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1、四探针测试仪测量薄膜的电阻率四探针测试仪测量薄膜的电阻率一、一、实验目的实验目的1、掌握四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法；2、了解影响电阻率测量的各种因素及改进措施。二、实验仪器二、实验仪器采用 SDY-5 型双电测四探针测试仪（含：直流数字电压表、恒流源、电源、DC-DC 电源变换器） 。三、实验原理三、实验原理电阻率的测量是半导体材料常规参数测量项目之一。测量电阻率的方法很多，如三探针法、电容-电压法、扩展电阻法等。四探针法则是一种广泛采用的标准方法，在半导体工艺中最为常用。1、半导体材料体电阻率测量原理、半导体材料体电阻率测量原理在半无穷大样品上的点电流源， 若样品的电阻率
2、均匀， 引入点电流源的探针其电流强度为 I，则所产生的电场具有球面的对称性， 即等位面为一系列以点电流为中心的半球面，如图 1 所示。在以为半径的半球面上，电流密度的分布是均匀的：若 E 为处的电场强度， 则： 由电场强度和电位梯度以及球面对称关系， 则：取为无穷远处的电位为零， 则：（1）drdEdrrIEdrd22)(022rrrrdrEdrd图 2 任意位置的四探针 图 1 点电流源电场分布 rlr2)(2图3 四探针法测量原理图上式就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离为的点的电位与探针流过的电流和样品电阻率的关系式，它代表了一个点电流源对距离处的点的电势的贡献。 对图 2 所示的情形
3、，四根探针位于样品中央，电流从探针 1 流入，从探针4 流出， 则可将 1 和 4 探针认为是点电流源，由 1 式可知，2 和 3 探针的电位为：2、3 探针的电位差为： 此可得出样品的电阻率为： (223 IV134132412)1111rrrr上式就是利用直流四探针法测量电阻率的普遍公式。上式就是利用直流四探针法测量电阻率的普遍公式。 我们只需测出流过1、4 探针的电流 I 以及 2、3 探针间的电位差 V23，代入四根探针的间距， 就可以求出该样品的电阻率 。实际测量中， 最常用的是直线型四探针（如图 3所示）， 即四根探针的针尖位于同一直线上，并且间距相等， 设r12=r23=r34=
4、S，则有：SIV223需要指出的是： 这一公式是在半无限大样品的基础上导出的，实用中必需满足样品厚度及边缘与探针之间的最近距离大于四倍探针间距， 这样才能使该式具有足够的精确度。如果被测样品不是半无穷大，而是厚度，横向尺寸一定，进一步的分析表明，在四探针法中只要对公式引入适当的修正系数 BO即可，此时：)11(224122rrI)11(234133rrI)1111(2341324123223rrrrIV3另一种情况是极薄样品，极薄样品是指样品厚度 d 比探针间距小很多，而横向尺寸为无穷大的样品，这时从探针 1 流入和从探针 4 流出的电流，其等位面近似为圆柱面高为 d。任一等位面的半径设为，类
5、似于上面对半无穷大样品的推导，很容易得出当 r12=r23=r34=S 时，极薄样品的电阻率为： 上式说明，对于极薄样品，在等间距探针情况下，探针间距和测量结果无关，电阻率和被测样品的厚度 d 成正比。就本实验而言，当、四根金属探针排成一直线且以一定压力压在半导体材料上，在、两处探针间通过电流 I，则、探针间产生电位差 V23。 材料电阻率： (2)（2）式中：S 为相邻两探针与、与、与之间距， 就本实验而言，S=1mm， C6.280.05 (mm)。若电流取 I = C 时，则 V，可由数字电压表直接读出。2、扩散层薄层电阻（方块电阻）的测量、扩散层薄层电阻（方块电阻）的测量半导体工艺中普
