晶体薄膜衍衬成像分析ppt课件

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1、1,第十一章 晶体薄膜衍衬成像分析,2,11-1 概 述(2),薄晶电子显微分析: 60年代以来:因高性能电子显微镜、薄晶样品制备方法及电子衍射理论的发展,晶体薄膜电子显微分析已成为材料微观组织、结构不可缺少的基本手段。 90年代透射电镜,用于观察薄晶样,其晶格分辨率已达 0.1nm ,点分辨率为0.14nm。 薄晶电子显微分析: 能直接清晰观察内部精细结构,发挥电镜高分辨率的特长; 还可结合电子衍射,获得晶体结构(点阵类型、位向关系、晶体缺陷组态和其它亚结构等)有关信息。,3,11-1 概 述(3),若配备加热、冷却、拉伸等特殊样品台,还能在高分辨下进行材料薄膜的原位动态分析,用于研究材料相

2、变和形变机理,揭示其微观组织、结构和性能之间的内在关系。 迄今为止,只有利用薄膜透射技术,方能在同一台仪器上同时对材料的微观组织和结构进行同位分析。,4,第 三 节 衍 衬 成 像 原 理,5,质厚衬度,非晶态样品:依据“质量厚度衬度”的原理成像。,利用非晶样品不同区域厚度 t 或密度或成分 Z 差别,使进入物镜光阑并聚焦于像平面的散射电子强度不同,而产生图像反差。,6,衍射衬度成像原理(1),晶体薄膜样品: 厚度 t 均匀,平均原子序数 Z 也无差别,“质厚衬度”不能获得满意的图像反差。 “衍射衬度成像”原理 : 取决于:入射束与试样内各晶面相对位向不同所导致的衍射强度差异。 当电子束穿过金

3、属薄膜时, 严格满足布拉格条件的晶面,产生强衍射束; 不严格满足布拉格条件的晶面,产生弱衍射束; 不满足布拉格条件的晶面,不产生衍射束。,7,入射束强度为 I0,衍射束强度为Ihkl,若吸收不计,则透射束强度为 ( I0 - Ihkl )。,若只让透射束通过物镜光阑成像,就会因试样内各晶面产生衍射与否、衍射强弱,使透射束强度不一,而在荧光屏上形成衍射衬度。,8,衍射衬度成像原理(2),以单相多晶体薄膜样品为例。设: 薄晶内两晶粒 A 和 B,其唯一差别在于晶体学位向不同。,衍衬成像原理,A 晶粒:所有晶面的取向均与布拉格条件存在较大偏差,不出现任何强衍射斑点,而只有中心透射斑点, B晶粒:只有

4、某(hkl)晶面位向精确满足B角,衍射强度Ihkl高, 即B晶粒位向满足“双光束条件” 则B晶粒:透射束强度 IB。,9,衍射衬度成像原理(5),在TEM的物镜背焦面上,加进一个小尺寸的物镜光阑。,物镜光阑作用: 把 B晶粒(h k l)衍射束挡掉,而只让透射束(000)通过光阑孔成像,即成一幅放大像。 图像衬度: A晶粒较亮B晶粒较暗、。 B晶粒像衬度:(以IA为背景),10,衍射衬度成像原理(6),衍射衬度:由于样品中不同位向晶体的衍射条件位向不同而造成的衬度差别叫“衍射衬度”。,图11-3 衍衬成像原理明场像,透射束,衍射束,1、明场像(BF): 让透射束(000)通过物镜光阑,而把衍射

5、束(hkl)挡掉得到图像衬度的方法,称明场成像。所得到的像叫明场像。,11,衍射衬度成像原理(7),衍射束,透射束,因此为以离轴光线成像,故图像质量不高,有严重像差。 故常以另一方式产生暗场像: 中心暗场(CDF)成像法 。,2、暗场(DF)像:移动物镜光阑位置,使光阑孔套住(hkl)斑点,只让衍射束 Ihkl 通过成像,而把透射束(000)挡掉,所成的衍衬图像即为暗场(DF)像。,12,衍射衬度成像原理(8),透射束,衍射束,衍射束,A晶粒: IA0, 像较暗; B晶粒:IBIhkl;像较亮; 图像衬度恰好与明场像相反。,3. 中心暗场(CDF)成像方法: 把入射束倾斜2角度,使B晶粒(hk

