《CTP磁控溅射镀膜生产线详细方案书》由会员分享，可在线阅读，更多相关《CTP磁控溅射镀膜生产线详细方案书（12页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、第 1 页 共 6 页 CTP磁控溅射镀膜生产线方案书 1.1立式磁控溅射镀膜生产线整体结构说明 制造厂家 湖南湘潭宏大真空技术股份有限公司 生产型号HD-ILS-2011-X 立式磁控溅射镀膜生产线设计为七室结构 第一部分为进口室 第二部分为 进口缓冲室 第三部分为进口传送室 第四部分为工艺室 (根据加工和安装条件再确定分为几段)第五部分为出口传送室 第六部分为出口缓冲室 第七部分 为出口室 第四部分工艺室配置可以实现 SiO2+ITO和Mo A l Mo 镀膜产品其配置有3对中频平面阴极靶SiO2采用压电阀闭环控制形成高质量的SiO2膜层8个平面阴极阴极位安装6个平面阴极 预留 2个阴极位
2、 采用 DC电源实现高质量的Mo A l Mo 或ITO透明导电膜 设备设计加工尺寸 4片550mm670mm 0.3-3mm 的平面玻璃基板 生产 为 75 s生产线采用分 形成 的 进设计 生产线共配有 18 的TMP-V2304LM磁 分 以 高 的 定的 和 的 体分 1设备设计尺寸 真空 体 体27m以实设计为 工艺室13500mm L 2200mm H 500 W 1 个 实设计为 镀膜室1750mm L 2200mm H 500 W 6 个 实设计为 板阀150mm L 2200mm H 500 W 4 个 实设计为 currency1板阀150mm L 2200mm H 500
3、 W 2 个 实设计为 装“1750mm L 1900mm H 6 个 实设计为 平“1750mm L 1900mm H 2 个 实设计为 “ 实设计为 2生产线设计技术fi 产品尺寸 4片550mm670mm 基片“尺寸 1500 L 1730mm H 以实设计为 fl大 为1350mm1100mm 镀膜 ITO 9010(膜18020? Metal(MoALMo)0.4( 膜3000500? 生产 75s“ 1.2立式磁控溅射镀膜生产线配置说明 1.2.1真空 体部分 1第一部分 进口室 进口室 ”真空 室 成”真空 基“ 传送高真 空 室 真空 体部分尺寸1750mm L 2200mm
4、H 500 W 以实设计为 设计成型结构 量体的空 真空 部分配置 片 SV630BF 1 WAU2001 1 口安装板 口 为 DN150 第 2 页 共 6 页 进 装置 进口室 的压 空 的 体 实现的 电磁阀控制 口口 为 DN40共4个 实 , 体 装置 大 采用 立currency1板阀 有 工 真空 5-8100Pa 2第二部分 进口缓冲室 进口缓冲室 高真空 室 成高真空 基“ 传送 传送室 装一 ” TH-135-15P 真空 体部分尺寸1750mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 真空 部分配置 分 TMP-V2304LM 2 装置 第一部分 采用 进的板阀
5、可以 定有 的 ”真空 高真空环 量计控制平 体 Ar 加 板安装三段加 装置 板安装五段加 装置 对基片和基片 “进 加 加 体 安装四层 面板 分 安装 板 分 道 级 道连接利用 结构实现密封和 打开 开关 时用人工拆 道 工 Ar平 真空2 510 1Pa 正常镀膜工艺真空 3第三部分 进口传送室 进口传送室 此 室基片“ 高真空 室传送镀膜室 基“传送 传送 转变成镀膜传送 真空 体部分尺寸1750mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 高真空 级部分配置 第二部分、第三部分、第四部分、第五部分、第六部分共用 片 SV630BF 1 (WSU2001 1 高真空 维持部分