6、遍采用四探针法测量扩散层的薄层电阻，由于反向 PN 结的隔离作用，扩散层下的衬底可视为绝缘层，对于扩散层厚度(即结深 Xj)远小于探针间距 S，而横向尺寸无限大的样品，则薄层电阻率为：SIBV2023极薄样品，等间距探针情况CIVSIV232324实际工作中，我们直接测量扩散层的薄层电阻，又称方块电阻方块电阻，其定义就是表面为正方形的半导体薄层，在电流方向所呈现的电阻，见下图。所以 ：因此有: 实际的扩散片尺寸一般不很大，并且实际的扩散片又有单面扩散与双面扩散之分， 因此，需要进行修正，修正后的公式为：四、本仪器及实验的优点四、本仪器及实验的优点采取四探针双位组合测量新技术提高了测量结果的准确
7、度。采取四探针双位组合测量新技术提高了测量结果的准确度。该仪器采用了四探针双位组合测量新技术，将范德堡测量方法推广应用到直线四探针上，利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，能自动消除样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响。因而每次测量不必知道探针间距、样品尺寸及探针在样品表面上的位置。由于每次测量都是对几何因素的影响进行动态的自动修正，因此显著降低了几何因素影响，从而提高了测量结果的准确度。所有这些，用目前大量使用的常规四探针测量方法所生产的仪器是无法实现的。各种形状的薄膜材料及片状材料均可用该仪器测量。各种形状的薄膜材料及片状材料均可用该仪器测量。使用本
8、仪器进行测量时,由于不需要进行几何边界条件和探针间距的修正，因而对各种形状的薄膜材料及片状材料有广泛的适用性。仪器特别适用于测量片状半导体材料电阻率以及硅扩散层、离子注入层、异型外延层等半导体器件和液晶片导电膜、电热膜等薄层(膜)的方块电阻。设备简单，操作方便，精确度高。设备简单，操作方便，精确度高。仪器以大规模集成电路为核心部件，特5别采用了平面轻触式开关设计和各种工作状态 LED 指示，并应用了微计算机技术，利用 HQ-710F 型微计算机作为专用测量控制及数据处理器,使得测量、计算、读数更加直观、快速，并能打印全部预置和测量数据。在半导体器件生产中广泛使用。在半导体器件生产中广泛使用。四
9、探针法除了用来测量半导体材料的电阻率以外，在半导体器件生产中广泛使用四探针法来测量扩散层薄层电阻，以判断扩散层质量是否符合设计要求。 因此，薄层电阻是工艺中最常需要检测的工艺参数之一。克服了测试时探针与样品接触时产生的接触电势和整流效应的影响克服了测试时探针与样品接触时产生的接触电势和整流效应的影响。本仪器设立有“粗调”、 “细调”调零电路能产生一个恒定的电势来补偿附加电势的影响。仪器自较电路中备有精度为 0.02、阻值为 19.96 的标准电阻,作为自校电路的基础，通过自校电路可以方便地对数字电压表精度和恒流源进行校准。五、操作步骤五、操作步骤(见使用说明书见使用说明书-使用方法）使用方法）
10、六、实验内容六、实验内容采用脱机及联机法测量。 1、方块电阻测量：根据（Va/Vb）值的大小，选择几何修正因子 K 的计算公式，然后用 R=K*（Va/I）计算方块电阻 R 。 2、薄片体电阻率测量：若已知样片厚度 W（W 应在 0.203.9mm） ，按 = R*W*F(W/S)/10 计算体电阻率。式中：W 单位为 mm，S=1mm（探针平均间距） ，F（W/S）为厚度修正因子，已存在微机内。七、注意事项七、注意事项1、显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关（短路、测量、调节、 自校选择）5、电压量程开关6、输入插座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电 源开关1
