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1、镀酸铜作用及维护酸铜层作用塑料电镀采用酸铜打底优点如下:1.铜镀层有很好延展性2.具有较好的整平性,光泽而平滑3.电流效率高例一:循环和冲击裂开 裂开有两种情况: 电镀层的龟裂（高温时） 树脂层的龟裂（低温时 ） 原因 -主要原因在于热应力，即由于环境温 度变化导致电镀层与树脂层的膨胀量或收缩量有 所差异，从而产生了超过各自材料特性（材料强 度）的拉伸应力。高温金属层妨碍了树脂的收缩, 低温时金属层的刚性妨碍了树脂的收缩，为此， 应使金属层的厚度变薄，降低束缚力。杨氏弹性模量（MPa）和 线膨胀系数（ deg.C） 铜 * *- 镍 * *- 铬 * *- 树脂 , *-解决的对策 1.电镀方
2、面, A 使 CU:NI=2:1,原因是铜具有较好的韧性.应加 厚缓冲材料铜膜的厚度，减小镍、铬膜的厚度。 造成龟裂的原因在于金属层的刚性妨碍了树脂的 收缩，为此，应使金属层的厚度变薄，降低束缚 力。 为了降低与金属层之间的膨胀差，需要选择 线膨胀系数低的等级产品。 B 减小镀层应力,如应调整电镀液、增大析出膜 的延展性，降低电沉积应力解决的对策2. 注塑方面: a 除去进行电镀处理的树脂飞边。此项处理目的在于避免由于环境 温度的变化而导致 在该部位发生的热应力过于集中。 b 对于合模部位进行布轮抛光等，使该部位平滑。 c 尽量使浇口面处理得平滑, 使边角（特别是锐角）部位的弧度加 大。 高温
3、环境发生的龟裂造成龟裂的原因在于金属层的延展性不足，或 者电沉 积时拉伸应力过大，为此，应调整电镀液、增大析出膜的延展 性，降低电沉积应力。 低温环境发生的龟裂造成龟裂的原因在于金属 层的刚性妨碍了树脂的收缩，为此，应使金属层的厚度变薄，降低束 缚力。 d 注塑工艺要以高模温,高料温,低速,底压,使毛坯应力最小.电镀添加剂作用 添加剂 有”抑强扶弱”的作用(光泽电镀) 1.细晶理论(络合剂),V生V成. 2.晶面定向理论(电镀添加剂),使不同晶面生成曲 与一致. 3.胶体膜理论(酸铜中的CL离子) 4.电子自由流动理论(日本),金属晶格中充满了可 自由流动的电子,当光照射到金属表面时,自由电子
4、 迅速把光能传递到整个晶格中,并立即把光放出,结 果一点也不吸收光.晶格越小,电子流动范围越小, 吸收光能,并立即释放.酸铜添加剂结构分类 1.有机硫化物 2.硫酰胺衍生物 3.聚醚化合物 4.季胺类化合物 5.有机染料 简单的可以化成不饱和有机硫化物和表面活 性类化合物现象:一些光亮剂(包括自己开发研制的),刚开缸时很好,但经过几个星 期或几个月大规模连续生产后,镀层质量开始下降,不论怎么补充、添 加,调整镀液,都回不到开缸时的良好状态。 原因:这大多是由于光亮剂配方欠妥,组份失调引起的。众所周知,许多 光亮剂是由多种中间体互配组成的,其中,各组份的选择及配比是最重 要的。在电镀过程中,光亮
5、剂的各种组份(中间体)并非等同消耗,太多的 不确定因素使其消耗不按配方所设计的比例进行。因此,在电镀生产过 程中,尽管光亮剂在不断补充,但如果设计的配方不尽合理,经过一段时 间后,镀液中的某些中间体组份会出现严重过剩,造成比例失调,这些过 剩的中间体实际上成了有机污染,而其它一些组份可能显得不足,这时 镀液中的光亮剂组份便出现严重的配比失调了,继续添加光亮剂不仅无 助于解决问题,反而更加恶化。当然若现场工程师的水平高,能够根据 具体情况,添加一些物质也可以维持生产,但绝大多数生产厂家只好借 助于双氧水、活性炭之类的大处理了。这就是使用劣质光亮剂的镀液 要经常进行大处理的主要原因之一。镀槽维护
6、活性碳 1.工业活性炭用于光亮酸铜镀液处理,会引 入过多的氯离子.(20-80mg/l),原因:一,活性 炭本身含氯离子.二,吸附效果差,加入活性炭 越多,带入氯离子越多.3g/l粉壮活性炭比8g/l 圆柱状活性炭过滤效果好. 2.率离子处理较麻烦.可以用银盐,锌粉,专用 的处理试剂. 温度(20-30) 1.液温高,阳极溶解的快,同时硫酸过高也会 使阳极溶解的快.采用含磷高的. 2.温度太高,容易使添加剂各组分不会按厂 家设定的比例消耗.并破坏光亮添加剂的吸 附性,最好控制在(25-30) 对电镀而言,一般要求出光速度要快,整平性能佳, 光亮电流密度范围宽,对温度的适应范围宽,水溶性 要好,其分解产物少,对镀液危害小,使用寿命长,对 杂质的容忍度要高等。另外,单凭赫尔槽试验显然 是不够的,要借助于日新月异的新技术新设备,创造 良好的实验手段和方法,对镀液、镀层的各项性能 进行深入研究。如采用一系列电化学分析测试仪 器研究电极过程、光亮机理、腐蚀机理、中间体 材料的组合及其协同作用、光亮剂的消耗等;利用 一系列电镀工艺试验仪器研究光亮剂对镀层光亮 度以及镀液整平能力和分散能力的影响;利用镀层 检测仪器如俄歇、电子探针、射线.