6、l)晶面组处于强烈衍射位向,而物镜光阑仍在光轴上,仅B晶粒的衍射束通过光阑孔,而透射束(000)被挡掉。,13,明场像和暗场像,明场像 暗场像,14,15,明、暗场像实例,图a、c钢中奥氏体在011晶带轴下的电子衍射花样; 图b光阑直接套住透射斑成像明场像, 图d不倾转光路,直接用光阑套住衍射花样中的一个200衍射斑成像普通暗场像。,暗场像:与衍射花样对应的晶粒是变亮的部分。 其中两晶粒同时变亮,表明位向比较接近。 注意:在明、暗场像操作时,若无特意倾转样品到双光束条件,则其明、暗场像的衬度并不完全互补。,16,铝合金中位错分布形态的衍衬像(明场像、暗场像),17,衍射衬度成像原理(9),上述

7、说明: 1. 晶体衍衬成像:起决定作用的是晶体对电子的衍射; 即某一符合衍射条件的(hkl)晶面组强烈衍射起关键作用,决定了图像衬度。 2. 暗场下像点亮度:为样品上相应物点在某方向上衍射强度。 3. 暗场像衬度与明场像互补,且暗场像衬度高于明场像。 在金属薄膜分析中,暗场成像是一种十分有用的技术。 4. 衍衬图像:反映衍射强度的差别,故必反映样品内不同部位晶体学特征。,18,衍射衬度成像原理(10),薄晶衍射衬度成像,电镜须具备的基本操作条件: 1. 须有一个孔径足够小物镜光阑(2030m)。 2. 样品台须在适当角度范围内任意倾斜:以便利用晶体位向的变化选择适于成像的入射条件(双光束条件可

8、获好衬度)。 3. 应有选区衍射装置:以便随时观察和记录衍射花样,选择用以成像的衍射束(透射束)。 4. 须有可倾斜照明系统,目前采用电磁偏转系统来实现。,19,第四节 消 光 距 离,20,X射线衍射与电子衍射比较,X射线衍射:衍射强度较弱。 由晶体内原子核外电子(内层)对X射线弹性相干散射的结果。因散射强度与散射粒子质量m平方成反比。 电子衍射:衍射强度大,与透射束相当。 由晶体内原子(原子核)对入射电子波弹性相干散射结果。 故电子衍射很强,远大于对X射线衍射(约为104倍)。 故应考虑: 衍射束与透射束间的相互作用关系,即动力学关系。,21,消光距离(1),晶体中透射波和衍射波间相互作用

9、。,在双光束条件下,晶体某(hkl)晶面处于衍射位向,入射波只激发成透射波和(hkl)晶面衍射波。 入射波矢量为k、衍射波矢量为k。,近表面:参与散射原子数量少,衍射强度很小;即OA阶段. 随向晶体内深度传播, 透射波强度 ,衍射波的强度 。,22,消光距离(2),A位置:电子波到一定深度,有足够的原子参与散射, 透射强度(波振幅o)为零,衍射(波振幅g)最大。,衍射波,透射波,电子波在晶体内深度方向上的传播,振幅变化,强度变化,23,消光距离(3),3. A位置后,因衍射波与该晶面成布拉格角 ,将作为新入射波激发同一晶面二次衍射,其方向恰与透射波方向相同。,衍射波,透射波,振幅变化,强度变化

10、,电子波在晶体内深度方向上的传播,24,消光距离(4),4. AB阶段:能量转移过程与OA阶段的相反方式被重复。 透射波强度 Io ,衍射波强度 Ig 。 B点:Ig 0(消光)。,衍射波,透射波,振幅变化,强度变化,电子波在晶体内深度方向上的传播,25,消光距离(4),6. 消光距离:记作g, 透射波与衍射波强烈动力学相互作用结果,使强度 I o 和 I g 在晶体深度方向发生周期性振荡。 振荡深度周期叫做消光距离g;,所谓“消光”: 指尽管满足衍射条件,但因动力学互相作用而在晶体内一定深处,衍射波 的强度实际为零的现象。,26,消光距离(5),理论推导结果表明:消光距离,记作g :,d晶面

11、间距;,n原子面上单位面积内所含晶胞数。 1/n 就是一个晶胞所占有的面积,,布拉格角;,Fg结构因子。,晶胞的体积Vc,27,几种晶体的消光距离, 同一晶体,不同晶面的衍射波被激发时,有不同g值。,几种晶体的消光距离gnm值 -加速电压为100 KV,28,消光距离随加速电压的变化, 对确定入射电子波长(或加速电压),消光距离是晶体样品的一种物理属性。,消光距离随加速电压的变化,29,第五节 衍衬运动学简介,30,衍衬运动学简介,衬度:指像平面上各像点强度(亮度)差别。 TEM中衍射衬度图像: 入射电子束透过薄晶样后,样品内各部位透射电子束(衍射束)强度差别在像平面上的反映。,31,衍射衬度

