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1、MEMS工艺 半导体制造技术 梁庭 3920330(o) L 主要内容 掺杂技术、退火技术 表面薄膜制造技术 光刻技术 金属化技术 刻蚀技术 净化与清洗 接触与互连 键合、装配和封装 集成电路制造过程 一、 掺杂与退火 掺杂定义：就是用人为的方法，将所需的杂 质（如磷、硼等），以一定的方式掺入到半导 体基片规定的区域内，并达到规定的数量和符 合要求的分布，以达到改变材料电学性质、制 作PN结、集成电路的电阻器、互联线的目的。 掺杂的主要形式：注入和扩散 退火：也叫热处理，集成电路工艺中所有的在氮气等不 活泼气氛中进行的热处理过程都可以称为退火。 目的：激活杂质 消除损伤 结构释放后消除残余应力
2、 退火方式： 炉退火 快速退火 1.扩散工艺 定义：在一定温度下杂质原子具有一定 能量，能够克服阻力进入半导体并在其 中做缓慢的迁移运动。 形式：替代式扩散和间隙式扩散 恒定表面浓度扩散和再分布扩散 替位式扩散：杂质离子占据硅原子的位： 、族元素 一般要在很高的温度(9501280)下进行 磷、硼、砷等在二氧化硅层中的扩散系数均远小于在硅中的扩散系数， 可以利用氧化层作为杂质扩散的掩蔽层 间隙式扩散：杂质离子位于晶格间隙： Na、K、Fe、Cu、Au 等元素 扩散系数要比替位式扩散大67个数量级 扩散工艺主要参数扩散工艺主要参数 结深：当用与衬底导电类型相反的杂质进行扩散时，在硅片内 扩散杂质
3、浓度与衬底原有杂质浓度相等的地方就形成了pn结， 结距扩散表面的距离叫结深。 薄层电阻Rs（方块电阻） 表面浓度：扩散层表面的杂质浓度。 扩散的适用数学模型是Fick定律 式中： F 为掺入量 D 为扩散率 N 每单位基底体积中掺入浓度 扩散方式 液态源扩散：利用保护气体携带杂质蒸汽进入反应室，在高温下分 解并与硅表面发生反应，产生杂质原子，杂质原子向硅内部扩散。 固态源扩散：固态源在高温下汽化、活化后与硅表面反应，杂质分 子进入硅表面并向内部扩散。 液态源扩散 扩散源：硼酸三甲酯，硼酸三丙酯等 扩散原理：硼酸三甲酯500C分解后与硅反应，在硅片表面形成硼 硅玻璃，硼原子继续向内部扩散，形成扩
4、散层。 硼B 扩散系统：N2气源、纯化、扩散源、扩 散炉 扩散工艺：预沉积，去BSG，再分布 工艺条件对扩散结果的影响 气体流量、杂质源、温度 液态源扩散 扩散源：POCl3，PCl3，PBr3等 扩散原理：三氯氧磷600C分解后与硅反应，在硅片表面形成磷硅玻 璃，磷原子继续向内部扩散，形成扩散层。 扩散系统：O2和N2气源、纯化、扩散源、源冷却系统、扩散炉 扩散工艺：预沉积，去PSG，再分布 磷P 固态源扩散 箱法B扩散 B2O3或BN源，石英密封箱 片状BN扩散 氧气活化，氮气保护，石英管和石英 舟，预沉积和再分布 片状P扩散 扩散源为偏磷酸铝和焦磷酸硅 固-固扩散（乳胶源扩散） 扩散炉
5、质量分析 1硅片表面不良：表面合金点；表面黑点或白雾；表面凸 起物；表面氧化层颜色不一致；硅片表面滑移线或硅片弯 曲；硅片表面划伤，边缘缺损，或硅片开裂等 2漏电电流大：表面沾污引起的表面漏电；氧化层的缺陷 破坏了氧化层在杂质扩散时的掩蔽作用和氧化层在电路中 的绝缘作用而导电；硅片的缺陷引起杂质扩散时产生管道 击穿。 3薄层电阻偏差 4器件特性异常：击穿电压异常；hFE异常；稳压二极管 稳压值异常。 。 工艺控制 污染控制：颗粒、有机物、薄膜、金属离子 污染来源：操作者,清洗过程,高温处理,工具 参量控制：温度，时间，气体流量(影响最大?) 1.温度控制：源温、硅片温度、升温降温、测温 2.时
