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1、1. 英文專有名詞介紹2. General (一般專有名詞)3. 英 文 專 有 名 詞 4. 中 文 說 明（數字表示有詳註）5. LCD (Liquid Crystal Display) 6. 液晶顯示器* 註.7. Glass, substrate or glass substrate 8. 玻璃基版* 註.9. TFT(Thin Film Transistor) 10.薄膜電晶體* 註.11.Panel 12.面板13.Array 14.排列,指在玻璃基板上做TFT的製程15.LCD-Array16.Cell 17.液晶填充製程.分為18.LCD-FEOL（Cell前段）19.LCD-
2、BEOL（Cell 後段含Cell Tester）20.Module 21.模組,指後段組裝製程22.LCM23.Monitor 24.監視器25.Pixel26.XGA: eXtended Graphics Array=1024*768Pixels27.SXGA: Super XGA=1280*1024Pixels28.像素*註 .29.PS. 像素越多表示解析度越高30.Computer 31.電腦32.Notebook 33.筆記型電腦（簡稱為NB）34.RGB (Red, Green, Blue) 35.指紅綠藍三原色36.PM (Preventive Maintenance) 37.
3、預防保養38.Quality 39.品質40.Standard 41.標準 (指作業標準或品質指標)42.Material 43.材料44.Yield 45.良率46.CIM (Computer Integration Manufacturing)47.電腦整合製造（指以電腦系統整合製造流程）48.FA (Factory Automation) 49.工廠自動化50.Exit 51.出口52.Precaution 53.預防措施54.Warning 55.警告56.Emergency 57.緊急58.Alarm 59.警報60.Clean Room (潔淨室專有名詞 )61.英 文 專 有 名
4、 詞 62.中 文 說 明63.Clean room 64.潔淨室* 註.65.Particle 66.微粒子* 註.67.HEPA (High Efficient Particulate Air) filter68.高效能粒子空氣過濾網69.Contamination 70.污染71.Temperature (TEMP) 72.溫度73.Humidity 74.濕度75.Pressure 76.壓力77.UPW (Ultra-Pure Water) 78.超純水79.DIW (De-Ionized Water) 80.去離子水81.IPA (Isopropyl Alcohol) 82.異丙醇
5、83.Sticky mat 84.腳踏黏墊*註.85.Cleanliness 86.潔淨度87.ESD (Electro-static Discharge) 88.靜電破壞* 註.89.Laminar flow 90.層流（流體力學名詞）91.Turbulent flow 92.擾流（流體力學名詞）93.Alcohol 94.酒精95.Acetone 96.丙酮97.Particle 98.微粒子99.Dust 100. 灰塵101. Gowning room 102. 換衣間*註.103. Raised floor (grating floor) 104. 高架地板*註.105. Air s
6、hower 106. 氣浴室* 註.107. Prohibit 108. 禁止109. Clean suit (bunny suit, dust-free garment)110. 無塵衣*註.111. Glove 112. 手套113. Hairnet 114. 網帽115. Hood 116. 頭罩117. Mask 118. 口罩119. Clean shoes (dust-free shoes, boots) 120. 無塵鞋121. Factory Automation (工廠自動化專有名詞)122. 英 文 專 有 名 詞 123. 中 文 說 明124. Vehicle 125.
