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1、一、公司规章制度和概况,1 公司规章制度 公司规章制度包括：用工制度、薪酬、工作制度、加班、请假、法定节假、病假、事假、婚丧假和产假、探亲假、干休假、社会保险及福利、抚恤金、奖励、纪律处分、矿工、迟到和早退、工作鉴定、守则、员工证、安全防护用品、更衣室、员工出入工厂规定、参观工厂规定、自行车和摩托车停放规定、卫生制度、员工业余学习和脱产学习规定、门卫制度、电脑、传真机和复印机等设备的使用规定、电话使用规定、使用车辆的有关规定、南玻公司单身宿舍管理规定、安全措施等。详细条款及其解释请参见中国南玻集团股份有限公司员工手册。,2 南玻集团 精细玻璃事业部,3 深圳伟光导电膜有限公司 深圳南方超薄浮法
2、玻璃有限公司导电玻璃厂 从92 年开始，南玻集团透过其下属公司先后引进了日本和德国的大型磁控溅射镀膜生产线，生产液晶显示器用的透明导电膜玻璃。投资伊始，一批在真空镀膜领域有多年从业经验的专业人员，开始了又一轮向更高技术和更高质量的不懈追求。 秉承南玻集团一贯的经营理念，对生 产设备、生产环境和产品及服务质量的 严谨控制和精益求精度，使得南玻集团的 透明导电膜玻璃自投产以来，广获佳誉， 深受用户信赖，同时生产规模不断扩大。 98年产量将逾100万平方米，已成为东南 业地区最大的透明导电膜玻璃供应商之一。,产品类型 ITO导电玻璃的主要特点是透明度高、膜层导电性好、热稳定性、图形加工性。 TN型I
3、TO玻璃： 基片厚度：0.4mm, 0.55mm, 0.7mm, 1.1mm. ITO厚度：12nm, 15nm, 20nm, 25nm, 30nm, 35nm, 40nm, 45nm, 50nm, 70nm, 125nm, 150nm, 200nm. STN型ITO玻璃： 基片厚度：0.4mm, 0.55mm, 0.7mm, 1.1mm. ITO厚度：12nm, 15nm, 20nm, 25nm, 30nm, 35nm, 40nm, 45nm, 50nm, 70nm, 125nm, 150nm, 200nm. 触膜屏ITO玻璃： ITO膜厚12nm, 基片厚度1.1-2mm. 扫描仪玻璃 ：
4、 3mm厚,4 应用领域和上、下游产业,在显示器领域，据预测，下一世纪平板显示器的市场将超过传统的阴极射线管，进入所谓的平板显示时代。目前，日常生活中所接触到的平板显示器件应用主要有各种电子产品上的液晶显示器、笔记本电脑、可视电话、数码相机、壁挂电视等。这些种类繁多的平板显示器件的制造所需要的基本材料之中，透明导电玻璃是最主要的材料。目前，公司产品主要应用于TN型、STN型液晶显示器件的透明电极和触摸屏的导电层。触摸屏从技术原理上可分五类：电阻技术触摸屏、电容技术触摸屏、表面声波技术触摸屏、红外线扫描技术触摸屏、矢量压力传感技术触摸屏。我们的触摸屏客户主要生产四线电阻和五线电阻触摸屏。 上游材
5、料超薄浮法玻璃主要从板硝子、皮尔金顿、旭硝子、格拉威宝、中央硝子等厂商购买；ITO靶材选用LH-ITO和JE-ITO。,5 镀膜生产线的功能 生产线设备主要由玻璃清洗机、超净百级室和连续溅射镀膜系统组成。玻璃清洗机只是用于玻璃基片的清洗，使玻璃表面清洁以便镀膜。连续溅射系统是生产线的核心设备，连续溅射镀膜系统是一个庞大的真空系统，以德国莱宝-巴尔萨斯工艺系统的Aristo 800镀膜系统为例，其主要由以下部分组成： 1 装卸片台 2 进口室 3 缓冲室 4 高频溅射室 5 直流溅射室 6 缓冲室 7 出口室 8 回框线 装卸片台：清洗好的玻璃基片在此装上框架小车，以便输送进真空室镀膜；镀好的成
