等离子创新实验室产业化产品+(1+Feb+2016) (1)

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1、等离子体无处不在等离子体无处不在 器件、装置器件、装置 清洁清洁 太空电推进太空电推进 等离子体电视等离子体电视 3D3D打印打印 半导体半导体 芯片芯片 太阳能电池太阳能电池 表面处理表面处理 空气空气/ /水水 净化净化 联联合研发实验合研发实验室室 （PIL/PSAC/NTU） 誉为新加坡“誉为新加坡“No.1”等离子体研发中心”等离子体研发中心 与南洋理工大学紧密科研合作 28 年等离子体/射频开发经验 10 项专利、原创技术 60 多次邀请报告 200 多篇学术论文 2500 多次引用 组织10次等离子体国际会议 发发展记录展记录 到访过实验室的诺贝尔奖得主到访过实验室的诺贝尔奖得主

2、 被 受国际认可的受国际认可的 首次应用Non-Maxwellian 等离子体诊断与控制技术 首家专门研究大气微等离子体清洁技术 首创等离子体原子化技术 4 COMPANY CONFIDENTIAL 联合实验室总面积超过联合实验室总面积超过1000m2 PILPIL 研研发团队发团队 COMPANY CONFIDENTIAL 5 马来西亚马来西亚 国国内内 国内国内 首席研究员首席研究员/顾问顾问 资深研究员资深研究员 教授教授 研发团队研发团队 COMPANY CONFIDENTIAL 6 首席研究员首席研究员 PSAC/NTU 创始人创始人/ /技术总监技术总监 INNOVOINNOVO/

3、PIL/PIL 技术总顾问技术总顾问 TECHXCEL/NTU 发明并成功产品化用于半导体清洁的新型 等离子体技术 获得150万美元初始投资 受邀参加2015年台北半导体国际展览会 拥有紧密合作工业界客户群 新加坡第一家等离子体研究中心 拥有超过10项技术专利 在研科研经费超过200万新币 南洋理工大学直属科技孵化产业转化中心 带领多个重大科技成果产业化项目 Dr. CHAN (CEO) 研发团队研发团队 徐禄祥 (南洋理工大学资深研究人员) 徐淑岩 (南洋理工大学终身教授) COMPANY CONFIDENTIAL 7 7 南洋理工大学自然科学科学教育系终身教授 南洋理工大学高等研究所常务委

4、员 新加坡物理学会常务理事 出版专著出版专著 组织等离子体会议组织等离子体会议 组织学术研讨会组织学术研讨会 双创营运模式双创营运模式 拓展开发拓展开发 研究、开拓、开 发新型等离子体 应用的“蓝海市 场” 重点研发项目重点研发项目 通过与业界相关 机构合作、协作， 对有应用前景的 技术进行重点攻 关，开发产品 合资、合作公司合资、合作公司 组建科技公司快 速进入市场 COMPANY CONFIDENTIAL 8 当前概况：当前概况： 技术、专利或产品销售所得利润 探索性、有潜力应用项目开发 创新型高成长企业 以上市为目标 7 7 项项重要技术与国重要技术与国际专利际专利 5 5 项项科技成果

5、产业化项科技成果产业化项目目 1 个个合资公合资公司司成立成立 等离子等离子体创新应用实体创新应用实验验室室 已累计超过 200200万新万新币研发经费投入币研发经费投入 1.大气等离子体表面微清洗技术 2.太阳能电池等离子体绿色制造工艺 3.等离子体表面硬化、氮化技术 4.等离子体诊断控制及材料性能原位分析 5.等离子体环境处理 PILPIL 当当前概况前概况 COMPANY CONFIDENTIAL 9 7项项重要技重要技术与术与国国际专利际专利 License From NTU COMPANY CONFIDENTIAL 10 Description IP Inventor 1.基于等离子

6、体参数推演纳米性能的分析方法和技术Analysis of nanoscale properties from the plasma parameters Copyright (Aug 2013) CHAN CHIA SERN 2.实时原位等离子体中性基团特征诊断 Real-time in-situ diagnostics of neutral species in the plasma US PRV Patent No: 61/864,910, PCT/SG2014/000361 (Aug 2013) CHAN CHIA SERN 3.实时原位离子特征及器件损伤状况诊断Real-time in

7、-situ measurement of ionic species and damage onto the devices US PRV Patent No: 61/863,124 (Aug 2013) CHAN CHIA SERN 4.电容耦合无电极软等离子体软处理方法和技术Capacitive Coupled Electrodeless Plasma (CCEP) for soft plasma processing US PRV Patent No: 61/770,737 PCT/SG2014/000097 (Feb 2013) CHAN CHIA SERN 5.高效晶硅太阳能电池软等

8、离子体钝化技术CCEP soft passivation of high efficiency silicon solar cells US PRV Patent No: 61/834,217 PCT/SG2014/000097 (Jun 2013) CHAN CHIA SERN 6.绿色等离子体原子化方法和技术Environmental friendly Plasma Atomized Processing (PAP) US PRV Patent No: 61/970,672 (Jun 2013) CHAN CHIA SERN License From Dr. CHAN Descriptio

