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1、第二章 半导体三极管 第二章 半 导 体 三极管 2.1 双极型半导体三极管 2.2 单极型半导体三极管 2.3 半导体三极管电路的基本分析方法2.4 半导体三极管的测试与应用 第二章 半导体三极管 2.1 双极型半导体三极管 图 2 - 1 几种半导体三极管的外形 第二章 半导体三极管 2.1.1 晶体三极管的工作原理 图 2 2 晶体三极管的结构示意图和符号 一、结构及符号第二章 半导体三极管 无论是NPN型或是PNP型的三极管,它们均包含三个区: 发射区、基区和集电区, 并相应地引出三个电极：发射极（e)、基极(b)和集电极(c)。同时,在三个区的两两交界处, 形成两个PN结, 分别称为
2、发射结和集电结。常用的半导体材料有硅和锗, 因此共有四种三极管类型。它们对应的型号分别为：3A(锗PNP)、3B(锗NPN)、3C(硅PNP)、3D(硅NPN)四种系列。 第二章 半导体三极管 二、 三极管的三种连接方式 图 2 - 3 三极管的三种连接方式第二章 半导体三极管 三、 三极管的放大作用 1. 载流子的传输过程(1) 发射。 (2) 扩散和复合。 (3) 收集。 图 2 4 三极管中载流子的传输过程第二章 半导体三极管 2. 电流分配 图 2 - 5 三极管电流分配 第二章 半导体三极管 集电极电流由两部分组成：和, 前者是由发射区发射的电子被集电极收集后形成的, 后者是由集电区
3、和基区的少数载流子漂移运动形成的,称为反向饱和电流。 于是有 (2 - 1)第二章 半导体三极管 发射极电流也由两部分组成：和。为发射区发射的电子所形成的电流, 是由基区向发射区扩散的空穴所形成的电流。因为发射区是重掺 杂, 所以忽略不计, 即。又分成两部分, 主要部分是, 极少部分是。是电子在基区与空穴复合时所形成的电流, 基区空穴是由电源提供的,故它是基极电流的一部分。 基极电流是与之差： (2-2)(2-3)第二章 半导体三极管 发射区注入的电子绝大多数能够到达集电极, 形成集电极电流, 即要求。 通常用共基极直流电流放大系数衡量上述关系, 用来表示, 其定义为(2-4)一般三极管的值为
4、0.970.99。将(2-4)式代入(2-1)式, 可得 (2-5)第二章 半导体三极管 通常CBO, 可将忽略, 由上式可得出 (2-6)三极管的三个极的电流满足节点电流定律, 即将此式代入(2 - 5)式得(2-7)第二章 半导体三极管 经过整理后得 令称为共发射极直流电流放大系数。当ICICBO时,又可写成(2-8)(2-9)第二章 半导体三极管 则其中ICEO称为穿透电流, 即 一般三极管的约为几十几百。太小, 管子的放大能力就差, 而过大则管子不够稳定。 第二章 半导体三极管 表2 - 1 三极管电流关系的一组典型数据 IB/mA -0.00100.010.020.030.040.0
5、5IC/mA0.0010.010.561.141.742.332.91IE/mA00.010.571.161.772.372.96第二章 半导体三极管 相应地, 将集电极电流与发射极电流的变化量之比, 定义为共基极交流电流放大系数, 即故第二章 半导体三极管 显然与, 与其意义是不同的, 但是在多数情况下, 。 例如, 从表2 - 1 知, 在mA附近, 设由mA变为mA, 可求得第二章 半导体三极管 2.1.2 三极管的特性曲线 图 2 6 三极管共发射极特性曲线测试电路 第二章 半导体三极管 1. 输入特性 当不变时, 输入回路中的电流与电压之间的关系曲 线称为输入特性, 即 图 2 -
