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1、显影液分解的感光层显影 是制版 的关键，影响最终制版 的质量和稳定性，很多的制版 问题常出现在此。显影 原理用显影 液将已经曝光并发生分解的感光层（阳图PS 版）部分溶解，使印版形成图像和非图像两个部分的过程，称之为显影 。显影 原理： PS 版曝光后感光树脂分解，放出氮气，引起环的开裂，分子结构发生重排， 生成茚酮化合物，遇水生成茚酸化合物，此化合物遇碱则生成钠盐而溶于水，裸露出铝版基，形成了不含图像的空白区域，这些区域自然形成亲水层，而未感光的部位保留了原有感光树脂的亲油特性，自然形成印版的图像部位，印刷 时即可接受 油墨 。显影 液版显影 液是一种碱性水溶液，它由显影 剂、 保护 剂、润
2、湿剂和水等材料组成。显影 剂是用来溶解已受光部分感光层物质，主要为碱性物质，常用药品有氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、磷酸钠等。a氢氧化钠属于强碱，具有 显影 能力强、 显影 速度快、价格便宜等特点，但它同时对未感光的涂层也有一定的侵蚀作用，使版面留膜率降低，还可使 显影 后的空白铝版基氧化膜受到侵害。因此，使用氢氧化钠作为显影 剂时，应注意下述原则：常用于氧化膜较厚和进行过封孔处理的PS 版。常用于感光层抗强碱类型的PS 版。氢氧化钠配成的显影 液在空气中易吸收空气中的二氧化碳生成碳酸钠，因而稳定性差。目前单独使用氢氧化钠的情况已经不多，常与其他材料配合使用，其用量根据不同要求会有不同，一般来说
3、重量百分比为O1一 O 5氢氧化钾与氢氧化钠性能相近，其侵蚀性比氢氧化钠略弱，所以， 用氢氧化钾作为 显影 剂时使用量可以比氢氧化钠多O4 倍。b硅酸钠属于强碱弱酸盐，具有显影 速度快、性能较稳定、使用寿命长等特点。硅酸钠易水解生成氢氧根离子，它可补充显影 过程中氢氧根离子的损失，使显影 液的 pH值得到稳定。水解后生成的酸式硅酸钠可以进行脱水反应，其生成物吸附到印版氧化膜的孔隙中，对氧化膜有保护 作用，增加印版的亲水性能，此现象可称为印版的后封孔。因此，未封孔的PS 版常用硅酸钠作为显影液。保护 剂主要作用是稳定显影 液，降低 显影 液在 显影 过程中对印版的腐蚀，保护 图文部分的感光层不受
4、显影 液的侵蚀， 因此， 保护 剂也称抑制剂。 常用的抑制剂有磷酸钠或氯化钾等。磷酸钠 (Na3 P03) 的缓冲原理：它在水中水解时，有调节显影 液 pH 值的作用。水解反应生成的磷酸还有对版面去脏的作用，有利于 显影 后版面残留碱液的去除。氯化钠也可以作为保护 剂使用， 氯化钠在 显影 过程中形成的氯离子，有抑制感光层吸水溶涨的作用和助洗的作用。润湿剂主要是为降低 显影 液的表面张力， 使显影 液有较好的润湿性和分散均匀性，提高显影 的均匀度。主要材料是表面活性剂，如十二烷基苯磺酸钠等。溶剂主要是水， 但对水的要求比较高。普通自来水由于存在大量的钙、镁盐类易产生沉淀或絮状物，因此，用去离子
5、水或软化水比较好。显影 液配方举例氢氧化钠与硅酸钠混合配方：氢氧化钠硅酸钠表面活性剂加水至使用 显影 液的注意事项：在实际使用中，显影 液经常是配成浓度较大的溶液，称为浓缩液， 在 显影 时与一定比例的水相混合。由于制造PS 版的厂家制造技术的不同，在显影 的耐碱性方面有很大区别，一般厂家都推荐自己的显影 液与其 版材 相配套 ，应尽量使用厂家推荐的显影 液。从环保角度出发，显影 液的浓度有向弱碱方向发展的趋势，这样既降低了腐蚀性能，又减轻了废液的排放。显影 方式手擦式：目前很少再用， 要注意操作时用力的均匀性和安全性。由于手工操作，导致 显影 易不均匀，有些版不适合采用这种显影 方式槽显：
6、显影 温度同室温，环境对显影 效果影响较大，特别是冬厦两季。要注意水槽体积对水流和水压的影响，合理配比显影 液。对于 PS 版试版来说，这是一种比较好的 显影 方式， 显影 和水洗都比较充分，显影 比较单纯， 不会受到其它因素的影响。机显：主流 显影 方式， 自动 控制 显影 过程， 显影 机是关键。本章机显的大部分内容也适合于CTP 显影 机显影 环境照明：不同类型的版材 有不同的照明要求，同晒版 要求温度： 20-26 相对湿度： 60% 左右空气洁净度：通风顺畅有利于废气的排出，保持正气压，无尘埃，保证版房的洁净显影 参数根据不同品牌 版材 、显影 液和实际 显影 效果和遵照供应商建议设定显影 温度：一般在23-28 显影 浓度： 1：4-1 ：显影 时间： 18-28s （版停留在 显影 液的时间）
