磁控溅射法制备Cr-Cr2O3干涉型太阳能选择吸收薄膜的研究

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1、学 校 代 号 10524 学 号 12009379分 类 号 密 级硕 士 学 位 论 文磁控溅射法制备 Cr-Cr2O3 干涉型太阳能选择吸收薄膜的研究学 位 申 请 人 姓 名 熊 黎培 养 单 位 电 子 信 息 工 程 学 院导 师 姓 名 及 职 称 孙 奉 娄 教 授学 科 专 业 等 离 子 体 物 理研 究 方 向 新 型 功 能 材 料论文提交日期 2012 年 5 月学 校 代 号 : 10524学 号 : 12009379密 级 :中南民族大学硕士学位论文磁控溅射法制备 Cr-Cr2O3 干涉型太阳能选择吸收薄膜的研究学 位 申 请 人 姓 名 : 熊黎导 师 姓 名

2、及 职 称 : 孙 奉 娄 教 授培 养 单 位 : 电 子 信 息 工 程 学 院专 业 名 称 : 等离子体物理论 文 提 交 日 期 : 2012 年 5 月论 文 答 辩 日 期 : 2012 年 5 月 26 日答 辩 委 员 会 主 席 : 黄 新 堂 教 授Research about Cr-Cr2O3 interference Solar selective absorbing filmsprepared by magnetron sputteringbyXiong LiB.E.(Jiang Han University)2008A thesis submitted in pa

3、rtial satisfaction of theRequirements for the degree ofMaster of ScienceinPhysicsin theGraduate SchoolofSouth-Central University for NationalitiesSupervisorProfessor Sun FenglouMay, 2012中南民族大学学位论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的论文是本人在导师的指导下独立进行研究所取得的研究成果。除了文中特别加以标注引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写的成果作品。对本文的研究做出重要贡献的个人和

4、集体,均已在文中以明确方式标明。本人完全意识到本声明的法律后果由本人承担。作者签名: 日期: 年 月 日学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定,同意学校保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阅。本人授权中南民族大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。本学位论文属于1、 保 密 _年解密后适用本授权书。, 在2、不保密 。(请在以上相应方框内打“”)作者签名: 日期: 年 月 日导师签名: 日期: 年 月中 南 民 族 大 学 硕 士 学 位 论 文目

5、 录摘 要 . IAbstract . II第 一 章 概 述 . 11.1 太 阳 能 的 热 利 用 . 11.2 太 阳 能 光 谱 选 择 性 吸 收 薄 膜 . 21.2.1 选 择 性 吸 收 薄 膜 的 工 作 原 理 . 21.2.2 选 择 性 吸 收 薄 膜 的 分 类 . 31.2.3 选 择 性 吸 收 薄 膜 的 制 备 工 艺 . 51.3 膜 系 设 计 和 工 艺 选 择 . 71.4 本 课 题 的 主 要 内 容 和 研 究 意 义 . 81.4.1 主 要 内 容 . 81.4.2 研 究 意 义 . 8第 二 章 薄 膜 制 备 和 检 测 . 92.1

6、 磁 控 溅 射 技 术 . 92.1.1 溅 射 技 术 基 础 . 92.1.2 磁 控 溅 射 工 作 原 理 . 92.1.3 反 应 磁 控 溅 射 简 介 . 102.2 薄 膜 制 备 . 112.2.1 磁 控 溅 射 设 备 介 绍 . 112.2.2 基 底 材 料 及 预 处 理 . 122.2.3 薄 膜 的 制 备 工 艺 流 程 . 122.3 薄 膜 检 测 手 段 . 132.3.1 薄 膜 厚 度 的 测 量 . 132.3.2 薄 膜 反 射 率 的 测 量 . 142.3.3 X 射 线 衍 射 分 析 . 142.3.4 X 射 线 光 电 子 能 谱 分 析 . 15第 三 章 单 层 Cr-Cr2O3 金属陶瓷薄膜的性能研究 . 163.1 Cr2O3 薄 膜 . 163.1.1 沉 积 Cr-Cr2O3 薄 膜 的 最 优 工 艺 参 数 . 163.1.2 最 优 工 艺 条 件 下 Cr-Cr2O3 薄 膜 的 性 能 分 析 . 173.2 反 应 溅 射 工 艺 对 薄 膜 物 相 成 分 的 影 响 . 183.2.1 溅 射 时 间 对 Cr-Cr2O3 薄 膜

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