中,若 没有自由电荷存在,麦克斯韦方程组为:,物质方程为 为简单起见,我们只讨论单色平面光波在晶体中的传播 特性。这样处理,可不考虑介质的色散特性,同时,对于任 意复杂的光波,因为光场可以通过傅里叶变换分解为许多不 同频率的单色平面光波的叠加,所以也不失其普遍性。,2. 光波在晶体中传播特性的一般描述(1).单色平面光波在晶体中的传播特性 A.晶体中光电磁波的结构波动方

5、程,B.能量密度 根据电磁能量密度公式有:,图 4-1 平面光波的电磁结构,C.相速度和光线速度 相速度vp:光线速度vr:相速度与光线速度之间的关系:,图 4-2 vp与vr的关系 (AB表示波阵面),(2).光波在晶体中传播特性的描述 A.晶体光学的基本方程广义本征值方程由矢量叉乘的恒等式得到:即,A(BC)=B(AC)-C(AB),D=0n2E-k(kE),图 4-3 E和D的定义,B.菲涅耳方程 .菲涅耳方程的第一种形式波法线菲涅耳方程(即波法线方程),.菲涅耳方程的第二种形式,.菲涅耳方程的第三种形式,图 4-4 与给定的k相应的D、E和s,.菲涅耳方程的第四种形式光线菲涅耳方程(光

6、线方程),3. 光在几类特殊晶体中的传播规律上面从麦克斯韦方程组出发,直接推出了光波在晶体中 传播的各向异性特性,并未涉及具体晶体的光学性质。下 面,结合几类特殊晶体的具体光学特性,从晶体光学的基本 方程出发,讨论光波在其中传播的具体规律。 (1).各向同性介质或立方晶体各向同性介质或立方晶体的主介电系数 1=2=3=n02根据前面讨论的有关确定晶体中光波传播特性的思路, 将波法线菲涅耳方程通分、整理,得到:,代入1=2=3=n02,并注意到k21+k22+k23=1,该式简 化为:由此得到重根 n=n=n0。这就是说,在各向同性介质 或立方晶体中,沿任意方向传播的光波折射率都等于主折射率 n

7、0 ,或者说,光波折射率与传播方向无关。进一步,把n=n=n0的结果代入(4-42)式,可以得到三 个完全相同的关系式:,k1E1+k2E2+k3E3=0,图 4-5 各向同性介质中D, E, k, s的关系,(2).单轴晶体单轴晶体的主介电系数为:其中,neno的晶体,称为正单轴晶体;ne no 时,称为负 单轴晶体。 A.两种特许线偏振光波(本征模式),2. 折射率椭球 单轴晶体,取光轴为z轴,沿x、y轴的主折射率相等,说明xoy平面内传播光D、E方向一致,与各向同性介质中光波性质一样,称寻常光,相应主折射率为寻常折射率,记为no 沿光轴的主折射率称非常折射率,记为ne 正单轴晶体 , 折

8、射率椭球为长椭圆形(橄榄型), 负单轴晶体 ,折射率椭球为扁椭圆形(药片型)。,2. 折射率椭球 单轴晶体,2. 折射率椭球 单轴晶体折射率椭球特性,xoy平面与椭球截面是一个圆,其半径为no。 表明当光波沿着z轴方向传播时,即ki平行于光轴时,只存在一种折射率no,光波电位移矢量D可取垂直于Z轴的任何方向,于是,不产生双折射。z轴即单轴晶体光轴。 xoz、yoz平面,或其它含z轴的椭球截面为一椭圆,其两半轴长度分别为 、 。 表明当光垂直于光轴入射(ki垂直于光轴,处于xoy平面内)时,可允许两个彼此正交的线偏振光传播,其中一个光波偏振方向平行于光轴、折射率为 ,另一光波偏振方向垂直于光轴、

9、折射率为 。,晶体的双折射,指光在各向异性介电晶体中传播时,分为两束偏振方向不同的光,向两个方向折射 介电晶体各向异性的最重要、最直观的结果之一,单轴晶体中,对应不同的界面相对于光轴取向(背景)关系下双折射情况示意图。,5.3 电光调制,外加电场能引起某些晶体各向异性的折射率变化 分析外加电场如何引起晶体的光学性质变 如何利用这一性质进行光调制。 5.3.1 电光效应 电光效应当光介质的两端所加外加电场较强时,介质内的电子分布状态将发生变化,以致介质的极化强度以及折射率也各向异性地发生变化的现象 电光效应弛豫时间很短,仅有10-11量级 外场的施加或撤消导致的折射变化或恢复瞬间即可完成 可用作

10、高速调制器、高速开关等,为突出物理思路、简化推导,讨论基于以下条件,外加电场相对光场为低频 外加电场频率接近或达到光频时属非线性光学研究范畴 所研究介质为无对称中心的晶体本节研究线性电光效应,只能存在于无对称中心晶体中 外加电场沿着某一介电主轴作用于晶体此时D与E的方向一致,因而D只随E的大小变化。,1 泡克尔斯(Pockels)效应 与克尔(Kerr)效应,当外加电场沿着某一介电主轴作用于晶体,、,、,均为常数。,为不加电场时的介电,常数,称线性介电常数。 定义D(E)的斜率为加电场后的介电常数:,取二阶近似为线性电光系数 ,对于 所决定的效应,n的变化与外加电场的一次方成正比,称为线性电光

