电子信息物理学4-2008.10.

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1、第四章 半导体器件原理,固态电子迁移特性的主要应用体现在固态器件,主要是半导体器件和集成电路方面。半导体器件和集成电路是电子工业、自动控制、光电信息和计算技术的核心。尽管半导体器件和集成电路种类繁多,绝大多数据件均包含pn结,至少以pn结为基础,如整流器、放大器、开关电路和许多其他电子电路的功能。本章将重点讨论pn结,在概括pn结的整流、电容和击穿三大特性的基础上,讨论一些常用的半导体二极管和三极管的基本原理和特性,最后介绍金属和半导体接触的特性,4.1 pn结特性概述,若在半导体中存在p型区和n型区,其交界处附近形成pn结。实际制备pn结是在一块p型(或n型)半导体单晶上,用适当工艺方法,如

2、合金法、扩散法、外延法,或离子注入法等,掺入n型(或p型)杂质,在交界处形成Pn结。不同工艺可形成不同的杂质分布,因而有突变结和单边突变结、缓变结、线性缓变结等。本节将讨论pn结的三大特性整流特性、电容特性和击穿特性。,4.1.1 平衡 pn结(1)pn结和平衡 pn结的概念,pn结:由单晶半导体上相邻两个区(p型区和 n型区)的交界面附近的过渡区构成n区掺施主杂质,浓度ND ,提供导带电子p区掺受主杂质,浓度NA ,提供价带空穴空穴从p区向n区扩散电子从n区向p区扩散,同质结:以两种相同的半导体单晶体材料为基础异质结:以两种不同的半导体单晶体材料为基础pn结: 在导电类型相反的半导体单晶体材

3、料交界处形成高低结:在导电类型相同的半导体单晶体材料交界处形成n区:(导带)电子多, (价带)空穴少 载流子带负电 施主离子带正电p区: (价带)空穴多,(导带)电子少 载流子带正电 施主离子带负电,电中性,电中性,电子多, 空穴少 空穴多,电子少,载流子浓度差,动态平衡,阻止进一步扩散,形成并增强相反方向的漂移运动,电子从n区向p区扩散,空穴从p区向n区扩散,结n区侧聚集正离子,结p区侧聚集负离子,正空间电荷区,负空间电荷区,平衡PN结,扩散与漂移的动态平衡,空间电荷区导致内建电场,热平衡,无外场不产生净电流,空间电荷区的正负电荷分离,内建电场,“耗尽”了可动的载流子,空间电荷区也称耗尽区,

4、同质 pn结能带,本征半导体,n型半导体,p型半导体,电子从高EF 区流向低EF 区(从n区向p区运动)空穴从低EF 区流向高EF 区(从p区向n区运动),pn结,横坐标为空间位置,纵坐标为电子能量,(2)内建势垒,如果pn结上不加电压,处于热平衡态,则p区和n区共同构成的整个系统内费米能级恒定,能带因上为水平线,见书p72图413所示。导带和价带因此在穿过空间电荷区时必然弯曲,这样才能保持Ec和Ev对EF改变后的相对位置。现在n区的导带电子要想进入p区导带遇到了势垒,这一势垒称为内建电位VD。从静电学看,n区电位比P区高出VD,有时称为接触电位差。由于能带表示的是电子能量,因此P区能带相对n

5、区能带整个向上移动eVD。若设p区和n区原先费米能级为EFP和EFN,平衡态pn结的统一费米能级EF,则图上可知,n区导带电子浓度与p区价带空穴浓度:,本征半导体,同理,n区导带电子电位量:,p区价带空穴电位量:,接触电位差:,室温热电压为VT 0.026V,(3)内电场,(3)内电场,正负空间电荷的分离,在空间电荷区(因“耗尽”可动载流子而得名耗尽区)内产生了电场。图(a)为突变结内体电荷密度的分布。并认为n区内体电荷密度xxn处终止,p区在x一xp处终止。,由图(a)有:,而空间电荷区的各物理量用泊松(Poisson)方程,(4.1.4),积分(4.1.4)并利用边界条件可得,一般PN结在

6、不存在表面电荷的条件下,电场在冶金结x0连续,由上面两个式子有:,对电场表达式,积分可得接触电位差,见书p74的式(4.1.11)和(4.1.13)。并由此可以得对应点的电位差,(4)空间电荷层宽度,实际中,用扩散法等制得的pn结往往与此种典型情况不同。用杂质分布函数代人伯松方程可求解实际pn结的电场电位和结宽。现在通常用计算机进行数值计算并作出相应曲线。,4.1.2 整流特性,(1)边界条件: pn结的电流一电压特性具有单向导电的整流效应,为便于分析,先讨论边界条件和少子分布。pn结电流一电压特性将在以下三个假定基础上推导出来:,a使用突变耗尽层近似,空间电荷区有阶跃边界,耗尽区外的半导体是

7、电中性的。,b对载流子统计分布近似用玻尔兹曼分布。 c使用小注入载流子概念,认为pn结内部电流是恒定的,无论电子电流还是空穴电流都是连续的,它们在耗尽区内也是恒定的。,n区导带电子浓度较大,但内建势垒阻止大电流密度流入p区,达到平衡:,n区多子(电子)浓度(完全电离):,p区多子(空穴)浓度(完全电离):,p区少子(电子)浓度:,此式为一个p区少子(电子)浓度与n区多子(电子)浓度的关系表达式,1.正向电压作用(pn结少子正向注入),正向电压V=Va0,势垒区内,载流子浓度小、电阻大,势垒区外,载流子浓度大、电阻小,电压基本降落在势垒区,势垒区xD变窄、e( VD Va)变低,漂移运动,扩散运

