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1、1 X 射线用氮化硅薄膜窗 氮化硅薄膜窗 随着各种软 X 射线光源的出现，如同步辐射、激光等离子体等高亮度的 X 射线源的发展，软 X射线显微成像技术在全世界范围内得到迅速发展。光学显微镜与电子显微镜相比，软 X 射线显微术是研究自然状态下生物样品高分辨率成像的最好方法。为了充分体现软 X射线显微术对生物自然状态下观测的特色，必须借助于一定的窗口将真空中的软 X 射线尽可能小的吸收比。由于氮化硅膜具有如下优良的性质，因而需要各种尺寸和厚度的氮化硅薄膜作为软 X 射线显微术的窗口材料。 氮化硅薄膜的性质： 1. 硬度大，致密性好，表面光滑，机械强度大，稳定性好； 2. 对软 X 射线有很好的穿透
2、性，对可见光是透明的。 氮化硅膜可用作软 X 射线接触显微术的衬底支持膜，成像后直接进行透射电镜观察；可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层；可以成为制作各种光学波带片的衬底薄膜；可以作为投影显微术靶的支持膜；可以用作真空窗口，在同步辐射软 X 射线显微术中，隔开光源超高真空与显微术光学元件高真空部分；在活样 品室设计中，隔开高真空的软 X 射线部分与大气压，使样品在大气中曝光，这对于研究生物活细胞具有重大意义。 RISUN 氮化硅薄膜窗特点 RISUN 的 X-射线薄膜窗能够实现软 X-射线 (如真空紫外线 )的最大透射率 ， 主要用于同步辐射 X 射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软 (
3、能量越低 )，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在 “离轴 ”状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于 X 射线更好地穿透。 1. RISUN 提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代 MEMS 技术制备而成 ； 2. RISUN 提供的氮化硅 窗选用低应力氮化硅（ 0-250MP）薄膜， 和 ST 氮化硅薄膜 相比，低应力产品 更坚固耐用 ，成为用户的首选； 3. RISUN 提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像 /能谱线站）、 TEM、 SEM、 IR、 UV 等。 透光度 使用透射（光学）显微镜时，
4、完全可以透过薄膜窗进行观察。但薄膜窗的厚度有一定限制，否则其透光度会明显下降。 对于 X 射线用窗口， 500nm 厚的氮化硅薄膜有很好的 X光穿透效果，对于软 X 射线（例如碳边吸收谱）， 100-200nm 厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 2 真空适用性 薄膜厚度 窗口面积 压力差 50 nm 1.0 x 1.0 mm 1 atm 100 nm 1.5 x 1.5 mm 1 atm 200 nm 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度 RISUN 氮化硅薄膜窗口 具有稳定的表面平整 性（粗糙度小于 1nm），对于 X 射线应用没有任何影响。 温度特性 RISUN 氮化硅薄膜窗口是
5、耐高温产品，能够承受 1000 高温，非常适合在其表面利用CVD 方法生长各种纳米材料。 化学特性 RISUN 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 RISUN 氮化硅薄膜窗 规格 单窗口系列 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 型号 50-200nm 1.5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN 50-200nm 2.5X2.5mm 7.5X7.5mm 50-200nm 3.0X3.0mm 10X10mm 50-200nm 5.0X5.0mm 10X10mm 硅片厚度 ： 200um、 381um、 525um； 3 多窗口 系列 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 型号 50nm 2x2 阵列， 1.