7、 運輸工具或載具126. AGV (Automatic Guided Vehicle) 127. 自動搬運車128. MGV (Manual Guided Vehicle) 129. 人力搬運車130. Clean lifter 131. 天井傳送車132. LIM (Linear Induction Motor) Carrier 133. 線性感應馬達傳送載具134. OHS (Overhead Shuttle) 135. 天車或稱軌道車136. Stocker (clean depot) 137. 存放Cassette(架子)的暫存區138. Battery 139. 電池140. Bay
8、 141. 作業區142. Bumper 143. 保險槓144. Charger 145. 充電器146. Controller 147. 控制器148. Conveyor 149. 輸送帶150. Crane 151. 吊車（在Stocker 內）152. FFU (Fan Filter Unit) 153. 風扇過濾器154. Host 155. 主機156. I/O (Input / Output) 157. 輸入/輸出158. Inter-bay 159. 作業區和作業區之間160. Intra-bay 161. 作業區之內162. IR (Infra-Red) 163. 紅外線16
9、4. IRIF(Infra-Red InterFace) 165. 紅外線介面166. Load 167. 進料168. Unload 169. 卸貨170. Magnetic tape 171. AGV路徑所使用的磁條172. POSEIDON 173. 海神生產作業系統174. Retrieve 175. 【電腦】檢索,擷取(資料)176. RTM (Rotary Transfer Machine) 177. 旋轉傳送機178. SCARA arm 179. AGV之傳送手臂180. Reset 181. 重新設定182. Transportation 183. 傳輸184. *註.OPI
10、(Operation POSEIDON Instruction)海神生產作業系統專有名詞介紹185. 英 文 專 有 名 詞 186. 中 文 說 明187. Recipe 188. 程式,製程參數189. Stock out 190. 將Cassette取出191. Request 192. 請求,要求193. Transfer 194. 傳送,運送195. Instruction 196. 命令,指令197. Select 198. 選擇199. Cancel 200. 取消201. Operation 202. 作業,操作203. Support 204. 支援205. Process
11、206. 製程207. Start 208. 開始209. Comp. 210. Completion的縮寫,意指完成211. Batch 212. 批量213. Lot 214. 指生產線上的在製品或產品, 簡稱貨215. ID (Identity) 216. 識別碼(如Lot ID or Chip ID)217. Sheet 218. 片(Array 區玻璃基版計數單位)*註.219. Chip 220. 片(Cell區玻璃計數單位)*註.221. Inspection 222. 檢驗223. Defect 224. 缺陷225. Production 226. 生產227. Hold 2
12、28. 留置在當站製程（如有品質問題時）229. Release 230. 將hold住的貨放行 ,釋出231. Equipment 232. 設備（簡稱為EQP）233. Tool 234. 工具,機台235. WIP (Work In Process) 236. 在製品（製程在製品）237. Maintenance 238. 維修保養239. Cassette 240. 裝在製品的架子*註.241. Empty 242. 空的243. Reserve 244. 預約245. Report 246. 報告247. Scrap 248. 報廢249. Rework 250. 重工251. Lo
13、g on 252. 登帳253. Log off 254. 除帳255. Note 256. 註解257. 258.259. 260.261. 262.263. 264.265. 266.267. 268.269. 270.271. 272.273. 274.275. 276.277. 278.279. 280.281. 282.283. 284.285. 286.287. Array 段製程專有名詞介紹288. 英 文 專 有 名 詞 289. 中 文 說 明290. Material 291. 材料292. Metal 293. 金屬294. Target 295. 靶296. MoW (
14、Moly-tungsten) 297. 鎢化鉬298. Mo (Molybdenum) 299. 鉬300. ITO (Indium Tin Oxide) 301. 銦錫氧化物302. Al (Aluminum) 303. 鋁304. AlNd(Aluminum and Neodymium Alloy)305. 鋁和釹的合金以上皆為濺鍍機金屬靶的材料之一306. Reticle or Mask 307. 光罩308. Detergent (LH-300)309. 界面活性劑的一種（清洗機用來清洗玻璃表面用LH-300 為供應商型號）310. LAL-50311. 含NH4F與HF，為清洗機用來
15、清洗玻璃表面氧化層的化學溶液312. O3（Ozone ）313. 臭氧，主要為各製程用來清除有機物的污染或殘留314. NBA (1-butyl Acetate)315. 乙酸正丁酯，主要用來清洗旋轉塗佈光阻時殘留在玻璃邊緣的光阻液316. Resist or Photo Resist 317. 光阻（簡稱PR）318. HMDS319. Hexamethyldisilazane的簡寫，為一種化學中間體，用以增加光阻塗佈時對晶片表面之附著力320. AC-1321. 帶靜電防止劑（ESD-Preventer） ，在上光阻機內使用，防止靜電產生，破壞玻璃元件322. TMAH (供應商型號為K
16、TM-25)323. Tetra-Methyl Ammonium Hydroxide的簡寫，為廠內所使用之顯影液324. Oxalic Acid (H2C2O4) 325. 草酸，濕蝕刻機中用來蝕刻5PEP 中的a-ITO 膜326. DHF327. 成份為49% 氫氟酸HF，主要為濕蝕刻機中用來蝕刻7PEP中的SiNx膜328. ITO-Etchant329. 成份中含鹽酸HCl及硝酸HNO 3，主要用來蝕刻7PEP中的Poly-ITO330. BHF331. 成份中含氟化銨NH4F及HF，主要用來蝕刻7PEP中的SiON332. Al-Etchant333. 成份中含乙酸CH 3COOH、磷酸H 3PO4及硝酸HNO3，主要用來蝕刻Mo/Al/Mo 的沈積層334. IPA335. 異丙醇 Isopropyl Alcohol的簡稱，主要用來作為設備擦拭液，在去光阻製程中亦用來清除玻璃基板上的有機殘留物（如光阻或去光阻液）336. N-30