8、动漂移运动,破坏无偏压时 的动态平衡,净扩散流,少子正向注入,xp,xn,电子,空穴,电子从n区流向p区,xp处(少子)电子积累,电子向p区内部扩散,空穴从p区流向n区,xn处(少子)空穴积累,空穴向n区内部扩散,正向电压V=Va0,P区空穴(多子)向pn结漂移,n区电子(多子)向pn结漂移,复合,复合,电子,电子扩散区,空穴,空穴扩散区,电子扩散区,p区(少子)电子流转变为(多子)空穴电流,空穴扩散区,n区(少子)空穴流转变为(多子)电子电流,P区,n区,势垒较窄较低,势垒区载流子浓度变化很小,通过pn结任一截面的总电流密度相等J=J0,复合电流连续性原理,总电流密度:,总电流密度:,求解连

9、续性方程,P区结边缘少子(电子)电流密度:,n区结边缘少子(空穴)电流密度:,理想二极管方程:,反向饱和电流密度:,实际的pn结,正偏Va时,有一定的正向导通电压,禁带宽度Eg,正向导通电压,室温T=300K,,实际的pn结,还需要修正,例如p+n,1m2,2. 反向电压作用(pn结少子反向抽取),反向电压VVR0,势垒区变宽xd变高e( VD VR ),漂移运动,扩散运动漂移运动,净漂移电流,反向电压VVR0,V,势垒宽度,空间电荷,(不能移动的正负杂质离子部分被载流子中和),载流子“存入”势垒区,V,势垒宽度,空间电荷,(增加不能移动的正负杂质离子),载流子从势垒区“取出”,单位面积的势垒

10、电容:,势垒宽度:,分别为相对介电常数和真空介电常数,正向:,V,反向:,V,2. 扩散电容,正偏电压,少子正向注入,扩散区有少子与等量的多子积累,单位面积的扩散电容:,V,对信号处理的影响势垒电容与扩散电容之和为PN结的结电容Cj反偏的pn结以势垒电容起主要作用,而正偏pn结,扩散电容和势垒电容都起作用.实际工作中,为简单起见,常以零偏时的势垒电容的4倍作为正偏的pn结的总电容。 低 频:结电容Cj作用忽略不计高 频:信号频率较高时必须考虑结电容的作用,4.1.4 击穿特性,反偏电压V增加到VB (击穿电压),反向电流激烈增大,pn结击穿;击穿分类:隧道击穿(齐纳击穿)、雪崩击穿、热电击穿,

11、1.隧道击穿(在掺杂浓度很高的pn结中的击穿),高反偏电压,强电场:,势垒变薄,隧道效应:p侧价带内电子横穿禁带,直接进入n侧导带内,形成反向电流,2. 雪崩击穿,高反偏电压,少子扩散到势垒区,少子在势垒区中高速漂移,少子从电场中获得足够的能量,与耗尽区内晶格原子的电子发生碰撞,产生许多电子空穴对(二次电子空穴对),二次电子空穴对继续漂移、碰撞,新的二次电子空穴对,倍增效应,pn结击穿,3. 热电击穿,高反偏电压VR,损耗功率,热能,结温,平衡少子浓度,JS,热电击穿,4.2 pn结二极管,常见的pn结二极管,变容二极管开关二极管雪崩二极管隧道二极管,二极管结电容特性:扩散电容(正偏:损耗电导

12、)势垒电容(常用反偏、零偏:变容二极管),4.2.1变容二极管,变容二极管的表达式一般为:,m0,为均匀掺杂结;m1,为线性缓变结;m2、 3为重掺杂n+ 基片上外延低杂质浓度n层;m是负值,为超突变结,反偏电压VVR,变容二极管的电抗以可控方式随偏压变化,如果变容二极管并联电感,则LC电路的谐振频率为:,变容二极管:,m3/2,s=2,超突变结与反偏电压正反比,常用Si晶体作为变容二极管材料外延生长或离子注入制作超突变结,4.2.2 开关二极管,pn结电子开关: pn结导通(on)、不导通(off),p+n(p区重掺杂)二极管,正偏压,正向电流If,pn结n区一侧边界( xn )少子空穴积累

13、,pn结突然从正偏变到 负偏压(t0),远远高于平衡浓度的少子(空穴)从n区进入p区,反向电流较大( IR ),并保持一段时间tS (存储时间),积累的空穴复合消耗掉后,反向饱和电流( IS ),下降时间为tf,开关二极管的反向恢复时间为:,4.2.3 隧道二极管,p+n+ (重掺杂)二极管, EF进入允带,势垒很薄,隧道效应,重掺杂:简并半导体重掺杂:使耗尽区宽度变得很窄,使隧道距离很小(约510nm),(a),(c),(b),(d),隧道效应:n区导带电子进入p区价带,产生正向隧道电流,隧道效应:p区价带电子进入n区导带,产生反向隧道电流,隧道效应:n区导带电子进入p区价带,产生正向隧道电流。但价带顶介于n区导带底和EF之间,只有热电流,没有隧道效应产生的隧道电流,隧道二极管以多子隧道效应工作的,多子浓度的起伏和随时间的变化均较小,又由于隧道穿透是一个量子效应,不受电子渡越时间限制,因此器件具有低噪声、高频,工作温度范围大的特点,在微波放大、本地振荡、锁频技术、高速开关等电路中有重要应用。,

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