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1、由于ITO膜高电子浓度和高禁带宽度，使其不仅具有高的电导率，而且具有高的可见光透过率。ITO膜的膜层非常坚硬稳定，唯独耐酸性差，这恰给加工微细图形带来方便。ITO膜由于具有特殊的光电性质而广泛的应用于光电器件中，特别是对于用作透明电极的ITO膜，其需要量迅速增加。随着平板显示器的开发和实用化进展，ITO膜将广泛用于平板显示装置，因此对ITO膜的研制具有广泛的市场前景。制备ITO膜常用的方法有磁控溅射、化学气相沉积、真空反应蒸发、溶胶-凝胶法、微波等离子体反应沉积、脉冲激光沉积和喷射分解等，其中磁控溅射沉积具有成膜率高、均匀性好等特点而得到广泛的研究和应用。我司生产的ITO O O O膜镀膜生产
2、线设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以国际先进的控制系统，镀制SO2/ITO膜层，生产过程全部自动，连续进行。ITO膜镀膜生产线技术特点1)真空室体材料采用SUS304，真空室内壁进行抛光处理，外壁采用抛光后喷珠处理。2)真空室之间采用独立门阀插板阀隔开，可以实现有效隔断，稳定工艺气体。目前我们公司采用插板阀设计，它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好，更耐用。3)传动采用磁导向，保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动，运行速度可调节。4)电气控制系统：触摸屏与PLC自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制技术参数1)极限真空压力：610E-4Pa2)平均生产周期：根据产品确定3)基片架尺寸：可以根据要求定做4)膜层均匀性:3先进的移动磁场技术大大提高了靶材利用率分段式加热设计，有利于工艺优化。产品广泛地应用于液晶显示器(LCD)、触摸屏、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域
