PECVD石墨舟饱和作用简述

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1、浙江贝盛光伏股份有限公司PECVD石墨舟饱和作用简述Confidential Staff Only 石墨舟饱和作用简述 PECVD氮化硅膜均匀沉积的条件条件是“石墨舟内壁及硅片表面沉积速率一致”,而决定该速率的主要有温度、电场、gas以及石墨舟内壁的表面状态这四大条件。石墨舟内壁及 硅片表面沉积积 速率一致温度分 布均匀电场电场 分 布均匀Gas分 布均匀石墨舟 内壁表 面状态态 一致氮化硅均匀沉积积在硅 片表面Confidential Staff Only 石墨舟饱和作用简述 石墨舟内壁表面状态一致的条件1.石墨舟内壁覆盖一层氮化硅膜:饱和工艺的作用就是在石墨舟内壁上沉积一层氮化硅膜,从而使

2、得内壁各处均呈氮化硅状态,这样会使石墨舟内部各处的氮化硅沉积速率趋于一致;2.石墨舟内壁平坦度一致:平坦度不同会使电场分布不均匀,理论上会使镀膜不均匀;平坦度不同会引起内壁表面积变化,会引起饱和程度不够的现象。石墨舟内壁 表面状态态一 致石墨舟内壁覆 盖一层层氮化硅 膜石墨舟内壁平 坦度一致+-坑洞引起石墨片之间 电场变化示意图Confidential Staff Only 石墨舟饱和作用简述 石墨舟整个使用周期镀膜均匀性的变化石墨舟使用前期:由于舟的饱和程度不够易引起色差;石墨舟使用中期:舟的饱和程度足够且内壁上沉积的氮化硅膜不是很厚,使得镀膜的均匀性表现良好;石墨舟使用后期:由于内壁上沉积的氮化硅膜很厚,会导致以下两个现象:局部氮化硅膜的脱落:引起舟的表面状态发生变化;氮化硅膜很厚会引起舟的导热性能发生变化,局部过厚会引起色差片的产生。镀镀膜均匀性 变变差石墨舟饱饱和 程度不够够石墨舟使用 次数太多Confidential Staff Only 石墨舟饱和作用简述 石墨舟不同饱和方式的差异饱和时使用假片 -饱和充分:生产成本高;饱和环境和实际镀膜环境相同:硅片的存在会形成更大面积的电场,产生更多等离子体,石墨舟内壁上沉积的氮化硅膜更充分。饱和时不使用假片-饱和不够充分:生产成本低;饱和程度不充分,前期镀膜均匀性较差,色差片较多。浙江贝盛光伏股份有限公司Thanks

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