9、n IP Inventor 1.软等离子体清洁技术Soft Plasma Cleaning (SPC) US PRV Patent No10201500483V. Jan 2015. CHAN CHIA SERN 产业化项目产业化项目大气等离子体表面微清洗技术大气等离子体表面微清洗技术 COMPANY CONFIDENTIAL 11 大气压等离子体 一步移除灰尘、有机污染物和金属污染物 非破坏性工艺 清洗速率快 操作安全 (简单培训、无需专业执照) 应用领应用领域域 半导体测试、封装装置清洁 1.Wirebonders Wedges 2.Probe Cards Pins 3.Test Sock

10、ets Pins 其他非电子行业器件清洗 大气等离子体清洗机大气等离子体清洗机 产业化项目产业化项目 2太阳能电池等离子体制造工艺太阳能电池等离子体制造工艺 COMPANY CONFIDENTIAL 12 绿色等离子体原子化机绿色等离子体原子化机 置备行业领先的等离子体智能控制技术 有效消除离子轰击 更多的中性基团参与反应 快速处理，耗能少、温升小 可从廉价安全绿色的气/液/固体中提取制备所需元素 应用领应用领域域 表面损伤重建 低损伤-纳米形貌“黑硅”合成 硅太阳能电池快速高效钝化 高掺杂浓度纳米薄膜材料 等离子体沉积、刻蚀和离子注入 无SiH4/NH3沉积太阳能电池减反氮化硅薄膜 产业化项

11、目产业化项目 3 3等离子体表面等离子体表面表面硬化、氮化技表面硬化、氮化技术术 COMPANY CONFIDENTIAL 13 等等离离子体子体原原子子氮化氮化机机 快速处理过程( 0.6 m/min) 低温低热消耗 ( 2000 HV) 耐腐蚀提高( 20%) 不需要后续处理 置备行业领先的等离子体智能控制技术 (实时监控、终点探测) ) 应用领应用领域域 绿色、快速不锈钢表面氮化 产业化项目产业化项目 4等离子体诊断控制及材料性能原位分等离子体诊断控制及材料性能原位分析析 COMPANY CONFIDENTIAL 14 Plasma Reader 监控所有等离子体基团 全方位等离子体诊断

12、 原位纳米特性分析计算推演 允许客户化定制 应用领域：应用领域： 等离子体真空室特性表征 实验配方和真空室特征匹配性分析 早期缺陷探测及矫正 过程终点分析 及 失效分析 真空室中原位分析材料纳米特性 产业化项目产业化项目 5等离子体环境处等离子体环境处理理 COMPANY CONFIDENTIAL 15 等离子体气体净化器等离子体气体净化器 一步移除细菌, VOC, PM10/2.5, NOx, SOx 等. 接近100%净化效率 产品尺寸小 处理产额高 可控性、适应性强 应用领域：应用领域： 异味移除 排放气体净化 臭氧产生 成立的合资公司成立的合资公司 (1家家) COMPANY CONF

13、IDENTIAL 16 软等离子体清洁技术解决方案软等离子体清洁技术解决方案 (半导体工业半导体工业) Wirebonders Probe Cards Test Sockets Mold/Dies Hard disk Lead Frame Wafers Joint Venture 测试平台测试平台 INNOVO受邀参加受邀参加2015年台北半导体国际展览会年台北半导体国际展览会 (SEP) 高质量客户和运行 资金提供者 SPC 技术提供者 Wirebonders wedges Probe Cards Pins 附录附录 A. 大气等离子体表面微清洗技术大气等离子体表面微清洗技术 B. 太阳能电

14、池等离子体绿色制造工艺太阳能电池等离子体绿色制造工艺 C. 等离子体表面等离子体表面表面硬化、氮化技术表面硬化、氮化技术 D. 等离子体诊断控制及材料性能原位分析等离子体诊断控制及材料性能原位分析 E. 等离子体环境处理等离子体环境处理 COMPANY CONFIDENTIAL 18 19 COMPANY CONFIDENTIAL 大气等离子体表面微清洗技术大气等离子体表面微清洗技术 产业化项目产业化项目 1 附录附录 A 大气等离子体清洗大气等离子体清洗机机项目背景项目背景 COMPANY CONFIDENTIAL 20 人工刷洗人工刷洗 超声化学清洗超声化学清洗 等离子体清洁等离子体清洁

15、损伤表面涂层 引入其他污染物 清洁效率低 使用高浓度高腐蚀性化学溶液使用高浓度高腐蚀性化学溶液 表面涂层易破坏表面涂层易破坏 清洁全过程达数小时 绿色、快速清洁绿色、快速清洁 对表面涂层和宿主材料无破坏（包括塑料等） 大大降低机器停工时间 可广泛应用于多种清洁领域 非破坏清洁非破坏清洁 技术简介技术简介 COMPANY CONFIDENTIAL 21 低离子轰击 可调温度范围(25-200oC) 使用绿色气体等离子体原子化 低低等轰等轰击损伤的非热等离子体击损伤的非热等离子体清洗技清洗技术术 NonNon- -Thermal Plasma Cleaning With Reduced Plasma Bombardment DamageThermal Plasma Cleaning With Reduced Plasma Bombardment Damage 新加坡专利：新加坡专利：SG PRV. Application Number: 10201500483V. 2015. SG PRV. Applicatio