《TFT常用英文词汇》由会员分享，可在线阅读，更多相关《TFT常用英文词汇（12页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、英文专有名词介绍1. General (一般专有名词)英 文 专 有 名 词 中 文 说 明（数字表示有详注）LCD (Liquid Crystal Display) 液晶显示器*注.Glass, substrate or glass substrate 玻璃基版*注.TFT(Thin Film Transistor) 薄膜晶体管*注.Panel 面板Array 阵列,指在玻璃基板上做TFT的制程LCD-ArrayCell 液晶填充制程.分为LCD-FEOL（ Cell前段）LCD-BEOL（Cell后段含Cell Tester）Module 模块,指后段组装制程LCMMonitor 监视器P
2、ixel XGA: eXtended Graphics Array=1024*768PixelsSXGA: Super XGA=1280*1024Pixels像素* 注.PS. 像素越多表示分辨率越高Computer 计算机Notebook 笔记型计算机（简称为NB）RGB (Red, Green, Blue) 指红绿蓝三原色PM (Preventive Maintenance) 预防保养Quality 品质Standard 标准 (指作业标准或质量指针)Material 材料Yield 良率CIM (Computer Integration Manufacturing) 计算机整合制造（指以
3、计算机系统整合制造流程）FA (Factory Automation) 工厂自动化Exit 出口Precaution 预防措施Warning 警告Emergency 紧急Alarm 警报2. Clean Room (洁净室专有名词)英 文 专 有 名 词 中 文 说 明Clean room 洁净室*注.Particle 微粒子*注.HEPA (High Efficient Particulate Air) filter 高效能粒子空气过滤网Contamination 污染Temperature (TEMP) 温度Humidity 湿度Pressure 压力UPW (Ultra-Pure Wat
4、er) 超纯水DIW (De-Ionized Water) 去离子水IPA (Isopropyl Alcohol) 异丙醇Sticky mat 脚踏黏垫* 注 .Cleanliness 洁净度ESD (Electro-static Discharge) 静电破坏*注.Laminar flow 层流（流体力学名词）Turbulent flow 紊流（流体力学名词）Alcohol 酒精Acetone 丙酮Particle 微粒子Dust 灰尘Gowning room 换衣间*注.Raised floor (grating floor) 高架地板*注.Air shower 气浴室*注.Prohibi
5、t 禁止Clean suit (bunny suit, dust-free garment) 无尘衣*注.Glove 手套Hairnet 网帽Hood 头罩Mask 口罩Clean shoes (dust-free shoes, boots) 无尘鞋3. Factory Automation (工厂自动化专有名词)英 文 专 有 名 词 中 文 说 明Vehicle 运输工具或载具AGV (Automatic Guided Vehicle) 自动搬运车MGV (Manual Guided Vehicle) 人力搬运车Clean lifter 无尘电梯LIM (Linear Induction
6、Motor) Carrier 线性感应马达传送载具OHS (Overhead Shuttle) 天车或称轨道车Stocker (clean depot) 存放Cassette(卡夹)的暂存区Battery 电池Bay 作业区Bumper 保险杠Charger 充电器Controller 控制器Conveyor 输送带Crane 吊车（在Stocker内）FFU (Fan Filter Unit) 风扇过滤器Host 主机I/O (Input / Output) 输入/输出Inter-bay 作业区和作业区之间Intra-bay 作业区之内IR (Infra-Red) 红外线IRIF(Infra
7、-Red InterFace) 红外线界面Load 进料Unload 卸货Magnetic tape AGV路径所使用的磁条POSEIDON 海神生产操作系统Retrieve 【计算机】检索,撷取(数据 )RTM (Rotary Transfer Machine) 旋转传送机SCARA arm AGV之传送手臂Reset 重新设定Transportation 传输*注.OPI(Operation POSEIDON Instruction)海神生产操作系统专有名词介绍英 文 专 有 名 词 中 文 说 明Recipe 程序,制程参数Stock out 将Cassette取出Request 请求,
8、要求Transfer 传送,运送Instruction 命令,指令Select 选择Cancel 取消Operation 作业,操作Support 支援Process 制程Start 开始Comp. Completion的缩写,意指完成Batch 批量Lot 指生产在线的在制品或产品,简称货ID (Identity) 识别码(如Lot ID or Chip ID)Sheet 片(Array区玻璃基版计数单位)*注.Chip 片(Cell区玻璃计数单位)*注.Inspection 检验Defect 缺陷Production 生产Hold 留置在当站制程（如有质量问题时）Release 将hold