11、1、电流选择开关 12、极性开关61、Si 片很脆，请同学们小心轻放；当探针快与 Si 片接触时，用力要很小，以免损坏探针及硅片。2、要选择合适的电流量程开关，否则窗口无读数。3、计算机按键要轻，以免损坏。4、在测量过程中，由于附近其它仪器电源的开头可能会把计算机锁住而无法工作，此时应重新开机，即恢复正常。5、每次测量应等所有数值稳定后方可按“测量”进行下一次测量。八、思考题八、思考题1、测量电阻有哪些方法？2、什么是体电阻、方块电阻（面电阻）？3、四探针法测量材料的电阻的原理是什么？4、为什么要用四探针进行测量，如果只用两根探针既作电流探针又作电压探针，是否能够对样品进行较为准确的测量?5、
12、四探针法测量材料电阻的优点是什么？6、本实验中哪些因素能够使实验结果产生误差？实验要求实验要求1、针对讲义（本实验，教材上没有）及思考题，认真做好预习，并完成预习报告。2、没有预习报告者，不能做实验。3、实验成绩更加注重平时成绩（占 70%左右） ，平时成绩由三部分组成：（1）预习报告及实验报告；（2）实验态度（如考勤，是否认真等） ；（3）回答问题。希望班干部将上述内容及要求提前发给每一个学生。希望班干部将上述内容及要求提前发给每一个学生。7SDY-5 型双电测四探针测试仪技术说明书型双电测四探针测试仪技术说明书一、概述 二、技术指标 三、测量原理与计算方法 四、仪器结构说 明 五、使用方法
13、 六、注意事项 七、打印机操作方法一、概述SDY-5 型双电测四探针测试仪采用了四探针双位组合测量新技术，将范德堡测量方法 推广应用到直线四探针上，利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，能自动消 除样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响。因而不 必知道探针间距，样品尺寸及探针在样品表面上的位置。由于每次测量都是对几何因素的 影响进行动态的自动修正，因此显著降低了几何因素影响，从而提高了测量准确度。用目 前大量使用的常规四探针测量方法所生产的仪器是根本办不到的。 使用本仪器测量时，由于不需要进行几何边界条件和探针间距的修正，因而对各种形 状的薄膜材料及片状材
14、料有广泛的适用性。 仪器适用于测量片状半导体材料电阻率及硅扩散层、离子注入层、异型外延层等半导 体器件和液晶片导电膜、电热膜等薄层（膜）的方块电阻。 仪器以大规模集成电路为核心部件，并应用了微计算机技术。利用 HQ-710F 型微计算 机作为专用测量控制及数据处理器，使得测量、计算、读数更加直观、快速，并能打印全 部预置和测量数据。二、技术指标1.测量范围： 硅片电阻率：0.01200.cm (可扩展) 薄层电阻： 0.012000/口 (可扩展) (方块电阻) 可测晶片直径：最大直径 100 mm(配 J-2 型手动测试架)200 mm(配 J-5 型手动测试架) 可测晶片厚度： 3.00
15、mm 2.恒流电源: 电流量程分为 100m、1mA、10mA、100mA 四档。各档电流连续可调。稳定度优于 0.1% 3.数字电压表: 量程：0-199.99mV； 分辨率：0.01 mV 显示：四位半红色发光管数字显示.极性、小数点、超量程自动显示。 精度：0.1% 4.模拟电路测试误差:(用 1、10、100、1000 精密电阻)0.3%1 字 5.整机准确度:(用 0.01200.cm 硅标样片测试) 5% 6.微计算机功能:(1)键盘控制测量取数,自动控制电流换向和电流、电压探针的变换，并进行正、反向电流 下的测量，显示出平均值。 (2)键盘控制数据处理，按内在公式计算出薄层电阻或电阻率平均值以及百分变化。8(3)键盘控制打印全部测量数据。包括测量条件，各次测量平均值、最大值、最小值、百 分变化等数据。 7、外形尺寸：电气主机：360mm320mm 100mm微计算机：300mm210mm 105mm 8、仪器重量： 电气主机：约 4kg ；测试架（J-2 型）：约 7 kg ；微计算机：