6、配置 分 TMP-V2304LM 2 装置 第二部分采用 进的板阀 可以有 的分 工艺 加 板安装三段加 装置 板安装五段加 装置 对基片和基片 “进 高加 加 体 安装四层 面板 分 安装 板 分 道 级 道连接利用 结构实现密封和 打开 开关 时用人工拆 道 4第四部分 工艺室 真空 体部分尺寸13500mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 第四部分工艺室配置可以实现SiO2+ITO或Mo A l Mo 镀膜产品 其配置有3对中频平面阴极靶SiO2形成高质量的SiO2膜层6个平面阴极 采用DC电源实现高质量的Mo A l Mo 复合膜层或 更换 2个阴极位的靶形成ITO透明导
7、电膜 具体靶位配置见方案图 加 所有镀膜 室板安装有三段加 装置 靶位板安装五段加 装 置 保证镀膜时玻璃的 定 加 体 安装四层 面第 3 页 共 6 页 板 加基片“ 安装钛板 为 及遮挡溅射物 维持 部分配置 分 TMP-V2304LM 10 分 安装 板 分 道 级 道连接利用 结构实现密封和 打开 开关 时用人工拆 道 中频平面磁控溅射靶 平 磁场 靶 利用率 35 磁铁 永久磁 靶 1450mm以实设计为 靶宽 120mm以实设计为 注 所有 个阴极可装镀膜线的任何平面靶位 具体位置可根据工艺需 置 阴极挡板和 体分配系统 质量 量控制 的2进制 供 系统 采用压电阀PCU03闭环
8、控制 孔的防护和旁边屏蔽 溅射挡板 中频电源 中频电源 SiO2 10KW3 美国 AE 直 平面磁控溅射靶 平 磁场 靶 利用率 35 磁铁 永久磁 靶 1450mm以实设计为 靶宽 120mm以实设计为 注 所有 个阴极可装镀膜线的任何平面靶位 具体位置可根据工艺需 置 阴极挡板和 体分配系统 质量 量控制 的3层 供 系统 孔的防护和旁边屏蔽 溅射挡板 阴极电源 直 电源 MO 10*10KW2 美国 AE 直 电源 Al 20KW3 美国 AE 阴极屏蔽装置 阴极位置 安装一副屏蔽罩 多配备一副生产 服务期 交换喷砂备用 包括 部分的防护罩、旁边的挡板和 下屏蔽等 5第五部分 出口传送
9、室 出口传送室 此 室基片“ 镀膜室传送高真空维持室 基“传送 镀膜传送 转变成传送 真空 体部分尺寸1750mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 高真空 维持部分配置 分 TMP-V2304LM 2 装置 采用 进的板阀 可有 而 定的 和工 艺 加 板安装三段加 装置 板安装五段加 装置 对基片和基片第 4 页 共 6 页 “进 保加 加 体 安装四层 面板 分 安装 板 分 道 级 道连接利用 结构实现密封和 打开 开关 时用人工拆 道 6第六部分 出口缓冲室 出口缓冲室 此 室基片“ 高真空 室传送出口室 真空状态 高 真空渡”真空 基“ 出口缓冲室 渡出口室 真空 体部
10、分尺寸1750mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 真空 部分配置 分 TMP-V2304LM 2 体 装置 采用 进的板阀进 真空 高真空 量计控 制平 体Ar 分 安装 板 分 道 级 道连接利用 结构实现密封和 打开 开关 时用人工拆 道 7第七部分 出口室 出口室 进入大 状态出片 成 重新恢复”真空 基“ 传送真空室外 进 基片下“工序 真空 体部分尺寸1750mm L 2200mm H 500 W 以实设计为 设计成型结构 量体的空 真空 部分配置 片 SV630BF 1 WAU2001 1 进 装置 进口室 的压 空 的 体 实现的 电磁阀控制 口口 为 DN40共
11、4个 实 体 装置 大 采用 立currency1板阀 可以有 而方便的 真空 口安装板 口 为 DN150 工 真空 5-8100Pa 8第八部分 装 装 真空室一样采用 进的磁导向传 能确保制的平 和精确定位 9第九部分 “系统和平 “系统安装体 采用 进的摩擦磁导向传送 传 同 相连 光电定位 整个“系统和出片平 用化玻璃包装 部安装 FFU 1.3.立式磁控溅射镀膜生产线外围系统说明 1.3.1冷却 系统 阴极靶、体冷却、分 、电源冷却 使用闭路循环 冷冻 降T=1015K 注 的 耗和 依实情况定 1闭路循环冷却 系统 镀膜 用循环冷却 fi 电阻大于 10M 名称 序号 工艺设备名称 设计 量m3/h入口压bar ( ) 进 /出质 第 5 页 共 6 页 1 片 、分 、电源、阴极、体、 40 0.4 1822 DN100 纯 1.3.2供 系统 1工艺 体供 系统 氩