12、图像的解释: 需考虑晶体的成分、结构、厚度、位向、相组成及缺陷等。对衍射强度的影响,即“衍射衬度理论”的任务。,32,衍衬运动学简介,衍衬理论所要处理的问题: 分析入射电子波在晶体内受散射过程, 计算样品底面对应于各物点处的透射束和衍射束的波振幅、强度分布, 这即求出了衍衬图像的衬度分布。 揭示晶体中某一特定结构细节的图像衬度特征; 反过来,把实际观察到的衍衬图像与一定的结构特征联系起来,加以分析和判断。,33,衍衬运动学简介,薄晶电子衍射衬度图像解释: 按是否考虑晶体内透射束及衍射束间的相互作用可分为: 衍衬运动学和衍衬动力学理论。, 衍衬运动学理论: 不考虑透射波与衍射波间的相互作用。 认

13、为:电子束进入样品后,随深度增大,透射束不断减弱,而衍射束不断加强。它是一种相当近似的理论。 衍衬运动学理论: 简单明了,物理模型直观。 可定性解释 TEM 中大多数衍衬现象及衍衬图像的形成原因。,34,衍衬运动学简介, 衍衬动力学理论: 考虑透射波与衍射波间的相互作用。 认为:随电子束深入,透射束和衍射束强度是交替变化的。,因衍射束易发生再次衍射(动力学衍射), 使得衍射束强度分析和计算较复杂。 电子衍射强度不能用于结构分析。 衍衬动力学理论: 可较严密分析与计算电子衍射束强度,比运动学理论能更准确地解释薄晶衍衬效应。 但其数学推导繁琐,物理模型抽象。,35,一、衍衬运动学理论的基本假设,3

14、6,一、衍衬运动学理论的基本假设(1),一、运动学理论有两个基本假设及实现的途径: 不考虑衍射束和入射束间相互作用:(两者间无能量交换) 当衍射束强度入射束强度时,此条件可满足。 实现途径: 使晶体处较大偏离B位向(S大),以避免产生强衍射。 入射电子在样品内只可能受到不多于一次的散射: 即不考虑电子束通过晶体样品时引起的多次反射和吸收。 实现途径: 晶体样品要足够薄,以减少电子受多次散射和吸收。,37,一、衍衬运动学理论的基本假设(2),要满足这两个基本假设: 不考虑衍射束和入射束间相互作用。 入射电子在样品内只可能受到不多于一次的散射。 实际上是有困难。其原因: 1. 原子对电子的散射很强

15、烈,散射波不会很弱; 2. 晶体较大偏离B位向(S大),虽衍射束较弱,对应倒易点偏离爱瓦尔德球面,但附近另一些倒易点又将靠近球面。 3. 样品越薄、其倒易杆拉长,更易产生强烈衍射。,38,一、衍衬运动学理论的基本假设(3),满足两个基本假设后,为简化计算,采用两近似处理方法: 近似双光束条件: 双光束条件:电子束透过薄晶后,只存在透射束和一束较强衍射束,其它衍射束较大偏离B ,其强度可视为零。,近似处理: 此较强衍射束的晶面位向接近B ,但不是精确满足B 。 (有一偏离矢量S)。,39,一、衍衬运动学理论的基本假设(3),此近似假设目的有二: 1. 存在一个偏离矢量 S :虽存在一较强衍射束,

16、但其衍射束强度远比透射束弱,以保证它们之间无能量交换。,2. 双光束条件: 因只有一束衍射束,则衍射束强度 I g 和透射束强度 IT 有互补关系,即 I 0I g + I T1, 因此只要计算出衍射束强度I g ,就可知道透射束强度I T 。,40,一、衍衬运动学理论的基本假设(4), 柱体近似:为计算薄晶下表面衍射波强度, 可将薄晶样分割成一个个贯穿上、下表面、与一个晶胞尺度相当的小晶柱体(最小成像单元)。并假设透射束和衍射束都在此小晶柱内通过,且相邻晶柱内的衍射波不相干扰。,柱体近似,如晶柱:、 , 其底部的衍射强度: Ig1、Ig2、Ig3 若三个晶柱内晶体构造 有差别,三点的强度 就不同,则就有衬度。,41,二、理想(完整)晶体的衍射强度,42,二、理想(完整)晶体的衍射强度(1),1、柱体下表面衍射波振幅: 在 t 厚度薄晶内取一小晶柱,入射电子波通过厚度元 d z (距上表面为 z 、位矢 r), 按费涅尔衍射原理,在某

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