6、7 三极管的输入特性 第二章 半导体三极管 2. 输出特性当不变时, 输出回路中的电流与电压之间的关系曲线称为输出特性, 即图 2 - 8 三极管的输出特性 第二章 半导体三极管 (1) 截止区。 一般将的区域称为截止区, 在图中为的一条曲线的以下部分。此时也近似为零。由于各极电流都 基本上等于零, 因而此时三极管没有放大作用。 其实时, 并不等于零, 而是等于穿透电流ICEO。一般硅三极管的穿透电流小于A, 在特性曲线上无法表示出来。锗三极管的穿透电流约几十至几百微安。 当发射结反向偏置时, 发射区不再向基区注入电子, 则三极管处于截止状态。所以, 在截止区, 三极管的两个结均处于反向偏置状
7、态。对三极管, , BC。 第二章 半导体三极管 (2) 放大区。 此时发射结正向运用, 集电结反向运用。 在曲线上是比较平坦的部分, 表示当一定时, 的值基本上不随CE而变化。在这个区域内,当基极电流发生微小的变化量时, 相应的集电极电流将产生较大的变化量, 此时二者的关系为该式体现了三极管的电流放大作用。 对于三极管, 工作在放大区时.V, 而。 第二章 半导体三极管 (3) 饱和区。 曲线靠近纵轴附近, 各条输出特性曲线的上升部分属于饱和区。 在这个区域, 不同值的各条特性曲线几乎重叠在一起, 即当较小时, 管子的集电极电流基本上不随基极电流而变化, 这种现象称为饱和。此时三极管失去了放
8、大作用, 或关系不成立。 一般认为CENE, 即CB时, 三极管处于临界饱和状态, 当CEBE时称为过饱和。三极管饱和时的管压降用CES表示。在深度饱和时, 小功率管管压降通常小于.V。 三极管工作在饱和区时, 发射结和集电结都处于正向偏置状态。对NPN三极管, 。 第二章 半导体三极管 2.1.3 三极管的主要参数 (1) 共发射极交流电流放大系数。体现共射极接法之下的电流放大作用。 (2) 共发射极直流电流放大系数。 由式(2 -10)得当ICICEO时, IC/IB。 第二章 半导体三极管 (3) 共基极交流电流放大系数。体现共基极接法下的电流放大作用。 (4) 共基极直流电流放大系数。
9、在忽略反向饱和电流时, 第二章 半导体三极管 2. 极间反向电流 图 2 - 9 三极管极间反向电流的测量 第二章 半导体三极管 3 极限参数 (1) 集电极最大允许电流。 图 2 - 10 与IC关系曲线 第二章 半导体三极管 (2) 集电极最大允许功率损耗。当三极管工作时, 管子两端电压为, 集电极电流为, 因此集电极损耗的功率为图 2 - 11 三极管的安全工作区第二章 半导体三极管 4. 反向击穿电压 CBO发射极开路时, 集电极-基极间的反向击穿电压。 CEO基极开路时, 集电极-发射极间的反向击穿电压。 CER基射极间接有电阻时, 集电极-发射极间的反向击穿电压。 CES基射极间短
10、路时, 集电极-发射极间的反向击穿电压。 EBO集电极开路时, 发射极-基极间的反向击穿电压, 此 电压一般较小, 仅有几伏左右。 上述电压一般存在如下关系： 第二章 半导体三极管 2.2 单极型半导体三极管 场效应管（简称FET）是利用输入电压产生的电场效应来控制输出电流的，所以又称之为电压控制型器件。它工作时只有一种载流子（多数载流子）参与导电，故也叫单极型半导体三极管。因它具有很高的输入电阻，能满足高内阻信号源对放大电路的要求，所以是较理想的前置输入级器件。它还具有热稳定性好、功耗低、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点，因而得到了广泛的应用。根据结构不同，场效应管可以分为结型场效应管（