6、5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN 50nm 3x3 阵列， 1.5X1.5mm 7.5X7.5mm 100nm 4x4 阵列， 1.5X1.5mm 10X10mm 硅片厚度 ： 200um、 381um、 525um； 定制 系列 可根据用户需求提供不同膜厚、镀层（如 Au/Cu/Mg/Ni 等）的定制服务 。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用 ； 本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介 1. 同步辐射 X 射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2. 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光
7、学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于 X 射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3. 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4. 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5. 适合 作 为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 X 射线用 氧化硅薄膜窗 氧化硅薄膜窗 RISUN 推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在 X-射线显微镜中，由于没有N 原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于
8、含氮样本。在 EDS 研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 4 RISUN 氧 化硅薄膜窗特点 许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。 SEM 应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X 射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN 氧 化硅薄膜窗 规格 单窗口系列 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 型号 50-200nm 1.5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN 50-200nm 2.5X2.5mm 7.5X7.5mm 50-200nm 3.0X3.0mm 10X10mm 50-200nm 5.0X5.0mm 10X10
9、mm 硅片厚度 ： 200um、 381um、 525um； 多窗口 系列 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 型号 50nm 2x2 阵列， 1.5X1.5mm 5.0X5.0mm RISUN 50nm 3x3 阵列， 1.5X1.5mm 7.5X7.5mm 100nm 4x4 阵列， 1.5X1.5mm 10X10mm 硅片厚度 ： 200um、 381um、 525um； 定制 系列 可根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口 。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用 ； 本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 5 应用简介 实际上， RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广
10、，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： 1. 惰性基片可用于高温环境下，通过 TEM、 SEM或 AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 2. 作为耐用（如 “ 强力 ” ）基片，首先在 TEM下，然后在 SEM下对同一区域进行 “ 匹配 ” 。 3. 作为耐用匹配基片，对 AFM和 TEM图像进行比较。 4. 聚焦离子束（ FIB）样本的装载。 5 用作 Ti、 V、 Mo 等滤光器基质 ； 用于 X-射线光学设备中，如分光器。 TEM 用 氮 化 硅薄膜窗 口 氮化硅 薄膜窗 口 特点 低应力的 8, 15 , 50nm 厚的氮化硅支撑膜： 50nm 厚的薄膜具有最大的视野范围；
11、 8nm 和15nm 厚的无孔氮化硅薄膜适用于 TEM 超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜： 低应力 的 LPCVD 非化学计量比 氮化硅薄膜， 良好的平整度、绝缘性和疏水性 良好的化学稳定性： 图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 均匀性： 减少了不同区域的不均匀性 ； TEM 断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的 0.5x1.5mm 大窗口，倾斜度最大可达 75 多窗口系列： 2 窗口， 0.1x1.5mm； 3x3 系列， 0.1x0.1mm 可应用 于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于 TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。 薄膜和基底耐酸，不会
12、被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 6 可应用于高温试验环境： 1000 C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的 TEM 成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗 ， 无有机物残留，改善成像质量 ； 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构 适合于 SEM 成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒： 100 级的超净间内包装 框架厚度： 200 and 50m ： 200m 是标准的 TEM 支撑架； 50m 是特殊的 TEM 支撑架 标准框架直径为 3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性 氮
13、化 硅 薄膜窗 口 规格 单窗口系列 窗口类型 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 框架 厚度 20nm 500x500m 3mm 100m 20/50nm 500x500m 3mm 200m 50nm 1000x1000m 3mm 200m 50nm 100x100m 3mm 200m 15nm 0.25x0.25mm 3mm 200m 50nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm 3mm 200m 200nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm 3mm 200m 15/50/200nm 0.
14、25x0.25mm 3mm 50m 50nm /200nm 0.5x1.5mm 3mm 50m 7 多窗口 系列 窗口类型 薄膜厚度 窗口 尺寸 框架尺寸 框架厚度 50nm 2x1 阵列， 100X1500m 3mm 200m 15nm /50nm /200nm 2x1 阵列， 100X1500m 3mm 200m 50nm 2x1 阵列， 100X1500m 3mm 50m 10nm /20nm 3x3 阵列， 8 个窗口 100X100m， 1 个窗口 100X350m 3mm 100m 10nm 3x3 阵列， 8 个窗口 250X250m， 1 个窗口 250X500m 3mm 10
15、0m 20nm 3x3 阵列， 8 个窗口 100X100m， 1 个窗口 100X350m 3mm 200m 50nm 3x3 阵列， 8 个窗口 100X100m， 1 个窗口 100X350m 3mm 100m 15nm /50nm /200nm 3x3 阵列，窗口 100X100m， 3mm 200m 50nm 3x3 阵列，窗口 100X100m， 3mm 50m 8nm 单窗口， 窗口大小： 0.6 0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜 200nm；网格上的氮化硅薄膜 8nm；网格大小 ： 75m ， 网格 间距： 25m； 3mm 200m 应用简介： 1、适合 TEM、 SEM、 AFM、 XPS、 EDX 等的对同一区域的交叉配对表征。 2、大窗口尺寸，适合 TEM 大角度转动观察。 3、无碳、无杂质的清洁 TEM 观测平台。 4、背景氮化硅无定形、无特征。 5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（