6、品在此下车，送在线检测。 进口室（出口室）：实现大气状态和真空状态的转换。 缓冲室：为进口室（出口室）快速破坏真空创造条件，还能避免来自进口室（出口室）频频破坏真空对溅射室的冲击。 高频溅射室 ：高频溅射SiO2阻挡膜层。 直流溅射室：溅射ITO膜层。 回框线：装有镀膜成品的小车从出口室出来，通过回框线返回装卸片台。,切磨加工线功能 把大片玻璃按规定要求切割、清洗、倒直角边或圆边处理。其中2mm-5mm倒角为辨认角，用于标识浮法流向和抛光-镀膜面。在线检查和复检保证原片质量。 抛光线功能 南玻公司从几个供货商处采购玻璃原片，并按玻璃供应商的标准检验。对从切磨加工线送来的合格样片进行抛光和筛选，
7、使其平整度和表面质量达到STN型LCD的要求。,ITO基本知识,在显示器领域，平扳显示器件Flat Panel Display(FPD)的市场将很快超过传统的阴极射线管(CRT)显示器，进入 “平板显示时代”。目前，日常生产活中所接触到的平板显示器件应用主要有各种电子产品上的液晶显示器（LCD），笔记本电脑，可视电话，数码相机，壁挂电视等，这些种类繁多的平板显示器件的制造所需要的基本材料之中，透明导电玻璃是主要的材料之一。 所谓透明导电玻璃，是在厚度为0.4-1.1mm的平板玻璃的表面镀一层透明导电膜，通常透明导电膜的材料是掺氧化铟锡(ITO)， 一种n型半导体，故透明导电玻璃通常也称为ITO
8、玻璃。这种ITO膜具有透光性好，面电阻低的特点，其电阻率一般在3x10-14/cm左右，已接近金属的电阻率，是制造平板显示器件的理想材料。,ITO镀膜线,工业上，大批量的透明导电膜玻璃的制造技术都是采用溅射成膜技术。生产线设备主要由玻璃清洗机、超净百级室和连续溅射镀膜系统组成，其中连续溅射系统是生产线的核心设备。玻璃清洗机则用于玻璃基片的清洗，使玻璃表面清洁以便镀膜。 连续溅射镀膜系统是一个庞大的真空系统，以德国莱宝-巴尔萨斯工艺系统(Balzers Process System)的Aristo 800镀膜系统为例，其主要由以下部分组成： 1装卸片台 2进口室 3加热室 4高频溅射室 5直流溅
9、射室 6冷却室 7出口室 8回框线,ITO镀膜线说明,1.装卸片台(Mod1-2) 清洗好的玻璃基片在此装上框架上车，以便输送进真空室镀膜。镀膜好的成品也在此从框架小车上卸下，以送在线质检员检验。 2.进口室(Mod3) 用于实现大气状态和真空状态的转换，装好玻璃基片的框架小车由装卸片台进入进口室，并在此抽真空，真空度为粗真空，约10-2 mbar数量级。 3.加热室(Mod4) 当进口室抽到预定的真空度以后，框架小车从进口室进入到加热室，玻璃基片在此预加热到200左右，并去除水分和部分杂质气体。 4.高频溅射室(Mod5-8) 玻璃基片进入到高频溅射室后，继续得到加热，在200250左右开始
10、进行高频溅射镀膜，此时在玻璃基片上镀上一层二氧化硅(SiO2),约200埃左右的厚度。靶材安装在Mod6和Mod7。 5. Mod9 过渡加热室。 6.直流溅射室(Mod10-12) 镀制好SiO2膜的玻璃基片经过一段过渡区域，在此区域，玻璃基片进一步得到加热，基片温度上升到320380左右，然后进入到有八个铟锡合金靶的直流磁控溅射室，每一个靶上加上300400V左右的直流电源，靶为阴极，直流溅射室充入一定的氩气和少量的氧气，氩气和氧气的纯度,ITO镀膜线说明(续),为99.99%，溅射本底真空度不低于5.010-3 mbar，在电场力和磁场力的作用下，阴极靶材表面产生辉光放电并受到正离子的轰
11、击而产生溅射，溅射出来的原子态铟锡与溅射室中氧发生反应，最后沉积在玻璃基片上形成氧化铟锡(ITO)薄膜，其膜层厚度通过控制直流电源的输出功率来控制，通常ITO膜的厚度为2002000埃。 7.冷却室(Mod13-14) 由于玻璃基片的温度很高，需要缓慢的冷却，以消除其应力，避免玻璃脆裂，冷却方式为水冷。 8.出口室(Mod15) 冷却好的玻璃基片在出口室中完成从真空状态到大气状态的转换。 9.回框线 装有镀膜成品的框架小车从出口室出来后，通过回框线返回装卸片台，供操作工人卸下镀膜好的玻璃基片，玻璃基片的连续溅射镀膜生产至此完成结束。,镀膜线示意图,溅射原理图,冷却系统,Ar,辉光放电区,基板,