11、JFET）和绝缘栅型场效应管（IGFET）或称MOS型场效应管两大类。根据场效应管制造工艺和材料的不同，又可分为N型沟道场效应管和P型沟道场效应管。第二章 半导体三极管 2.2.1 MOS场效应管这种场效应管是由金属（Metal）,氧化物（Oxide）和半导体 （Semiconductor）组成的，故称MOS管。MOS管可分为N沟道和P 沟道两种。按照工作方式不同可以分为增强型和耗尽型两类。一、增强型沟道绝缘栅场效应管1、结构和符号图2 - 12是N沟道增强型MOS管的示意图。MOS管以一块掺杂浓度较低的P型硅片做衬底，在衬底上通过扩散工艺形成两个高掺杂的N型区，并引出两个极作为源极S和漏极D
12、；在P型硅表面制作一层很薄的二氧化硅（SiO2）绝缘层，在二氧化硅表面再喷上一层金属铝，引出栅极G。这种场效应管栅极、源极、漏极之间都是绝缘的，所以称之为绝缘栅场效应管。第二章 半导体三极管 图 2-12 MOS管的结构及其图形符号绝缘栅场效应管的图形符号如图2-12（b）、(c)所示，箭头方向 表示沟道类型，箭头指向管内表示为N沟道MOS管(图(b)，否则为P 沟道MOS管(图(c)。第二章 半导体三极管 2）工作原理图2-13是N沟道增强型MOS管的工作原理示意图，图2-13（b）是相应的电路图。工作时栅源之间加正向电源电压UGS，漏源之间加正向电源电压UDS,并且源极与衬底连接,衬底是电
13、路中最低的电位点。当UGS=0时，漏极与源极之间没有原始的导电沟道，漏极电流ID=0。这是因为当UGS=0时，漏极和衬底以及源极之间形成了两个反向串联的PN结，当UDS加正向电压时，漏极与衬底之间PN结反向偏置的缘故。第二章 半导体三极管 图2-13 N沟道增强型MOS管工作原理 (a)示意图； (b)电路图第二章 半导体三极管 当UGS0时，栅极与衬底之间产生了一个垂直于半导体表面、由栅极G指向衬底的电场。这个电场的作用是排斥P型衬底中的空穴而吸引电子到表面层，当UGS增大到一定程度时，绝缘体和P型衬底的交界面附近积累了较多的电子，形成了N型薄层，称为N型反型层。反型层使漏极与源极之间成为一
14、条由电子构成的导电沟道，当加上漏源电压UGS之后，就会有电流ID流过沟道。通常将刚刚出现漏极电流ID时所对应的栅源电压称为开启电压，用UGS(th)表示。第二章 半导体三极管 当UGSUGS(th)时，UGS增大、电场增强、沟道变宽、沟道电阻减小、ID增大；反之，UGS减小，沟道变窄，沟道电阻增大，ID减小。所以改变UGS的大小，就可以控制沟道电阻的大小，从而达到控制电流ID的大小，随着UGS的增强，导电性能也跟着增强，故称之为增强型。必须强调，这种管子当UGS0时，垂直电场增强，导电沟道变宽，电流ID增大。当UGS0时，垂直电场减弱，导电沟道变窄，电流ID减小。当UGS=U GS(th)时，
15、导电沟道全夹断，ID=0。第二章 半导体三极管 图2-17 N沟道耗尽型MOS管特性（a）输出特性曲线; b）转移特性曲线第二章 半导体三极管 2.2.2 结型场效应管1. 工作原理现以N沟道结型场效应管为例讨论外加电场是如何来控制场效应管的电流的。如图2-18所示，场效应管工作时它的两个PN结始终要加反向电压。对于N沟道，各极间的外加电压变为UGS0，漏源之间加正向电压，即UDS0。当G、S两极间电压UGS改变时，沟道两侧耗尽层的宽度也随着改变，由于沟道宽度的变化，导致沟道电阻值的改变，从而实现了利用电压UGS控制电流ID的目的。第二章 半导体三极管 图2-18 结型场效应管的工作原理第二章 半导体三极管 1）