6、间： 进舟出舟自动化, 试片 3.气体流量：流量稳定，可重复性，假片 2.离子注入 定义：将掺杂剂通过离子注入机的离化、加 速和质量分析，成为一束由所需杂质离子组 成的高能离子流而投射入晶片（俗称靶）内 部，并通过逐点扫描完成整块晶片的注入 掺杂深度由注入杂质离子的能量和质量决定 掺杂浓度由注入杂质离子的数目(剂量)决定 掺杂的均匀性好 温度低：小于600 可以精确控制杂质分布 可以注入各种各样的元素 横向扩展比扩散要小得多 可以对化合物半导体进行掺杂 离子注入的优点： 离子注入 特点：横向效应小，但结深浅；杂质量可控；晶格缺陷多 基本原理：杂质原子经高能粒子轰击离子化后经电场加速轰击硅片表
7、面，形成注入层 装置：离子源、聚焦、分析器、加速管、扫描、偏转、靶室、真空系 统 离子注入系统的原理示意图 离子注入的步骤 注入的离子在基底中的分布 根据Ruska(1987)，注入离子的浓度N（X）可遵循下面方程式 RP为注入的范围，um RP为分散度或者“离散度” Q是离子束的剂量（原子数/cm2 ） 硅中常用掺杂剂的离子注入 离子范围 Rp，nm 分散 Rp，nm 在30keV 能级 硼（B）106.539.0 磷(P)42.019.5 砷(As)23.39.0 在100 keV 能级 硼（B）3070690 磷(P)1350535 砷(As)678261 3、退火 定义：一般是利用各种
8、能量形式所产生的热效定义：一般是利用各种能量形式所产生的热效 应，来消除半导体片在其加工过程中所引起的应，来消除半导体片在其加工过程中所引起的 各种晶格缺陷和内应力，或根据需要使表面材各种晶格缺陷和内应力，或根据需要使表面材 料产生相变和改变表面形态。料产生相变和改变表面形态。 定义：将注入离子的硅片在一定温度和真空或 氮、氩等高纯气体的保护下，经过适当时间的 热处理，部分或全部消除硅片中的损伤，少数 载流子的寿命及迁移率也会不同程度的得到恢 复，掺入的杂质也将的到一定比例的电激活， 这样的热处理过程称为退火。 分类 普通热退火 硼的退火特性 磷的退火特性 扩散效应 快速退火 方式： 热退火：
9、管式炉，保护气氛，900C， 2030min，用于再扩散 激光退火：自淬火，局部加热，制备欧 姆接触 电子退火 普通热退火 退火时间通常为15-30min，使用通常的扩散炉，在真空或氮、氩等 气体的保护下对衬底作退火处理。 缺点：清除缺陷不完全，注入杂质激活不高，退火温度高、时间长， 导致杂质再分布。 1 区单调上升： 点缺陷、陷井缺陷消除、 自由载流子增加 2 区出现反退火性： 代位硼减少，淀积在位 错上 3 区单调上升: 剂量越大，所需退火温 度越高。 杂质浓度达1015以上时 出现无定形硅退火温度 达到600800 二、表面薄膜技术 在微电子技术以及在微结构、微光学和微化学传感器中，需要
10、在由 不同材料构成的大面积的薄膜层中构造功能完善的结构。 功能：1、完成所确定的功能 2、作为辅助层 方式：氧化(Oxidation) 化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition) 外延(Epitaxy) 1、氧化 定义：硅与氧化剂反应生成二氧化硅。 原理：氧化剂被表面吸附，向膜中扩散，在二氧化硅和硅的接触界面 反应生成新的二氧化硅，接触界面向深层逐步推进。 种类：热氧化、热分解淀积、外延淀积。 二氧化硅膜的五种用途： 杂质扩散掩蔽膜a 器件表面保护或钝化膜b 电路隔离介质或绝缘介质c 电容介质材料d MOS管的绝缘栅材料e 二氧化硅膜的性质（1） 1.二氧化硅膜的化学稳
11、定性极高，不溶于水，除氢 氟酸外，和别的酸不起作用。 利用这一性质作为掩蔽膜，光刻出IC 制造中的各 种窗口。 2. 二氧化硅膜的掩蔽性质 B、P、As等杂质在SiO2的扩散系数远小于在Si中的 扩散系数。Dsi Dsio2 SiO2 膜要有足够的厚度。一定的杂质扩散时间、 扩散温度下，有一最小厚度 二氧化硅膜的性质（2） 3. 二氧化硅膜的绝缘性质 热击穿、电击穿、混合击穿： a.最小击穿电场（非本征）针孔、裂缝、杂质。 b.最大击穿电场（本征）厚度、导热、界面态电荷等； 氧化层越薄、氧化温度越高， 击穿电场越低。 介电常数34（3.9） 二氧化硅膜的性质（3） 4. Si-SiO2的界面特