9、住的货放行,释出Equipment 设备（简称为EQP）Tool 工具,机台WIP (Work In Process) 在制品（制程在制品）Maintenance 维修保养Cassette 装在制品的架子*注.Empty 空的Reserve 预约Report 报告Scrap 报废Rework 返工Log on 登帐Log off 除帐Note 批注5. Array 段制程专有名词介绍英 文 专 有 名 词 中 文 说 明Material 材料Metal 金属Target 靶MoW (Moly-tungsten) 钨化钼Mo (Molybdenum) 钼ITO (Indium Tin Oxide
10、) 铟锡氧化物Al (Aluminum) 铝AlNd(Aluminum and Neodymium Alloy) 铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一Reticle or Mask 光罩Detergent (LH-300) 界面活性剂的一种（清洗机用来清洗玻璃表面用LH-300为供货商型号）LAL-50 含NH4F与HF，为清洗机用来清洗玻璃表面氧化层的化学溶液O3（Ozone） 臭氧，主要为各制程用来清除有机物的污染或残留NBA (1-butyl Acetate) 乙酸正丁酯，主要用来清洗旋转涂布光阻时残留在玻璃边缘的光阻液Resist or Photo Resist 光阻（简称PR）
11、HMDS Hexamethyldisilazane的简写，为一种化学中间体，用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力AC-1 带静电防止剂（ESD-Preventer ） ，在上光阻机内使用，防止静电产生，破坏玻璃组件TMAH Tetra-Methyl Ammonium Hydroxide的简写，为厂内所使用之显影液Oxalic Acid (H2C2O4) 草酸，湿蚀刻机中用来蚀刻5PEP 中的a-ITO膜DHF 成份为49%氢氟酸HF，主要为湿蚀刻机中用来蚀刻7PEP中的SiNx 膜ITO-Etchant 成份中含盐酸HCl及硝酸HNO 3，主要用来蚀刻7PEP中的Poly-ITOBHF 成份中
12、含氟化铵NH4F及HF ，主要用来蚀刻7PEP中的SiONAl-Etchant 成份中含乙酸CH 3COOH、磷酸H 3PO4及硝酸HNO3，主要用来蚀刻Mo/Al/Mo的沈积层IPA异丙醇 Isopropyl Alcohol的简称，主要用来作为设备擦拭液，在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上的有机残留物（如光阻或去光阻液）N-300 去光阻液，N-300为厂商型号，成份为单乙醇铵与单丁醚的混合物(Process) Gas (制程 )气体 目前大多数种类的气体，多为提供CVD，Sputter及干蚀刻等离子源之用SiH4 硅甲烷制程气体（泄漏有爆炸危险）NH3 氨制程气体N2O 笑气制程气体PH3
13、 磷化氢制程气体N2 氮气制程气体，常用为破真空Vent或吹干的媒介H2 氢气制程气体NF3 氟化氮制程气体，常用为清除CVD反应室壁沈积硅Si媒介Kr 氪气制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶 Ar 氩气制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶或常用为加热设备的热传媒介O2 常用来作等离子的基本组成，BCl3 氯化硼制程气体，在干蚀刻中用以作为蚀刻AlNd的等离子源SF6 氟化硫制程气体，常用的主要干蚀刻等离子源以为提供蚀刻主原料氟的来源He 氦气制程气体，混合在其它制程气体中，共同形成等离子源，使等离子组成分布均匀Cl2 氯气制程气体HCl 氯化氢制程气体，蚀刻n+时的等离子源之一CF4 四氟化碳
14、制程气体，常用的主要干蚀刻等离子源以为提供蚀刻主原料氟的来源Equipment 机台(仪器 )Vender 厂商Cleaner 清洗机*注.CVD (Chemical Vapor Deposition) 化学气相沉积*注.Sputter 溅镀机*注.Coater 光阻涂布机*注.Pre-bake 预烘* 注.Stepper 步进式曝光机*注.Exposure 曝光Backside-Exposure 背面曝光Titler刻号机，厂内部分的显影机具有此功能，将玻璃基板的Chip ID, Glass ID及Veri-Code曝出，以为人员及机台办认之用Edge Remover 简称ER，指在旋转涂布
15、光阻后，用NBA洗净残留在玻璃边缘的光阻Edge Exposure边缘曝光，指在显影前将玻璃基板边缘光阻较厚的部分再曝光，以防曝光量不足，造成光阻在显影后残留Developer 显影机*注.Hard bake 硬烤* 注.Etcher 蚀刻机Wet Etch 湿蚀刻*注.Dry Etch 干蚀刻*注.Plasma 等离子体*注.RIE (Reactive ion etching) 反应性离子蚀刻*注.PE (Plasma Etch) 等离子蚀刻机*注ICP (Inductive Coupled Plasma) 电感偶式等离子蚀刻机*注Stripper 剥离液* 注O3 Asher 为去光阻机的
16、模块之一，用来去除制程的有机残留* 注Tester 测试机Anneal 退火*注. AMSR (Sheet Resistance) 沉积膜的电阻值测试设备ATOS (Open/Short Tester) 断短路测试机ATTG (TEG Tester or TFT Device Measurement) TFT的电性测试设备ATAR (Array Tester) Array Defect的测试设备ALSR (Laser Repair) 激光修补机ANNI (Anneal Oven) 回火设备AMGI (Particle Counter) 微粒子侦测，侦测玻璃表面微粒子数目及大小分布AMOR; AMKL (Pattern Inspection) 图案或线路检验设备; 主要在检视沈积膜后、曝光后、蚀刻后及去光阻后表面的线路图案检查(前者简称Orbo,
