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1、http:/ 器，汽水混合加湿器等各类工业加湿器整机和配件；洁净车间需要加湿吗？洁净室内对湿度要求的重要性 洁净技术,亦即污染控制技术。指的是产品在被加工、处置、治疗、防护及实验等过程中，对其环境内污对象 的加工进行控制的技术。 污染包含对产品的损害和对人的危害。 污染包含直接污染和交叉污染（医疗范畴谓之感染)。 人是污染源的发源地：静坐时，人体每分钟散发 10 万个粒子（粒径0.5m） 。 每天脱落 613 克表皮细胞，一年脱落人体细胞约 3.5 公斤。 半导体洁净室内微污染来源，经测试，作业人员占 80% 。 对不同的对象，有不同的污染物控制要求。 空气中悬浮微粒（非生物性及生物性） 空气
2、中悬浮分子玷污物 病毒 微振 静电 生产工艺介质：高纯工业气体、特种气体、高纯水及高纯化学品等的有关杂质。 洁净技术内容涉及： 洁净室技术（工业洁净室、一般生活洁净室及隔离式生物洁净室）：包括空气净化、建筑装饰、玷污物发 散源的控制以及消除静电和防微振。 高纯工业气体、特种气体、高纯水及高纯化学品的制取、输送及纯化。 有关污染物的检测及监测。 洁净技术应用领域包含： 微电子、光电子、电子材料；仪器仪表、机械；制药及生物工程；饮料、食品、化妆品；医疗卫生（洁净手 术室及实验室） ；航空、航天及军事科学等。 这些年里，在这些规定范围中保持处理空气过程，使我们需承担资金和营运费用。但是为什么值得花费
3、这么 多钱用在洁净室中控制相对湿度呢？ 相对湿度在 40%至 60%的范围同样也是人类感觉舒适的范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低于 30%则 会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快。 相对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境 控制条件。半导体洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在 30 至 50%的范围内，允许误差在1%http:/ 器，汽水混合加湿器等各类工业加湿器整机和配件；的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小而在其他地方则可以放松到 5%的范围内。 道理很简单！因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括： 细菌生长；
4、工作人员感到室温的范围； 出现静电荷； 金属腐蚀； 水汽冷凝； 光刻的 退化； 吸水性。 细菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨虫）在相对湿度超过 60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群 在相对湿度超过 30%时就可以增长。在相对湿度处于 40%至 60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸 道感染降至低。 高湿度实际上减小了洁净室表面的静电荷积累这是人们希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并 成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过 50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于 30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。 相对湿度在 35%到 40
5、%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体洁净室一般都使用额外的控制装置以限制 静电荷的积累。 很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面 都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以 使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应； 但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面 的黏附力。这种效应凯尔文
6、浓缩当相对湿度小于 50%时并不重要，但当相对湿度在 70%左右时，就 成为颗粒之间黏附的主要力量。 实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘 性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。参http:/ 器，汽水混合加湿器等各类工业加湿器整机和配件；考两个城市，一个试验证实，相对湿度的 3%的变异将使保护厚度改变 59.2 A （原文如此） 。 此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以 受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度（约 30%）使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性 剂，如六甲基二硅氮烷（HMDS） 。 在半导体洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是，随着时间的变化，回顾一下常见的被普遍接受的实践的 原因和基础。到目前为止，在半导体洁净室中迫切需要适度控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿 度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的。