12、性及解决 （1）可动离子电荷：如Na+离子-Si表面负电荷（N型沟道） 清洗、掺氯氧化工艺PSGSiO2 （2）固定氧化物电荷-过剩的Si+ （3）界面陷阱电荷(快态界面)分立、连续能级、电子状态 （4）氧化物陷阱电荷： Si SiO2界面附近（1091013/cm2） -300退火 （5）氧化层上的离子沾污 常压氧化技术 种类：水汽氧化、干氧氧化、湿氧氧化 干氧：二氧化硅膜干燥致密，掩蔽能力强，与 光刻胶粘附性好，但氧化速度慢。 湿氧：速度快，但二氧化硅疏松，与光刻胶粘 附性不好，易脱落。 实际工作中，往往用干氧、湿氧、干氧的方法， 速度快粘附性好。 水汽氧化速度更快，但是质量差，一般不用。
13、 常压氧化技术常压氧化技术 设备：设备： 氧化源、加热器、氧化炉、热电偶氧化源、加热器、氧化炉、热电偶 氧化效果分析氧化效果分析 厚度检测：比色法、干涉法厚度检测：比色法、干涉法 针孔检测：腐蚀法、电化学法针孔检测：腐蚀法、电化学法 C-V性能检测性能检测 其他氧化技术其他氧化技术 高压水汽氧化：高压水汽氧化：VLSI应用应用 等离子体氧化等离子体氧化 热分解淀积二氧化硅热分解淀积二氧化硅 烷氧基硅烷分解淀积烷氧基硅烷分解淀积 硅烷在氧气中分解硅烷在氧气中分解 在硅基上产生二氧化硅最经济的方法就是热氧化。此工艺中的 化学反应如下： 二氧化硅的热氧化设备 a)氧化初始阶段b)氧化层的形成c）氧化
14、层的生长 由颜色来确定氧化层厚度 2 2、化学气相淀积技术、化学气相淀积技术 CVD：Chemical Vapor Deposition 定义：使用加热、等离子体和紫外线等各种能源，定义：使用加热、等离子体和紫外线等各种能源， 使气态物质经化学反应（热解或化学合成），形使气态物质经化学反应（热解或化学合成），形 成固态物质淀积在衬底上。相对的蒸发和溅射为成固态物质淀积在衬底上。相对的蒸发和溅射为 物理气相淀积。物理气相淀积。 特点：温度低、均匀性好、通用性好、台阶覆盖特点：温度低、均匀性好、通用性好、台阶覆盖 性能好，适合大批量生产。性能好，适合大批量生产。 化学气相淀积技术（化学气相淀积技术
15、（CVDCVD） 分类分类： 按照淀积温度：按照淀积温度： 低温（低温（200500） 中温（中温（5001000） 高温（高温（10001200） 按照反应压力：按照反应压力： 常压、低压常压、低压 按反应壁温度：按反应壁温度： 热壁、冷壁热壁、冷壁 按反应激化方式：热激活按反应激化方式：热激活 等离子体激活等离子体激活 光激活光激活 常用CVD 常压冷壁：（APCVD） 用于生长掺杂与不掺杂的二氧化硅 低压热壁：（LPCVD） 用于生长多晶硅与氮化硅 等离子体激活（PECVD） 可以降低反应所需温度，常用于生长氮化 硅，作最后钝化层使用 CVD中的化学反应 常用三种薄膜的化学反应： 二氧化
16、硅 氮化硅 多晶硅 CVD工艺特点： （1）CVD成膜温度远低于体材料的熔点或软点。 因此减轻了衬底片的热形变，减少了玷污，抑制 了缺陷生成; 设备简单，重复性好； （2）薄膜的成分精确可控、配比范围大； （3）淀积速率一般高于PVD（物理气相淀积，如 蒸发、溅射等）；厚度范围广，由几百埃至数毫 米。且能大量生产； （4）淀积膜结构完整、致密，与衬底粘附性好。 化学气相淀积化学气相淀积 LPCVD：成本低，均匀性好，台阶覆盖好，：成本低，均匀性好，台阶覆盖好， 片子干净片子干净 PECVD：温度低，易于腐蚀，针孔密度小：温度低，易于腐蚀，针孔密度小 系统：系统： 气体输入：正硅酸乙酯，硅烷和氨气，硅烷气体输入：正硅酸乙酯，硅烷和氨气，硅烷 激活能源：电阻加热（热壁），激活能源：电