12、暗区,真空室,基片装卸机械,靶材,铜背板,溅射镀膜原理,ITO镀膜采用的是溅射反应镀膜工艺。要想把ITO靶材溅射出来，必须有“炮弹”去轰击ITO靶面才行，但这种“炮弹”只能起轰击作用，而不能跟ITO靶和金属反应，这只能选择惰性气体，所以称惰性气体为工作气体，而氩气是比较经济的惰性气体，因此ITO镀膜要加氩气。 ITO膜为氧化铟锡膜，镀膜过程需发生氧化反应，所以称氧气为反应气体。虽然ITO靶本身含有氧，但在ITO靶的溅射过程中，有部分溅射出氧会被抽走，需要补充氧气，因此ITO镀膜要加氧气。 ITO靶材背面要加磁铁形成平行于ITO靶面的磁场，加热器挡板接DC电源正极，ITO靶接DC电源的负极，形成
13、垂直ITO靶面的电场。先抽真空和加热后，放装有玻璃的小车循环，送适当的氧气和氩气到ITO靶区，再开DC电源，则真空中原有的电子在电场和磁场的共同作用下作螺旋状的加速运动，能量不断增加，能量较高的电子与氩原子碰撞后，将其电离成氩离子(Ar+)和电子，当然也有部分Ar+与电子又会复合成氩原子，未被复合的氩离子(Ar+)被电场加速后象“炮弹”似地轰击ITO靶面，使ITO靶材被溅射出来，同时产生二次电子，使放电得以维持。能量较高的电子与氧气碰撞后，将氧分子分解成两个氧原子，这两个氧原子很快捕获电子变成氧离子(O-2)，当然也有部分氧原子又会合成氧分子，而未被复合的氧离子在电场作用下会向玻璃运动与ITO
14、靶材溅射出的粒子反应生成ITO膜。,2000A厚的ITO膜表面结构,磁控溅射,为什么要用磁控溅射,没有磁场时, 电子沿直线运动, 只有少部分电子使Ar原子电离, 大部分电直接到达阳极. 加入磁场后, 电子呈螺旋状前进, 增加其到达阳极所走的路程, 从而提高电子撞击Ar原子的几率, 产生更多的Ar离子, 同时磁场可以使等离子体向靶材表面靠近, 这样可以增加电流, 降低电压, 提高溅射速率, 从而可以高速成膜.,ITO玻璃,ITO玻璃的结构,为什么要镀SiO2,一般LCD用玻璃基片为钙钠浮法玻璃, 其内部了钠离子容易析出并穿过ITO膜层进入液晶层. 由于液晶是一种高电阻率的有机材料, 而钠离子会对
15、液晶分子造成破坏, 从而影响显示效果, 因此要在基板表面镀一层致密的SiO2层阻止钠离子析出.,液晶显示器的结构原理图,ITO膜层参数及影响因素,镀膜工艺的三大参数: 1. 膜厚 2. 面电阻率 3. 透过率 膜厚 在小车运行速度相同的情况下，ITO膜厚近似与DC电源功率成正比，因此调整ITO膜厚只按正比例关系改变DC电源功率。 Ar气量也有一定影响, 气量太高则分子密度大, 分子(离子)间的碰撞多, 降低了Ar离子的速率, 从而减小溅射速率. 另一方面, 气量太低则产生的Ar离子数量少, 也会减小溅射速率. 因此应将Ar量调节到一个最佳值, 使得溅射效率最高. 小车的运行速度超快, 也就是生
16、产节拍超快, 则镀膜的时间超短, 膜层也就超薄. 面电阻率 ITO膜厚增加时, 电阻会降低, 但膜厚达到4000埃后, 电阻下降就不明显了. O2含量的影响. 氧含量太低则氧化不足, 使表面电阻率偏高, 氧含太高则吸收电子多, 使Ar离子数减少, 从而减小溅射速率, 同样使表面电阻率偏高. 同时氧含量也会对膜层晶格结构造成影响, 从而影响面电阻率.,氧量 0,ITO膜层表面结构与氧量的关系(1),氧量高则载流子移动速度增加但浓度减小, 反之氧量低则载流子移动速度减小但浓度增加, 因此要设定一个最适合的氧量.,ITO膜层表面结构与氧量的关系(2),加热系统,ITO膜为氧化铟锡膜，主要成分为氧化铟，少量的锡是作为杂质掺入的，铟的氧化和锡的掺入均需在一定温度下进行，加热既有利于铟的氧化以获得较高的透过率，又利于锡的掺杂以获得较低的电阻，因此ITO镀膜要加热。 成膜温度高则ITO