11、效应或泡克尔斯(Pockels)效应;为二次电光系数, 所决定的效应,n与外加电场平方成正比,称为二次电光效应或克尔(Kerr)效应。,2 晶体的电光系数,引入逆介电张量 : 则不加外场时在xyz主介电坐标系中的折射率椭球又可表示为:电场存在情况下,新椭球方程,外加电场E对n的影响可以方便用 的变化 来表示,即 是外加电场引起的,对于线性电光效应,它应与E成正比:是对称张量,因而 也是对称张量,非中心对称晶体的电光系数矩阵,常用晶体的电光系数,5.3.2KDP晶体的线性电光效应,KDP晶体是人工生长的KH2PO4单晶的简称 . 不加外场时,其折射率椭球为:当晶体受到外加电场作用后,其线性电光效

12、应矩阵为:,由此得新的折射率椭球为:外加电场引起了折射率椭球中的后三项,即“交叉项”,它们与xy、yz、xz有关,这意味着加上电场后,椭球的主轴不再是x、y、z轴,而是有所偏转。新主轴、的方向和大小与E的关系就确定了电场对光传播的影响。,1 外加电场平行于光轴,设新主轴 相对旧主轴 旋转了角度,则新旧坐标系之间有关系在新主轴坐标系 中,折射率椭球方程变为:,结论: 1 施加外场E3后,椭球的xoy截面由圆变为椭圆,折射率椭球由旋转椭球面变为一般椭球面,KDP由单轴晶体变为双轴晶体。 2 沿 方向偏振的光传播相速度加大,而沿 方向偏振的光传播速度减小,因此 轴称为快轴, 轴为慢轴。,2外加电场垂

13、直于光轴,外加电场垂直于光轴也就是E处于xoy平面内新折射率椭球方程 设新主轴 相对旧主轴 旋转了角度,则新旧坐标系之间有关系,得新主轴坐标系 中,折射率椭球方程变为:新主轴坐标系中三个主折射率近似为,结论:,施加外场E2后,新折射率椭球的主轴是由旧主轴绕y旋转角后形成的,与外加电场成正比,但一般是一个小值。 施加外场E2后,折射率椭球由旋转椭球变为一般椭球,单轴晶体变为双轴晶体,双轴晶体的光轴方向之一仍为原z轴,另一光轴位于以 轴为对称轴且和z对称的方向上。,5.3.3电光调制,利用晶体的电光效应可以实现对晶体中传播光波的控制,改变传播光的幅度、频率、偏振态、传播方向等,这种基于电光效应的原

14、理对光进行的调制就称为电光调制,分强度调制、相位调制、脉冲调制等方式。 1 电光相位延迟 以外加电场平行于光轴的KDP晶体为例,,将E沿 、 轴方向分解得:光波沿z方向传播距离l后,两偏振光之间的相位差为,某一时刻,、,的变化曲线及相应的光场矢量变化情形,当相位延迟时,光场为x方向偏振的线偏振光,当/2时,光场为圆偏振光,当时,光场又变成沿y方向偏振的线偏振光。 与对应的偏振光相对入射光旋转了90,其相应的电压称为半波电压 晶体的电光系数越大,相应半波电压越低 . 通过测量半波电压可以计算出相应的电光系数。,表5-4 部分四方晶系晶体 的和,2 纵向电光强度调制,图5-8 纵向电光强度调制器,

15、设:入射光经起偏片后强度为02,即:经过长l的晶体后,,再经/波片,,检偏器出射光总场强为 出射光强为:,图5-9纵向电光调制器调制特性曲线,使用电光调制器的光通信线路,3横向电光强度调制,说明通过外加调制电压可以实现位相调制。,2018/8/23,63,由于检偏器的输出光强是晶体上电压的函数,只要将电信号加载到晶体上,那么就能用电信号调制光信号,故电光调制可以实现模拟信号和低频数字信号的光传输。,优点:结构简单、工作稳定、不存在自然双折射的影响; 缺点:半波电压太高,特别在调制频率太高时,功耗较大。,2018/8/23,64,纵向调制,1m,V= 9.7kv,横向调制,V可为伏量级,2、横向电光强度调制,缺点:存在自然双折射引起的相位差,易受温度环境影响,导致调制光发生畸变。,式中第一项表示天然双折射造成的相位差, 第二项由电光效应引起,为电光延迟。,由第一项确定工作点位置后,根据第二项 正比于l/d,恰当选择长宽比,以实现有效 的电光调制。,4 相位调制,5 波导电光调制器,波导调制器是将具有电光特性的材料做成光波导,调制电场加在通光波导区,由于E3V/d,因而可以在很低的外加电压下获得所需的调制场强。,波导调制器的单位带宽驱动功率比体调制器的低得多,因而调制效率要高得多。,

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